- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/20
Brevets de cette classe: 21277
Historique des publications depuis 10 ans
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1302
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1544
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1684
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1812
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1994
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2157
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1994
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1703
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1807
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1485
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| 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 6663 |
3992 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2548 |
1742 |
| Nikon Corporation | 7266 |
1316 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 35367 |
1118 |
| FUJIFILM Corporation | 26457 |
942 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5021 |
451 |
| Canon Inc. | 36686 |
401 |
| Applied Materials, Inc. | 16153 |
371 |
| ASML Holding N.V. | 554 |
365 |
| KLA-Tencor Corporation | 2578 |
356 |
| Gigaphoton Inc. | 1087 |
329 |
| JSR Corporation | 2492 |
322 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 127467 |
315 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1474 |
291 |
| Carl Zeiss SMT AG | 328 |
286 |
| Tokyo Electron Limited | 11317 |
277 |
| KLA Corporation | 1139 |
192 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 34266 |
164 |
| International Business Machines Corporation | 61966 |
134 |
| Nissan Chemical Corporation | 1665 |
133 |
| Autres propriétaires | 7780 |