- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/20
Brevets de cette classe: 21003
Historique des publications depuis 10 ans
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1544
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1684
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1811
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1995
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2156
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1991
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1656
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1695
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1470
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644
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| 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 6969 |
3920 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2710 |
1728 |
| Nikon Corporation | 7134 |
1223 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 37421 |
1060 |
| FUJIFILM Corporation | 27430 |
987 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5262 |
472 |
| Applied Materials, Inc. | 17120 |
397 |
| Canon Inc. | 37031 |
377 |
| KLA-Tencor Corporation | 2560 |
349 |
| ASML Holding N.V. | 525 |
348 |
| JSR Corporation | 2480 |
345 |
| Gigaphoton Inc. | 1154 |
336 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 135249 |
317 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1499 |
307 |
| Tokyo Electron Limited | 11839 |
291 |
| Carl Zeiss SMT AG | 269 |
234 |
| KLA Corporation | 1311 |
205 |
| Nissan Chemical Corporation | 1796 |
153 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 37070 |
151 |
| International Business Machines Corporation | 59149 |
129 |
| Autres propriétaires | 7674 |