- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliques; revêtement de matériaux avec des matériaux métalliques; traitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitution; revêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/50 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques
Détention brevets de la classe C23C 16/50
Brevets de cette classe: 2007
Historique des publications depuis 10 ans
103
|
229
|
248
|
256
|
252
|
189
|
207
|
176
|
196
|
134
|
2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
---|---|---|
Applied Materials, Inc. | 16117 |
324 |
Lam Research Corporation | 4662 |
182 |
Tokyo Electron Limited | 11305 |
147 |
ASM IP Holding B.V. | 1609 |
69 |
Kokusai Electric Corporation | 1721 |
63 |
Versum Materials US, LLC | 581 |
42 |
Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | 139 |
39 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 34962 |
34 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 127295 |
28 |
Samsung Display Co., Ltd. | 29420 |
26 |
Sio2 Medical Products, Inc. | 188 |
22 |
Novellus Systems, Inc. | 589 |
18 |
Konica Minolta, Inc. | 8250 |
17 |
L'Air Liquide, Societe Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procedes Georges Claude | 3468 |
15 |
Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | 1303 |
13 |
AGC Glass Europe | 1024 |
13 |
Jusung Engineering Co., Ltd. | 340 |
13 |
FUJIFILM Corporation | 26437 |
12 |
Kioxia Corporation | 9598 |
11 |
Dnf Co.,Ltd. | 62 |
10 |
Autres propriétaires | 909 |