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G03F 1/00
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Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation |
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G03F 1/02
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par procédés photographiques pour la production d'originaux simulant le relief |
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G03F 1/04
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par procédés de montage |
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G03F 1/06
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à partir de surfaces d'impression |
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G03F 1/08
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Originaux utilisant des couches inorganiques formant l'image, p.ex. masques au chrome (G03F 1/12 a priorité);; |
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G03F 1/10
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par exposition et dépouillement de couches organiques colorées ou contenant des pigments; par coloration de patrons macromoléculaires |
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G03F 1/12
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par exposition de matériaux photosensibles aux halogénures d'argent ou de matériaux photosensibles diazotypiques |
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G03F 1/14
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Originaux caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches de recouvrement, anneaux pelliculaires |
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G03F 1/16
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Originaux à ouvertures, p.ex. pour lithographie corpusculaire |
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G03F 1/20
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Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam], p.ex. par faisceau d'électrons; Leur préparation |
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G03F 1/22
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Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation |
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G03F 1/24
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Masques en réflexion; Leur préparation |
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G03F 1/26
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Masques à décalage de phase [PSM phase shift mask]; Substrats pour PSM; Leur préparation |
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G03F 1/28
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Masques à décalage de phase [PSM phase shift mask]; Substrats pour PSM; Leur préparation avec trois phases différentes ou plus sur le même PSM; Leur préparation |
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G03F 1/29
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PSM à rebord ou PSM en surplomb; Leur préparation |
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G03F 1/30
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PSM alternés, p.ex. PSM de Levenson-Shibuya; Leur préparation |
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G03F 1/32
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PSM atténués [att-PSM], p.ex. PSM ayant une partie à décalage de phase semi-transparente, PSM en demi-ton; Leur préparation |
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G03F 1/34
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PSM à bord de phase, p.ex. PSM sans chrome; Leur préparation |
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G03F 1/36
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Masques à correction d'effets de proximité; Leur préparation, p.ex. procédés de conception à correction d'effets de proximité [OPC optical proximity correction] |
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G03F 1/38
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Masques à caractéristiques supplémentaires, p.ex. marquages pour l'alignement ou les tests, ou couches particulières; Leur préparation |
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G03F 1/40
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Aspects liés à la décharge électrostatique [ESD Electrostatic Discharge], p.ex. revêtements antistatiques ou présence d'une couche métallique conductrice sur la périphérie du substrat du masque |
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G03F 1/42
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Aspects liés à l'alignement ou au cadrage, p.ex. marquages d'alignement sur le substrat du masque |
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G03F 1/44
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Aspects liés au test ou à la mesure, p.ex. motifs de grille, contrôleurs de focus, échelles en dents de scie ou échelles à encoches |
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G03F 1/46
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Couches antiréfléchissantes |
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G03F 1/48
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Couches protectrices |
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G03F 1/50
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Masques vierges non couverts par les groupes ; Leur préparation |
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G03F 1/52
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Réflecteurs |
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G03F 1/54
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Absorbeurs, p.ex. en matériau opaque |
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G03F 1/56
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Absorbeurs organiques, p.ex. en photorésist |
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G03F 1/58
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Absorbeurs, p.ex. en matériau opaque avec plusieurs couches diverses d'absorbeur, p.ex. absorbeur en empilement multicouche |
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G03F 1/60
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Substrats |
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G03F 1/62
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Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation |
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G03F 1/64
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Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation caractérisés par les cadres, p.ex. du point de vue de leur structure ou de leur matériau |
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G03F 1/66
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Réceptacles spécialement adaptés aux masques, aux masques vierges ou aux pellicules; Leur préparation |
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G03F 1/68
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Procédés de préparation non couverts par les groupes |
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G03F 1/70
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Adaptation du tracé ou de la conception de base du masque aux exigences du procédé lithographique, p.ex. correction par deuxième itération d'un motif de masque pour l'imagerie |
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G03F 1/72
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Réparation ou correction des défauts dans un masque |
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G03F 1/74
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Réparation ou correction des défauts dans un masque par un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam], p.ex. réparation ou correction de défauts par un faisceau d'ions focalisé |
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G03F 1/76
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Création des motifs d'un masque par imagerie |
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G03F 1/78
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Création des motifs d'un masque par imagerie par un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam], p.ex. création des motifs d'un masque par un faisceau d'électrons |
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G03F 1/80
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Attaque chimique |
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G03F 1/82
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Procédés auxiliaires, p.ex. nettoyage ou inspection |
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G03F 1/84
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Inspection |
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G03F 1/86
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Inspection au moyen d'un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam] |
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G03F 1/88
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Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation préparés par des procédés photographiques pour la production d'originaux simulant le relief |
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G03F 1/90
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Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation préparés par des procédés de montage |
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G03F 1/92
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Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation préparés à partir de surfaces d'impression |
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G03F 3/00
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Séparation des couleurs; Correction des tons |
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G03F 3/02
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Séparation des couleurs; Correction des tons par retouches |
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G03F 3/04
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Séparation des couleurs; Correction des tons par des moyens photographiques |
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G03F 3/06
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Séparation des couleurs; Correction des tons par des moyens photographiques par masquage |
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G03F 3/08
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Séparation des couleurs; Correction des tons par des moyens photo-électriques |
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G03F 3/10
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Vérification des couleurs ou des tons de négatifs ou positifs de sélection |
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G03F 5/00
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Procédés à la trame; Trames à cet effet |
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G03F 5/02
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes de projection |
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G03F 5/04
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes de projection en changeant l'effet de la trame |
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G03F 5/06
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes de projection en changeant l'effet du diaphragme |
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G03F 5/08
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes de projection en utilisant des trames linéaires |
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G03F 5/10
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes de projection en utilisant des trames à lignes croisées |
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G03F 5/12
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes de projection en utilisant d'autres trames, p.ex. trame granulée |
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G03F 5/14
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes par contact |
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G03F 5/16
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes par contact en utilisant des trames à demi-teinte grises |
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G03F 5/18
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par des méthodes par contact en utilisant des trames à demi-teinte colorées |
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G03F 5/20
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Procédés à la trame; Trames à cet effet en utilisant des trames pour l'impression à la gravure |
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G03F 5/22
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Procédés à la trame; Trames à cet effet en combinant plusieurs trames; Elimination du moiré |
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G03F 5/24
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Procédés à la trame; Trames à cet effet par expositions multiples, p.ex. procédés combinés de photographie au trait et tramé |
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G03F 7/00
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet |
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G03F 7/04
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Chromates |
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G03F 7/06
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Sels d'argent |
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G03F 7/07
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Sels d'argent pour diffusion par transfert |
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G03F 7/008
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Azides |
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G03F 7/09
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Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires |
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G03F 7/11
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Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage |
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G03F 7/12
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Production de formes d'impression pour sérigraphie ou de formes d'impression similaires, p.ex. stencils |
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G03F 7/14
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Production de formes d'impression pour collotypie |
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G03F 7/16
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Procédés de couchage; Appareillages à cet effet |
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G03F 7/18
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Couchage des surfaces incurvées |
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G03F 7/20
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Exposition; Appareillages à cet effet |
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G03F 7/021
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Composés de diazonium macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants |
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G03F 7/22
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Exposition successive avec le même motif lumineux de différentes zones de la même surface |
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G03F 7/23
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Dispositifs automatiques à cet effet |
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G03F 7/24
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Surfaces incurvées |
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G03F 7/025
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Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des triples liaisons carbone-carbone, p.ex. composés acétyléniques |
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G03F 7/26
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Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet |
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G03F 7/027
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Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques |
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G03F 7/28
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Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet pour obtenir des images par poudrage |
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G03F 7/029
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Composés inorganiques; Composés d'onium; Composés organiques contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène, l'azote ou le soufre |
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G03F 7/30
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Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides |
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G03F 7/031
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Composés organiques non couverts par le groupe |
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G03F 7/32
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Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs |
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G03F 7/033
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Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p.ex. polymères vinyliques |
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G03F 7/34
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Dépouillement selon l'image par transfert sélectif, p.ex. par arrachement |
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G03F 7/035
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Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyuréthanes |
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G03F 7/36
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Dépouillement selon l'image non couvert par les groupes , p.ex. utilisant un courant gazeux, un plasma |
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G03F 7/037
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Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyamides ou des polyimides |
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G03F 7/38
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Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage |
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G03F 7/039
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Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons |
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G03F 7/40
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Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage |
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G03F 7/42
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Elimination des réserves ou agents à cet effet |
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G03F 7/075
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Composés contenant du silicium |
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G03F 7/085
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Compositions photosensibles caractérisées par les additifs non macromoléculaires augmentant l'adhérence |
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G03F 7/095
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Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires ayant plus d'une couche photosensible |
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G03F 7/105
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Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p.ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles |
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G03F 7/115
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Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des supports ou couches ayant des moyens pour obtenir un effet de réseau ou pour augmenter le contact dans le tirage sous vide |
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G03F 7/207
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Dispositifs de mise au point, p.ex. automatique |
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G03F 7/213
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Exposition simultanée avec le même motif lumineux de différentes zones de la même surface |
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G03F 9/00
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Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique |
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G03F 9/02
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Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique combinés avec des moyens de mise au point automatique |