According to an embodiment, a semiconductor memory device includes a semiconductor substrate, a control circuit arranged on the semiconductor substrate, and a memory cell array arranged above the control circuit. The memory cell array includes a plurality of three-dimensionally-arranged memory cells, and is controlled by the control circuit. A first nitride layer is arranged between the control circuit and the memory cell array, and a second nitride layer is arranged between the control circuit and the first nitride layer.
H10B 43/50 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région limite entre la région noyau et la région de circuit périphérique
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
2.
METHOD OF CONTROLLING NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY
According to one embodiment, a memory system includes a non-volatile semiconductor memory, a block management unit, and a transcription unit. The semiconductor memory includes a plurality of blocks to which data can be written in both the first mode and the second mode. The block management unit manages a block that stores therein no valid data as a free block. When the number of free blocks managed by the block management unit is smaller than or equal to a predetermined threshold value, the transcription unit selects one or more used blocks that stores therein valid data as transcription source blocks and transcribes valid data stored in the transcription source blocks to free blocks in the second mode.
According to one embodiment, a memory system includes 1st-5th sub-memory regions and a controller, the controller being configured to: calculate a 1st voltage of the 1st sub-memory region in 1st processing; calculate a 2nd voltage of the 4th sub-memory region in 2nd processing; before the 1st processing, use a 3rd voltage when reading the 1st and 2nd sub-memory regions, and the 4th and the 5th sub-memory regions, and use a 4th voltage of the 3rd sub-memory region when reading the 3rd sub-memory region; use the 1st voltage when reading the 1st sub-memory region, use a 5th voltage calculated by using the 1st voltage when reading the 2nd, the 4th, and the 5th sub-memory regions, use a 6th voltage calculated by using the 2nd voltage when reading the 2nd and the 5th sub-memory regions.
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p.ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
A semiconductor device includes a conductive film containing molybdenum and a metal element. The metal element has a melting point lower than the melting point of molybdenum and forms a complete solid solution with molybdenum. The metal element as a material for composing the conductive film is at least one selected from the group consisting of, for example, titanium, vanadium, and niobium.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
According to one embodiment, a controller includes a first interface, a second interface, a virtual register table, a memory management unit and a calculation processing unit. The first interface receives an I/O command from a host. The second interface transmits and receives first host data to and from a storage. The virtual register table has a virtual address specified by a page number assigned to a page in which data to be used to process a calculation instruction is stored and a page offset, and a data size of the data. The memory management unit stores, into a memory, the copy of the first host data, and updates the virtual register table. The calculation processing unit processes the calculation instruction by referring to the virtual register table.
A memory device includes a memory which has memory areas, and a controller has a first mode and a second mode. Upon receipt of write data, the controller writes data in the memory areas while managing correspondence between logical addresses of write data and memory areas which store corresponding write data. A plurality of the memory areas constitutes a management unit. The controller in the first mode is able to write pieces of data in respective memory areas and configured to maintain data in memory areas in one management unit which contains data to be updated. The controller in the second mode writes pieces of data in respective memory areas in the ascending order of logical addresses of the pieces of data and invalidates data in memory areas in one management unit which contains updated data.
G06F 12/00 - Accès à, adressage ou affectation dans des systèmes ou des architectures de mémoires
G06F 12/02 - Adressage ou affectation; Réadressage
G06F 13/00 - Interconnexion ou transfert d'information ou d'autres signaux entre mémoires, dispositifs d'entrée/sortie ou unités de traitement
G06F 13/28 - Gestion de demandes d'interconnexion ou de transfert pour l'accès au bus d'entrée/sortie utilisant le transfert par rafale, p.ex. acces direct à la mémoire, vol de cycle
7.
SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
According to one embodiment, a semiconductor device includes a stacked film with first insulating films and electrode layers alternately stacked in a first direction. The device further includes a columnar portion extending in the first direction and provided in a first region of the stacked film. The columnar portion forms memory cells at its intersections with the electrode layers. The device further includes a support column portion provided in a second region and extending in the first direction. A conductive plug is provided on a first electrode layer among the electrode layers in the second region. A first side surface of the support column portion faces a second side surface of the plug and the second side surface is concave in a direction toward the first side surface.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
8.
MEMORY SYSTEM WITH SELECTIVE ACCESS TO FIRST AND SECOND MEMORIES
A memory system includes a nonvolatile memory having a plurality of nonvolatile memory chips incorporated therein, a control circuit that controls the nonvolatile memory, an MPU that controls the control circuit, and an interface circuit that communicates with a host, all of which are mounted on a board of the memory system, and the memory system further includes a bus switch that switches connection of a signal line between the control circuit and the nonvolatile memory chips.
A semiconductor device includes a base body, a stacked body on the base body and a first columnar part. The base body includes a substrate, a first insulating film on the substrate, a first conductive film on the first insulating film, and a first semiconductor part on the first conductive film. The stacked body includes conductive layers and insulating layers stacked alternately in a stacking direction. The first columnar part is provided inside the stacked body and the first semiconductor part. The first columnar part includes a semiconductor body and a memory film between the semiconductor body and conductive layers. The semiconductor body extends in the stacking direction. The first columnar part has a first diameter and a second diameter in a first direction crossing the stacking direction. The first diameter inside the first semiconductor part is larger than the second diameter inside the stacked body.
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/50 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région limite entre la région noyau et la région de circuit périphérique
A memory system according to an embodiment includes: a first chip including a first plane and a first input/output circuit; and a controller which is capable of issuing a command for controlling the first chip. The first plane includes: a first memory cell array having a plurality of first memory cell transistors; and a first latch circuit which is capable of storing first read data read from the first memory cell array. The first input/output circuit includes a first FIFO circuit which is capable of fetching the first read data from the first latch circuit. The controller is capable of transmitting to the first chip a first command for ordering fetching of the first read data from the first latch circuit to the first FIFO circuit during a period in which a read operation is executed on the first plane.
A memory controller includes an interface circuit and a processor. The interface circuit is connectable to a memory. The processor measures an erase time required to erase data from a memory via the interface circuit and measures a write time required to write data to the memory via the interface circuit. The processor controls a write time for a next write based on the measured erase time and measured write time.
G11C 16/16 - Circuits pour effacer électriquement, p.ex. circuits de commutation de la tension d'effacement pour effacer des blocs, p.ex. des réseaux, des mots, des groupes
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
According to one embodiment, a nonvolatile semiconductor memory includes a first electrode and a second electrode spaced from the first electrode. A memory element and a switching element are disposed between the first electrode and the second electrode. The switching element includes a tunnel insulating film enabling carrier tunneling, and the tunnel insulating film includes yttrium and oxygen and at least one of tantalum, titanium, and zirconium Ti, and Zr.
H10N 70/00 - Dispositifs à l’état solide sans barrière de potentiel ni de surface, spécialement adaptés au redressement, à l'amplification, à la production d'oscillations ou à la commutation
H10B 63/00 - Dispositifs de mémoire par changement de résistance, p.ex. dispositifs RAM résistifs [ReRAM]
H10B 63/10 - Dispositifs RAM à changement de phase [PCRAM, PRAM]
13.
SEMICONDUCTOR STORAGE DEVICE WITH TRANSISTORS OF PERIPHERAL CIRCUITS ON TWO CHIPS
A semiconductor storage device includes first and second chips. The first chip includes a first semiconductor substrate, first conductive layers arranged in a first direction and extending in a second direction, a semiconductor column extending in the first direction and facing the first conductive layers, a first charge storage film formed between the first conductive layers and the semiconductor column, a plurality of first transistors on the first semiconductor substrate, and first bonding electrodes electrically connected to a portion of the plurality of first transistors. The second chip includes a second semiconductor substrate, a plurality of second transistors on the second semiconductor substrate, and second bonding electrodes electrically connected to a portion of the plurality of second transistors, and bonded to the first bonding electrodes. A thickness of the second semiconductor substrate in the first direction is smaller than a thickness of the first semiconductor substrate in the first direction.
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 25/18 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types prévus dans plusieurs sous-groupes différents du même groupe principal des groupes , ou dans une seule sous-classe de ,
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
A semiconductor memory device includes memory finger structures and a kerf region. The memory finger structures include a first stacked body including conductive layers and semiconductor columns opposed to the conductive layers. The kerf region includes a second stacked body including layers corresponding to at least a part of the conductive layers. A first region in the kerf region is arranged in a first direction with a part of the memory finger structures and includes a part of the second stacked body. A second region in the kerf region is arranged in the first direction with another part of the memory finger structures and does not include the second stacked body. A third region in the kerf region extends in a second direction along an end portion on the memory plane region side in the first direction of the kerf region and includes another part of the second stacked body.
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
A memory device includes a memory cell connected between first and second signal lines, a first wiring connected to the first signal line, a second wiring connected to the second signal line, and a precharging circuit connected to the first wiring. During a write sequence, the precharging circuit charges the first signal line and the first wiring, the memory cell is activated according to a voltage difference between the first signal line and the second signal line, and a write current generated from parasitic capacitances of both the charged first signal line and the charged first wiring flows from the first wiring to the second wiring via the activated memory cell.
A memory system includes a nonvolatile memory including a plurality of blocks as data erase units, a measuring unit which measures an erase time at which data of each block is erased, and a block controller which writes data supplied from at least an exterior into a first block which is set in a free state and whose erase time is oldest.
A semiconductor storage device of an embodiment includes a plurality of conductive layers and a plurality of insulation layers, a first contact plug, and a second contact plug. The plurality of conductive layers and the plurality of insulation layers are alternately stacked in a first direction. The first contact plug contacts a first conductive layer included in the plurality of conductive layers and extends in the first direction. The second contact plug contacts a second conductive layer that is a conductive layer directly above the first conductive layer of the plurality of conductive layers and extends in the first direction through the first conductive layer. The second contact plug includes a second conductor layer, and an insulation layer that is provided between the second conductor layer and the first conductive layer and is configured to insulate the second conductor layer and the first conductive layer.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 25/18 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types prévus dans plusieurs sous-groupes différents du même groupe principal des groupes , ou dans une seule sous-classe de ,
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 80/00 - Ensembles de plusieurs dispositifs comprenant au moins un dispositif de mémoire couvert par la présente sous-classe
18.
INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND INFORMATION PROCESSING METHOD
An information processing apparatus that updates a regression coefficient parameter based on a predetermined objective function including a regularization term for each of a plurality of elements characterized by a task and a feature value, the information processing apparatus comprising processing circuitry. The processing circuitry selects an element which is an update target of the regression coefficient parameter from the plurality of elements, fixes a value of the regularization term of an unselected element, selects a calculation expression for updating a regression coefficient parameter of the selected element based on a regression coefficient parameter of the unselected element, and updates the regression coefficient parameter of the selected element based on the selected calculation expression.
G05B 19/042 - Commande à programme autre que la commande numérique, c.à d. dans des automatismes à séquence ou dans des automates à logique utilisant des processeurs numériques
19.
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE
According to one embodiment, a method of manufacturing a semiconductor device includes placing a first semiconductor element on a wiring board, forming a first mask having an opening on the wiring board so that the first semiconductor element is positioned in the opening, putting a liquid first resin precursor into the opening of the first mask, curing the first resin precursor to obtain a first resin layer, and then removing the first mask.
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
H01L 21/56 - Capsulations, p.ex. couches de capsulation, revêtements
H01L 23/29 - Capsulations, p.ex. couches de capsulation, revêtements caractérisées par le matériau
20.
STORAGE SYSTEM, STORAGE APPARATUS, AND STORAGE METHOD
A storage system includes a storage apparatus that includes a storage circuit storing key-value data including a key-value pair, and a controller, a host apparatus connected to the storage apparatus and a recording medium. The host apparatus transmits a first command and input data including first information to the controller. In response to the first command, the controller updates the first information to generate second information, reads the key-value data from the storage circuit, generates output data including the key-value data and the second information associated with the key-value data, and transmits the output data to the host apparatus. The host apparatus stores the output data into the recording medium.
A semiconductor memory device includes first, second, and third chips. The first chip includes a first memory cell. The second chip includes a second memory cell. The third chip includes a row decoder and a sense amplifier. The first and second memory cells are commonly connected to the row decoder via a first word line. The first and second memory cells are connected to the sense amplifier via first and second bit lines, respectively. The sense amplifier includes a first node selectively connectable to the first and second bit lines. The sense amplifier is configured to sense a voltage at the first node to read data in the first memory cell when the first node is connected to the first bit line and sense the voltage at the first node to read data in the second memory cell when the first node is connected to the second bit line.
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données
G11C 7/06 - Amplificateurs de lecture; Circuits associés
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p.ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
According to one embodiment, a memory system includes a storage unit with a plurality of pages of a plurality of nonvolatile memory cells, each page having a lower page unit and a higher page unit. A correction processing unit for correcting errors in the data stored in the storage unit on a page-by-page basis is provided. A controller is further configured to track a storage location of multi-level data in the storage unit, detect pages for which data is stored only in the lower page unit, cause the correction processing unit to generate an error correction code for the detected page units in an encoding frame, and write the error correction code to a next page unit among the plurality of pages in a set writing order after the last lower page unit in the encoding frame.
G06F 11/10 - Détection ou correction d'erreur par introduction de redondance dans la représentation des données, p.ex. en utilisant des codes de contrôle en ajoutant des chiffres binaires ou des symboles particuliers aux données exprimées suivant un code, p.ex. contrôle de parité, exclusion des 9 ou des 11
G06F 11/14 - Détection ou correction d'erreur dans les données par redondance dans les opérations, p.ex. en utilisant différentes séquences d'opérations aboutissant au même résultat
A semiconductor memory device includes: a first bit line connected to a first string including memory cell transistors; a second bit line connected to a second string including memory cell transistors; a source line connected to the first string and the second string; a word line connected to gates of the memory cell transistors in same rows of the first and strings; a voltage generation circuit configured to apply a first voltage to the first bit line according to a first target level, apply a second voltage to the second bit line according to a second target level, and apply a third voltage to the source line; and a row decoder configured to apply a fourth voltage to the word line to which a first memory cell transistor of the first string and a second memory cell transistor of the second string are connected during a verification operation.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p.ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données
24.
SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
In one embodiment, a semiconductor device includes a stacked film including a plurality of first insulators and a plurality of electrode layers that are alternately stacked in a first direction. The device includes a first plug provided on a first electrode layer among the plurality of electrode layers, and having a tube shape extending in the first direction. The device includes a second insulator provided in the first plug and the first electrode layer, and having a columnar shape extending in the first direction. Furthermore, a diameter of a side face of the first plug enclosing the second insulator is larger than a diameter of a side face of the first electrode layer enclosing the second insulator.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
25.
NON-VOLATILE STORAGE DEVICE OFFLOADING OF HOST TASKS
Various implementations relate to receiving, by a non-volatile memory device from a host, a host command include device context information of non-volatile memory devices. The device context includes an address of a buffer of each non-volatile memory device. In response to receiving the host command, portions of host data are divided among the non-volatile memory devices. The non-volatile memory device sends to the host a transfer request indicating transfer of each portion of the host data to a respective one of the non-volatile memory devices. The non-volatile memory device sends to another non-volatile memory device a peer command based on the device context information.
Various implementations relate to grouping a plurality of non-volatile memory devices into at least one first group, determining that a number of the at least one first group is greater than 1, selecting a first leader device from first non-volatile memory devices in each of the at least one first group, and determining first result data by performing an operation based on first data from at least one of the first non-volatile memory devices in each of the at least one first group.
According to one embodiment, a compression device includes a substring generator and a match information generator. The substring generator receives generates substrings which are stored in a memory. Byte positions of the substrings are different from each other. The match information generator determines a first string, at least part thereof matching at least part of one of the substrings, and outputs match information. The match information includes a position of the memory storing the first string and a length of the at least part of the first string matching the at least part of one of the substrings.
A data generation apparatus of one embodiment includes a processing unit, an evaluation unit, and a conversion unit. The processing unit designs, through optical proximity correction based on a target pattern formed on a substrate using the photomask, a mask pattern corresponding to the target pattern and including a plurality of rectangular regions. The evaluation unit evaluates the mask pattern using a cost function having, as a parameter, a jog length indicating a length of each of the rectangular regions included in the mask pattern in a first direction. The conversion unit converts mask pattern data indicating the mask pattern with an evaluation that meets a predetermined condition to drawing data corresponding to a variable shaped beam drawing process.
H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
According to one embodiment, there is provided a method of managing a manufacturing line. The method comprises obtaining a capability variation characteristic of each resource based on a throughput result of a process area among multi process areas arranged in the manufacturing line, each of the process areas including a multi resources. The method comprises determining number of additional resources for achievement of a quota in the process area based on the number of resources in the process area and the obtained capability variation characteristic.
A semiconductor integrated circuit includes a first regulator configured to output a first output voltage at a predetermined level from a first output terminal, a second regulator configured to output a second output voltage at the predetermined level from a second output terminal connected to the first output terminal, and a control circuit. The control circuit is configured to turn on the second regulator and then turn off the first regulator such that the first and second regulators both remain on for a certain period of time when a regulator to be used is switched from the first regulator to the second regulator, and during the certain period of time, cause the second output voltage of the second regulator to be increased to a level higher than the predetermined level.
G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p.ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
G05F 1/575 - Régulation de la tension ou de l'intensité là où la variable effectivement régulée par le dispositif de réglage final est du type continu utilisant des dispositifs à semi-conducteurs en série avec la charge comme dispositifs de réglage final caractérisé par le circuit de rétroaction
A semiconductor device includes: a wiring substrate; at least one first semiconductor element provided above the wiring substrate; a first resin layer configured to seal the first semiconductor element; and a second resin layer provided on an outer surface of the first resin layer. A Young's modulus of the second resin layer is greater than a Young's modulus of the first resin layer, and/or a linear thermal expansion coefficient of the second resin layer is greater than a linear thermal expansion coefficient of the first resin layer.
H01L 23/31 - Capsulations, p.ex. couches de capsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
H01L 21/56 - Capsulations, p.ex. couches de capsulation, revêtements
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 23/29 - Capsulations, p.ex. couches de capsulation, revêtements caractérisées par le matériau
32.
SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, TRANSMITTER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
A semiconductor integrated circuit includes a front stage circuit and a rear stage circuit. The rear stage circuit includes first, second, fifth, and sixth transistors and a plurality of seventh transistors. The front stage circuit includes first and second inverters and third and fourth transistors. The third transistor is between the first inverter and the rear stage circuit, and has a gate connected to a first power supply node. The fourth transistor is between the second inverter and the rear stage circuit, and has a gate connected to the first power supply node. A breakdown voltage of each of the third and fourth transistors in the front stage circuit is lower than that of the first, second, fifth, sixth, and seventh transistors in the rear stage circuit.
H02M 7/537 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs, p.ex. onduleurs à impulsions à un seul commutateur
33.
SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR STORAGE DEVICE
A latch group includes a first latch circuit, a second latch circuit, and a third latch circuit. A clock signal of which a signal value is inverted from a clock signal of the second latch circuit is input to the first latch circuit and the third latch circuit. A control circuit is configured to operate the latch group in a normal mode, and first and second test modes. The control circuit, while operating the latch group in a first test mode, transmits a control signal to the first switch circuit to connect the electrical path between the first data output terminal and the second data input terminal, and while operating the latch group in the second test mode, transmits a control signal to the second switch circuit to connect the electrical path between the second data output terminal and the third data input terminal.
According to one embodiment, a semiconductor memory device includes a first insulating layer; a first conductive layer provided in the first insulating layer and extending in the first direction; a second conductive layer extending in the first direction and provided adjacent to the first conductive layer in a second direction; and a contact plug coupled to one surface of the first conductive layer in a third direction. Thicknesses in the third direction of portions of the first and second conductive layers that overlap the contact plug in the third direction are smaller than thicknesses in the third direction of portions of the first and second conductive layers that do not overlap the contact plug in the third direction.
H10B 43/20 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
35.
NON-VOLATILE STORAGE DEVICE OFFLOADING OF HOST TASKS
Various implementations relate to receiving, by a first non-volatile memory device from a host, a host command including device context information of a plurality of non-volatile memory devices. The device context includes an address of a buffer of each of the plurality of non-volatile memory devices, in response to receiving the host command. The first non-volatile memory device divides portions of host data corresponding to the host command among the plurality of non-volatile memory devices. The first non-volatile memory device sends to the host a transfer request indicating transfer of each of the portions of the host data to a respective one of the plurality of non-volatile memory devices. The first non-volatile memory device sends to each of the plurality of non-volatile memory devices other than the first non-volatile memory device, a peer command based on the device context information.
A controller assigns a first plurality of blocks among a plurality of blocks provided in a non-volatile memory to a first area, assigns a second plurality of blocks to a second area, and assigns a third plurality of blocks to a third area. The controller uses each block assigned to the first area in a first mode, uses each block assigned to the second area in a second mode in which the number of bits of data written in each memory cell is larger than that in the first mode, and uses each block assigned to the third area in the first mode or the second mode. The controller writes data received from a host device to an area that corresponds to a designation from the host device out of the first area and the third area. The controller transcribes valid data written to the first area and the third area to the second area.
A target processing method includes: importing a target into a processing chamber; forming a film including carbon on the target using at least one of first ion including carbon and a first plasma including carbon; and removing the film by a reaction between a second plasma and the film, wherein the forming of the film and the removing of the film are alternately performed a number of times in the processing chamber without removing the target from the processing chamber.
A semiconductor manufacturing apparatus includes: a chamber including a top plate; a holder provided in the chamber and configured to place a substrate; a high-frequency power source configured to apply high-frequency power to the holder; a gas supply pipe configured to supply a gas to the chamber; a gas discharge pipe configured to discharge a gas from the chamber; and a plurality of lift pins configured to move the substrate in a direction away from the holder to the top plate, which allows tip ends of the lift pins to move from an upper surface of the holder to a position with a first distance, wherein the first distance is equal to or greater than about 70% of a second distance between the upper surface of the holder and the top plate.
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
A memory system includes a nonvolatile memory including first and second planes each including a plurality of memory cells, and a memory controller configured to transmit commands to the first and second planes via a first signal line and receive data from the first and second planes via a second signal line. The memory controller is configured such that, when the first plane is executing a first process, the memory controller suspends transmission of a first command instructing reservation of the first process to the second plane until a first condition is satisfied.
In a semiconductor integrated circuit, a first oscillation circuit receives a first clock signal and outputs a second clock signal synchronized with the first clock signal in frequency and phase. A second oscillation circuit receives a control signal and outputs a third clock signal having a frequency corresponding to the received control signal. A detection circuit detects a frequency difference between the second clock signal and the third clock signal. A determination circuit determines whether a frequency locked state is established between the first clock signal and the second clock signal. A control circuit varies the control signal, such that the frequency difference decreases while the frequency locked state has not been established and increases after the frequency locked state is established.
H03L 7/099 - Commande automatique de fréquence ou de phase; Synchronisation utilisant un signal de référence qui est appliqué à une boucle verrouillée en fréquence ou en phase - Détails de la boucle verrouillée en phase concernant principalement l'oscillateur commandé de la boucle
A memory system includes a memory controller configured to write data in a first mode to a first block of a first area of a non-volatile memory. The first mode is a write mode for writing data with a first number of bits per memory cell. The memory controller is further configured to execute copy processing on the data written in the first mode to the first block, by writing system data written in the first block to a second block of the first area in the first mode and writing user data written in the first block to a third block of a second area of the non-volatile memory in the second mode. The second mode is a write mode for writing data with a second number of bits larger than the first number of bits per memory cell.
A control circuit of a semiconductor memory device performs a write operation on a memory cell transistor of the semiconductor memory device by performing a first pulse application operation of lowering a threshold voltage of the memory cell transistor, a precharge operation, and then a second pulse application operation. In the precharge operation, in a state in which first and second select transistors connected to the memory cell transistor are turned on, a bit line connected to the memory cell transistor is charged by applying a ground voltage to a word line connected to a gate of the memory cell transistor and applying a voltage higher than the ground voltage to a source line. In the second pulse application operation, in a state in which the first select transistor is turned on and the second select transistor is turned off, a program voltage is applied to the word line.
According to one embodiment, a semiconductor storage device has first and second gate electrodes extending in one direction. A first semiconductor layer is between the first gate electrode and the second gate electrode. A second semiconductor layer is also between the first semiconductor layer and the second gate electrode but separated from the first semiconductor layer. A third semiconductor layer is between the first gate electrode and the second gate electrode but is spaced from the first semiconductor layer by a gap. A first charge trapping layer is between the first gate electrode and the first semiconductor layer. A second charge trapping layer is between the second gate electrode and the second semiconductor layer. A third charge trapping layer is between the first gate electrode and the third semiconductor layer.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
A memory device includes a semiconductor column extending above a substrate, a first conductive layer on a first side of the semiconductor column, a second conductive layer on a second side of the semiconductor column, opposite to the first conductive layer, a third conductive layer above or below the first conductive layer and on the first side of the semiconductor column, a fourth conductive layer on the second side of the semiconductor column, opposite to the third conductive layer, and a bit line connected to the semiconductor column. During reading in which a positive voltage is applied to the bit line, first, second, third, and fourth voltages applied to the first, second, third, and fourth conductive layers, respectively, wherein the first voltage and the third voltage are higher than each of the second voltage and the fourth voltage, and the third voltage is higher than the first voltage.
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
45.
PROCESSING APPARATUS USING LASER, METHOD OF LASER LIFT-OFF AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
A processing apparatus using laser according to an embodiment includes a stage configured to hold a substrate and rotate, and a laser irradiation apparatus capable of moving in a radial direction of the rotation. The laser irradiation apparatus includes a control unit configured to control an output of an infrared pulsed laser so that L1/L2 satisfies 1.2 or more and 10 or less when a distance between laser spots adjacent to each other in a rotation direction of the stage is L1 and a distance between laser spots adjacent to each other in the radial direction of the rotation is L2.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
B23K 26/073 - Détermination de la configuration du spot laser
B23K 26/08 - Dispositifs comportant un mouvement relatif entre le faisceau laser et la pièce
B23K 26/18 - Travail par rayon laser, p.ex. soudage, découpage ou perçage utilisant des couches absorbantes sur la pièce à travailler, p.ex. afin de marquer ou de protéger
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
46.
SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
According to an embodiment, a substrate processing method includes forming a liquid film on a substrate including a first region provided with a first film on an outermost surface thereof and a second region provided with a second film on an outermost surface thereof, the first film and the second film being different from each other in material. The method further includes forming a solidified film by solidifying the liquid film. The method further includes causing the solidified film on the first region to melt prior to the solidified film on the second region.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
According to an embodiment, a method includes receiving a query, and selecting one of first objects on the basis of the query and a neural network model. Each of the first objects is associated with one or more pieces of first data in a group of first data stored on a first memory. The method further includes calculating a metric of a distance between the query and one or more pieces of second data. The one or more pieces of second data are one or more pieces of first data associated with a second object. The second object is the one of the first objects having been selected. The method further includes identifying third data on the basis of the metric of the distance. The third data is first data closest to the query in the group of the first data.
A semiconductor device includes: a first conductor; a second conductor; an oxide semiconductor layer provided between the first conductor and the second conductor and extending in a first direction; a first wiring extending in a second direction across the first direction and surrounding the oxide semiconductor layer; an insulating film provided between the first wiring and the oxide semiconductor layer; a second wiring provided on the second conductor and extending in a third direction across each of the first direction and the second direction; a first insulating layer provided on a side surface of the second wiring and having a first void; and a second insulating layer provided on the first insulating layer and having a second void.
According to one embodiment, a memory system comprises a first memory including a nonvolatile memory cell array, a second memory configured to operate at higher speed than the first memory, and a memory controller. The memory controller executes, in response to a write command from a host, data transfer from the host to the second memory, a data-in operation, and a program operation, with respect to first data instructed to be written by the write command. After the data-in operation for the first data is started and before the data-in operation is completed, the memory controller transfers the first data from the second memory to the host in response to a read command to read the first data. After the program operation for the first data is started, the memory controller transfers the first data from the first memory to the host in response to the read command.
According to one embodiment, a semiconductor memory device includes: stacked interconnects including a first interconnect layer and a second interconnect layer, the first interconnect layer including a first area and a second area arranged in a first direction, the second interconnect layer being arranged above the first interconnect layer in a second direction intersecting the first direction, the second interconnect layer not including the first area and including the second area; a first memory pillar arranged in the first area and passing through the first interconnect layer in the second direction; and a second memory pillar arranged in the second area and passing through the first interconnect layer and the second interconnect layer in the second direction.
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
51.
SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, RECEIVING DEVICE, AND MEMORY SYSTEM
According to one embodiment, a semiconductor integrated circuit includes an equalizer circuit and a toggle detection circuit. The equalizer circuit is configured to amplify an input signal that are externally input to output an amplified signal as a first signal. The toggle detection circuit is configured to detect toggling of the first signal and to dynamically switch a gain of the equalizer circuit based on whether or not toggling of the first signal is detected.
A magnetoresistance memory device includes a lower electrode, a barrier layer, a variable resistance layer, an upper electrode, and a first layer stack. The lower electrode contains one of amorphous carbon and amorphous carbon nitride. The barrier layer is provided on the lower electrode and contains one of tungsten nitride (WN) and silicon tungsten nitride (WSiN). The variable resistance layer is provided on the barrier layer and contains a variable resistance material. The upper electrode is provided on the variable resistance layer and contains one of amorphous carbon and amorphous carbon nitride. The first layer stack is provided on the upper electrode and includes a first ferromagnetic layer, a second ferromagnetic layer, and an insulating layer between the first ferromagnetic layer and the second ferromagnetic layer.
In one embodiment, a semiconductor storage device includes memory cell transistors, and a word line electrically connected to the memory cell transistors. The device further includes a voltage generator configured to generate a first voltage transferred to the word line, the voltage generator including a voltage divider configured to divide the first voltage with first and second resistance elements, the first or second resistance element being a variable resistance element that receives a first digital signal indicating a resistance value and is changeable to the resistance value. The device further includes a control unit configured to output the first digital signal, wherein the control unit outputs the first digital signal such that a theoretical waveform of the first voltage in boosting the first voltage in an erasing verifying operation is different from a theoretical waveform of the first voltage in boosting the first voltage in a reading operation.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p.ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données
According to one embodiment, memory device includes a first, second, and third conductive layers in this order, a resistance change layer between the first and the second conductive layers, and a switching layer between the second and the third conductive layers. The switching layer contains: at least one first substance from a group consisting of oxide of at least one element from a group consisting of Cr, La, Ce, Y, Sc, Zr, and Hf, nitride of the at least one element, and oxynitride of the at least one element; a second substance being at least one metal from a group consisting of Te, Se, Sb, Bi, Ge, and Sn; and at least one third substance from a group consisting of oxide of the second substance, nitride of the second substance, and oxynitride of the second substance.
According to one embodiment, a memory system connectable to a host includes a nonvolatile memory, a controller, and a power control circuit. The controller controls the nonvolatile memory. The power control circuit controls power to be supplied to the controller and the nonvolatile memory and includes one or more DC/DC converters. The nonvolatile memory and the controller include one or more circuit blocks. Each of the one or more DC/DC converters supplies an internal power supply voltage to one of the one or more circuit blocks. A first DC/DC converter of the one or more DC/DC converters transitions to a forced pulse width modulation mode in response to the memory system that has transitioned from a low power consumption mode to a normal operation mode.
H02M 3/20 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par combinaison de convertisseurs dynamo-électriques avec d'autres convertisseurs dynamiques ou statiques
G06F 13/42 - Protocole de transfert pour bus, p.ex. liaison; Synchronisation
H02M 3/157 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p.ex. régulateurs à commutation avec commande numérique
According to one embodiment, a semiconductor storage device includes a first chip with a substrate and a second chip. The second chip has a memory cell array with wiring layers spaced apart from each other in a first direction and a memory pillar that penetrates the wiring layers in the first direction. Connection pads are in a boundary between the first and second chips. Contacts extend in the first direction from the connection pads. An insulator layer surrounds the contacts in a plane parallel to the substrate. A first member is adjacent to the insulator layer in the plane. The insulator layer separates the first member from the first contacts, and the first member has a stress value different from a stress value of the first insulator layer.
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/20 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
H10B 80/00 - Ensembles de plusieurs dispositifs comprenant au moins un dispositif de mémoire couvert par la présente sous-classe
A method for manufacturing a semiconductor device includes: forming a release layer including a first polycrystalline semiconductor layer provided on a first substrate, and a second polycrystalline semiconductor layer provided between the first substrate and the first polycrystalline semiconductor layer and having a p-type impurity concentration which is lower than that of the first polycrystalline semiconductor layer, and an n-type impurity concentration which is higher than that of the first polycrystalline semiconductor layer; subjecting the first polycrystalline semiconductor layer to anodic chemical conversion to form a first porous layer; forming a first device layer on the first porous layer; and bonding together the first device layer and a second device layer provided on a second substrate.
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/20 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p.ex. croissance épitaxiale
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
A storage device includes: a non-volatile memory; a parameter storage unit that stores a plurality of parameters for setting different operating conditions in the non-volatile memory; an access pattern analysis unit that analyzes an access pattern indicating a tendency to access the non-volatile memory by a command from a host device; a parameter selection unit that selects an optimal parameter from among the plurality of parameters based on the access pattern analyzed by the access pattern analysis unit; and an access control unit that accesses the non-volatile memory in a state where the optimal parameter is set in the non-volatile memory.
A plasma processing device includes a chamber, a plurality of direct current power supplies, and a controller. The direct current power supplies are provided in an upper portion and on a side wall of the chamber, wherein the direct current power supplies are configured to operate individually. The controller is configured to control the direct current power supplies such that the direct current power supplies apply respective direct current voltages independent of each other.
A storage device includes a first conductive layer, a second conductive layer, a third conductive layer, a variable resistance layer disposed between the first conductive layer and the second conductive layer, and a switching layer disposed between the second conductive layer and the third conductive layer. The second conductive layer is disposed between the first conductive layer and the third conductive layer. The switching layer includes a first area, a second area, and a third area disposed between the first area and the second area. The first area includes a first element selected from Sn, Ga, Zn, Ta, Ti, and In, and O or N. The second area includes a second element selected from Sn, Ga, Zn, Ta, Ti, and In, and O or N. The third area includes a third element selected from Zr, Y, Ce, Hf, Al, Mg, and Nb, O or N, and a metal element selected from Te, Sb, Bi, Ti, and Zn.
G11C 5/08 - Dispositions pour interconnecter électriquement des éléments d'emmagasinage pour interconnecter des éléments magnétiques, p.ex. des noyaux toroïdaux
A memory system includes a memory, a control circuit, and an interface circuit. The interface circuit includes a first terminal capable of receiving a first clock supplied from an outside, and a second terminal capable of receiving a first signal. When in a first state, the control circuit transitions to a second state in response to input of a first signal, and to a third state in response to input of the first clock. When in the second state, the control circuit executes initialization processing of a first mode for an operation based on an internally generated second clock or is in an operable state in the first mode, and ends the operable state in the first mode in response to input of the first clock and transitions to the third state. When in the third state, the control circuit transitions to a fourth state in response to input of the first signal. When in the fourth state, the control circuit executes initialization processing of a second mode for an operation based on the first clock or is in an operable state in the second mode.
G11C 7/22 - Circuits de synchronisation ou d'horloge pour la lecture-écriture [R-W]; Générateurs ou gestion de signaux de commande pour la lecture-écriture [R-W]
G06F 13/42 - Protocole de transfert pour bus, p.ex. liaison; Synchronisation
G11C 7/20 - Circuits d'initialisation de cellules de mémoire, p.ex. à la mise sous ou hors tension, effacement de mémoire, mémoire d'image latente
62.
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
A substrate processing apparatus includes: a plurality of roller pairs configured to place a plurality of substrates, respectively, wherein the substrates are arranged side by side in a horizontal direction with a predetermined interval, and rotate the plurality of substrates, respectively, in a circumferential direction; a first, second, and third circulation groove that are disposed along outer peripheral portions of each of the plurality of substrates; a chemical solution supplier configured to supply a chemical solution to the outer peripheral portions of the plurality of substrates through the first circulation groove; a rinse solution supplier configured to supply a rinse solution to the outer peripheral portions of the plurality of substrates through the second circulation groove; and a fluid supplier configured to supply a fluid for drying the rinse solution to the outer peripheral portions of the plurality of substrates through the third circulation groove.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
63.
SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE
A semiconductor memory device includes: a stacked body in which a plurality of conductive layers and a plurality of insulating layers are stacked one by one alternately; and a pillar that extends in the stacked body in a stacking direction of the stacked body and includes a memory cell formed at each of intersections with the plurality of conductive layers, in which the pillar includes a semiconductor layer extending in the stacking direction, a silicon oxynitride layer covering a side wall of the semiconductor layer, a silicon nitride layer covering a side wall of the silicon oxynitride layer, and a silicon oxide layer covering a side wall of the silicon nitride layer, in which the silicon oxynitride layer has a hydrogen concentration of 1×1020 atm/cc or less in terms of average value.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
64.
PATTERN FORMATION METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND IMPRINT APPARATUS
According to one embodiment, a pattern formation method includes holding a substrate on a suction chuck that an outer suction region for an outer edge portion of the substrate and an inner suction region for an inner region of the substrate. A partial shot region at an outer edge of the substrate has a first alignment mark in the inner region and a second alignment mark at the outer edge portion. While a template is being pressed against a resin film in the shot region, position alignment using the second and fourth alignment marks is performed by adjusting a suction force for the outer suction region for changing a warpage amount of the substrate while observing the second and fourth alignment marks through the template.
G03F 1/42 - Aspects liés à l'alignement ou au cadrage, p.ex. marquages d'alignement sur le substrat du masque
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
According to one embodiment, a semiconductor device includes a pillar of an oxide semiconductor material and a gate insulating layer that surrounds a side surface of the pillar. The gate insulating layer includes a lower portion, an upper portion, and an intermediate portion. A gate electrode surrounds the intermediate portion of the gate insulating layer. A lower electrode is provided that includes a first oxide conductor portion that is connected to a lower surface of the pillar. An upper electrode is provided connected to an upper surface of the pillar. The gate electrode includes a metal portion containing a metallic element and a first nitrogen-containing portion between the metal portion and the gate insulating layer. The first oxide conductor portion includes a second nitrogen-containing at an interface between the first oxide conductor portion and the gate insulating layer.
According to one embodiment, a pattern forming method uses a template having a first region with a first recessed portion and a second region adjacent to the first region. The second region has a second recessed portion therein. The recessed portions satisfy a specific relationship (D1>2(H1+H2)/π), where D1 is a shortest distance between the first and second recessed portions, H1 is a depth of the first recessed portion, and H2 is a depth of the second recessed portion. The pattern forming method includes placing an imprint material on an object and pressing the template against the material to mold the imprint material. The molded imprint material is then cured, and the template removed.
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
67.
SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE
According to one embodiment, a semiconductor memory device includes a lower layer, a stacked body above the lower layer with first conductive layers and first insulating layers alternately stacked. A pillar penetrates through the stacked body to reach the lower layer. At least one first insulating layer other than the lowest among the first insulating layers in a first region of the stacked body is thicker than first insulating layers in a second region above the first region. The pillar has a first bowing shape at the height of the at least one thicker first insulating layer and a second bowing shape at a height in the second region.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 25/18 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types prévus dans plusieurs sous-groupes différents du même groupe principal des groupes , ou dans une seule sous-classe de ,
H10B 80/00 - Ensembles de plusieurs dispositifs comprenant au moins un dispositif de mémoire couvert par la présente sous-classe
A semiconductor storage device includes a first word line, a second word line, a first select gate line, a second select gate line, a third select gate line, a fourth select gate line, a first memory pillar including a first memory cell connected to the first word line, a first select transistor connected to the first select gate line, a second memory cell connected to the second word line, and a second select transistor connected to the second select gate line, and a logic control circuit configured to perform a read operation to read threshold voltages of the first and second memory cells, respectively. The logic control circuit independently controls the first to fourth select gate lines during the read operation to turn the select transistors electrically connected to memory cells other than the memory cell to be read to off state.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p.ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliers; Eléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p.ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données
69.
SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
A semiconductor memory device of an embodiment includes a first region having a first stack and a first pillar, and a second region having a second stack and a second pillar. The first stack comprises an alternate stack in a first direction of a plurality of first insulating films containing oxygen and a plurality of first conductive films. The first pillar comprises a semiconductor layer and extends in the first direction within the first stack. The second stack comprises a repeated stack in the first direction of the plurality of first insulating films, a plurality of second insulating films, and a plurality of third insulating films in the order of the first insulating film, the second insulating film, and the third insulating film. The second insulating film contains nitrogen. The third insulating film contains nitrogen and at least one of oxygen and hydrogen. The second pillar comprises a semiconductor layer and extends in the first direction within the second stack. The first region and the second region are adjacent to each other in a second direction intersecting the first direction.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
A semiconductor memory device includes a gate electrode and a first and second semiconductor layer surrounding the gate electrode. A first electrode layer surrounds the gate electrode and contacts the first semiconductor layer. A second electrode layer surrounds the gate electrode and contacts the first and second semiconductor layers. The first semiconductor layer is between the first and second electrode layers. A third electrode layer surrounds the gate electrode and contacts the second semiconductor layer. The second semiconductor layer is between the second and third electrode layers. A first charge storage layer is between the gate electrode and the first semiconductor layer. A second charge storage layer is between the gate electrode and the second semiconductor layer.
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
A first select transistor is connected to a first wiring. A first memory cell transistor and a second memory cell transistor are connected in series between the first select transistor and a second select transistor. A first word line is connected to the first memory cell transistor. A second word line is connected to the second memory cell transistor. During a first period in which the first voltage is applied to the first wiring, a second voltage lower than a first voltage is applied in parallel to the first word line and the second word line. During a second period in which a third voltage higher than the first voltage is applied to the first wiring, the second voltage is applied to the first word line, and a fourth voltage higher than the second voltage and lower than the third voltage is applied to the second word line. During a third period in which the third voltage is applied to the first wiring, the fourth voltage is applied to the first word line, and the second voltage is applied to the second word line.
G11C 16/16 - Circuits pour effacer électriquement, p.ex. circuits de commutation de la tension d'effacement pour effacer des blocs, p.ex. des réseaux, des mots, des groupes
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p.ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
A transmission device includes an encoding circuit and a modulation circuit. The encoding circuit is configured to encode first and second data stream portions of a transmission data stream in accordance with first and second encoding protocols, respectively, convert each M bit of the encoded second data stream portion into a high-resolution value of N bit, and generate a baseband data stream including the encoded first data stream portion and the converted second data stream portion. The modulation circuit is configured to perform a 2N-level pulse amplitude modulation with respect to each N bit of the encoded first data stream portion in the baseband data stream and each N bit of the converted second data stream portion in the baseband data stream, to generate a transmission signal. M is an integer equal to or greater than 1 and N is an integer greater than M.
H04L 25/49 - Circuits d'émission; Circuits de réception à au moins trois niveaux d'amplitude
H03M 5/14 - Représentation du code, p.ex. transition, pour un élément binaire donné dépendant de l'information d'un ou de plusieurs éléments binaires adjacents, p.ex. code à modulation de durée, code à double densité
73.
NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
A memory cell includes: a core structure extending in a first direction orthogonal to a semiconductor substrate; a semiconductor layer extending in the first direction and in contact with the core structure; an insulating layer extending in the first direction and in contact with the semiconductor layer; a ferroelectric layer extending in the first direction and in contact with the insulating layer; a first electrode extending in a second direction orthogonal to the first direction and in contact with the ferroelectric layer; a second electrode adjacent to the first electrode in the first direction, extending in the second direction, and in contact with the ferroelectric layer; an insulating layer stacked in the first direction and disposed between the first and second electrodes; and an antiferroelectric layer disposed between the first and second electrodes, and in contact with the insulating layer and the ferroelectric layer.
G11C 11/22 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliers; Eléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des éléments ferro-électriques
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
H10B 51/10 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 51/20 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
H10B 51/30 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par la région noyau de mémoire
74.
SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE
A semiconductor memory device includes a first stacked body, a second stacked body, an interposed portion, and a columnar body. The interposed portion is disposed between the first stacked body and the second stacked body. The columnar body includes a first columnar portion extending in a first direction inside the first stacked body, a second columnar portion extending in the first direction inside the second stacked body, and a connection portion disposed in the interposed portion and connecting the first columnar portion to the second columnar portion. At least part of the interposed portion has a first layer containing a first insulating material, a second layer disposed between the first layer and the second stacked body in the first direction and containing the first insulating material, and a third layer disposed between the first layer and the second layer in the first direction and containing a first material different from the first insulating material.
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
A memory system includes a non-volatile memory and a controller. The controller is configured to perform a write operation of a first data cluster and a first partial overwrite operation of the first data cluster with first overwrite data. The write operation includes compressing and then encrypting the first data cluster, and writing the compressed and encrypted first data cluster into a first physical location of the non-volatile memory. The first partial overwrite operation includes encrypting the first overwrite data without performing compression, reading the compressed and encrypted first data cluster from the first physical location of the non-volatile memory, generating a first composite data cluster with the compressed and encrypted first data cluster read from the first physical location and the encrypted first overwrite data that is not compressed, and writing the first composite data cluster into a second physical location of the non-volatile memory.
A semiconductor storage device includes a first region including a level shifter, a second region including a level shifter, a power input pad, and an internal power generation circuit configured to generate an internal power supply voltage using a first power supply voltage supplied through the power input pad and supply the internal power supply voltage to the first and second regions. The internal power generation circuit separately transmits a first signal to the level shifter of the first region for triggering a start of a first operation of the first region and a second signal to the level shifter of the second region for triggering a start of a second operation of the second region.
According to one embodiment, a semiconductor memory device has a first film and a stacked body on the first film. The stacked body includes insulating films and conductive films stacked in a first direction. A first pillar extends through the stacked body and has a first semiconductor portion and a first insulator portion on an outer peripheral surface. A plurality of second pillars extend in the stacked body and reach the first film. The second pillars each comprise an insulator material and have a bottom surface with a protrusion protruding into the first film. A third pillar extends in the stacked body between adjacent second pillars. The third pillar comprises a conductor material that is electrically connected to one of the conductive films of the stacked body.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
According to one embodiment, a semiconductor memory device includes a first wiring layer above a first semiconductor layer in a first direction and a second wiring layer above the first semiconductor layer and spaced from the first wiring layer in a second direction. A first memory pillar extends through the first wiring layer. A second memory pillar extends through the second wiring layer. A member is between the first and second wiring layers in the second direction and includes a first conductor contacting the first semiconductor layer, a first insulator between the wiring layers and the first conductor, and a plurality of second insulators arranged along a third direction and between the first conductor and the first semiconductor layer in the first direction.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
79.
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
A substrate processing apparatus according to an embodiment includes a boat capable of accommodating a plurality of substrates taken out from a storage container, a reactor capable of housing the boat and processing the plurality of substrates, and first and second arms that transfer the plurality of substrates. The boat accommodates the substrates in a first direction intersecting surfaces of the substrates. The first arm holds both ends of one substrate in a second direction intersecting the first direction, and is capable of transferring the one substrate between the storage container and the second arm. The second arm has a first holder that can support two substrates in a third direction intersecting the first and second directions, and is capable of transferring the two substrates between the first arm and the boat.
H01L 21/673 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants utilisant des supports spécialement adaptés
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
According to one embodiment, a memory system includes a semiconductor memory device and a control device. The memory system includes a first device and first channels. The first channels are each connected to one or more second devices. The control device is connected to the first device via a second channel. The control device includes first circuits and a second circuit. The first circuits each execute data transfer to the second device as an access destination. The second circuit is provided between the first circuits and the second channel. The second circuit combines data from the first circuits and transfers the combined data to the second channel at a transfer rate higher than that of pre-combining data. The second circuit divides data received via the second channel and distributes pieces of divided data to the first circuits at a transfer rate lower than that of pre-dividing data.
G06F 13/16 - Gestion de demandes d'interconnexion ou de transfert pour l'accès au bus de mémoire
G06F 11/10 - Détection ou correction d'erreur par introduction de redondance dans la représentation des données, p.ex. en utilisant des codes de contrôle en ajoutant des chiffres binaires ou des symboles particuliers aux données exprimées suivant un code, p.ex. contrôle de parité, exclusion des 9 ou des 11
A semiconductor storage device includes: a stacked body in which a plurality of electrically conductive layers is stacked with an insulating layer interposed in between; and a circuit section that is provided to overlap with the stacked body in a stack direction. The stacked body includes a memory section in which a plurality of memory cells is disposed and a staircase section in which the plurality of electrically conductive layers has stepped ends. The circuit section includes row decoders that are joined to the plurality of electrically conductive layers. The staircase section includes a first structure in which the row decoders are provided to overlap with each other in the stack direction and a second structure different from the first structure. The second structure has a greater step gap than a step gap of the first structure.
H10B 80/00 - Ensembles de plusieurs dispositifs comprenant au moins un dispositif de mémoire couvert par la présente sous-classe
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 25/18 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types prévus dans plusieurs sous-groupes différents du même groupe principal des groupes , ou dans une seule sous-classe de ,
According to one embodiment, a magnetic memory device includes a lower insulating layer, first and second conductive portions provided in the lower insulating layer, first and second memory cells provided on the lower insulating layer and on the respective first and second conductive portions, and each including a magnetoresistance effect element, a switching element and a bottom electrode connected to corresponding one of the first and second conductive portions. As viewed from a third direction, a width of each of the first and second conductive portions is less than a width of a corresponding bottom electrode. The lower insulating layer has a void under a region between the first and second memory cells.
According to one embodiment, a magnetic memory device includes a first wiring line extending in a first direction, a second wiring line provided on an upper layer side of the first wiring line and extending in a second direction intersecting the first direction, and a memory cell provided between the first wiring line and the second wiring line and including a magnetoresistance effect element and a switching element which are stacked in a third direction intersecting the first direction and the second direction. The first wiring line includes a first conductive layer and a second conductive layer provided on the first conductive layer and formed of a material containing carbon (C).
G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliers; Eléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
According to one embodiment, the array chip includes a three-dimensionally disposed plurality of memory cells and a memory-side interconnection layer connected to the memory cells. The circuit chip includes a substrate, a control circuit provided on the substrate, and a circuit-side interconnection layer provided on the control circuit and connected to the control circuit. The circuit chip is stuck to the array chip with the circuit-side interconnection layer facing to the memory-side interconnection layer. The bonding metal is provided between the memory-side interconnection layer and the circuit-side interconnection layer. The bonding metal is bonded to the memory-side interconnection layer and the circuit-side interconnection layer.
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
H01L 21/18 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 25/18 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types prévus dans plusieurs sous-groupes différents du même groupe principal des groupes , ou dans une seule sous-classe de ,
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/30 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire
H10B 43/50 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région limite entre la région noyau et la région de circuit périphérique
A semiconductor memory device includes a memory cell array having memory strings that include memory cells and first and second selection transistors. During a read operation, a controller applies a first voltage higher than ground to a source line, and a second voltage to a first and second selection gate lines that are connected to a selected memory string. The second voltage is also applied to the first selection gate lines connected to non-selected memory strings during a first period of the read operation. A third voltage higher than ground and lower than the second voltage is applied to the first selection gate lines connected to non-selected memory strings during a second period of the read operation subsequent to the first period.
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p.ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données
G11C 16/28 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données utilisant des cellules de détection différentielle ou des cellules de référence, p.ex. des cellules factices
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p.ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
86.
SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE
A semiconductor device including a first electrode, a second electrode, an oxide semiconductor disposed between the first electrode and the second electrode, and a first oxide layer containing a predetermined element, oxygen, and an additional element and disposed between the first electrode and the oxide semiconductor, wherein the predetermined element is at least one of tantalum, boron, hafnium, silicon, zirconium, or niobium, and the additional element is at least one of phosphorus, sulfur, copper, zinc, gallium, germanium, arsenic, selenium, silver, indium, tin, antimony, tellurium, or bismuth.
According to one embodiment, a storage device includes a nonvolatile memory and a controller. The controller manages first user identification information and first authentication information including a hash value calculated from the first user identification information and a first device identification information of a first client device. The controller receives an access request to the nonvolatile memory, user identification information, and authentication information transmitted from an external device, and accepts the access request in a case where the user identification information received matches the first user identification information, and the authentication information received matches the first authentication information.
A controller assigns, for each namespace, one logical area of a logical address space as a first logical area including a last logical address of the namespace and assigns one or more of logical areas as second logical areas. The controller divides a memory region in which an address translation table is stored into buffer regions. For each second logical area, the controller assigns one buffer region for storing map segments corresponding to the second logical area, and manages a first pointer indicating a storage location of the buffer region assigned thereto. The controller also assigns one buffer region for map segments corresponding to the first logical areas of two or more namespaces, and manages second pointers respectively indicating storage locations in the one buffer region, in which the map segments corresponding to the first logical areas of the two or more namespaces are respectively stored.
A method for manufacturing a semiconductor device includes forming, on a to-be-processed film above an underlying film, a mask material containing a first metal and comprising a first mask layer which is provided on the to-be-processed film and whose content of the first metal is lower than a first predetermined percentage, and a second mask layer which is provided on the first mask layer and whose content of the first metal is equal to or higher than the first predetermined percentage. The manufacturing method includes patterning the mask material. The manufacturing method includes processing the to-be-processed film using the mask material as a mask. The processing of the to-be-processed film includes performing a first treatment to process the to-be-processed film at a first temperature in an atmosphere of a first gas. The processing of the to-be-processed film includes performing a second treatment to process the to-be-processed film at a second temperature higher than the first temperature in an atmosphere of a second gas different from the first gas.
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
A memory system includes a semiconductor memory that includes a cell unit having a plurality of memory cells, and a control circuit for controlling the plurality of memory cells, and a memory controller configured to control the semiconductor memory. The control circuit is configured to execute a data read operation on the cell unit by using one or more read voltages, acquire first data by the data read operation, generate second data with a data size smaller than the first data, based on the first data, and transmit the second data to the memory controller. The memory controller is configured to determine, based on the second data, whether or not to rewrite the page data written in the cell unit.
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lecture; Circuits de sortie de données
G11C 16/08 - Circuits d'adressage; Décodeurs; Circuits de commande de lignes de mots
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p.ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
A semiconductor device includes a first pad, a second pad, a first output driver provided for the first pad and configured to output a first transmission signal to the first pad, a second output driver provided for the second pad and configured to output a second transmission signal to the second pad, a register that stores first and second calibration values, a first reference resistor for the first pad and having a resistance value that is set according to the first calibration value, a second reference resistor for the second pad and having a resistance value that is set according to the second calibration value, a first setting circuit configured to calibrate a resistance value of the first output driver using the first reference resistor, and a second setting circuit configured to calibrate a resistance value of the second output driver using the second reference resistor.
According to one embodiment, a cell block includes memory cells and select transistors. The memory cells correspond are connected in parallel between a local source line and a local bit line. The select transistor is connected between the local bit line and a bit line. The memory cell includes a cell transistor and a resistance change element. A gate of the cell transistor is connected to a word line. The resistance change element is connected to the cell transistor in series between the local source line and the local bit line. Each cell block is configured as a columnar structure penetrating a plurality of conductive films functioning as word lines. The select transistor and the local bit line are connected at a contact portion formed of a material different from a material of the local bit line.
According to one embodiment, transistors and a resistance-capacitance element are provided. The transistors each have a gate insulating film with a gate dielectric film and a gate electrode of a metal material. The resistance-capacitance element is provided by stacking a first insulating film, a first conductive layer, a stopper insulating film, a second insulating film, and a second conductive layer on an upper surface of a semiconductor substrate. The second insulating film includes the gate dielectric film like the gate insulating film. The second conductive layer is made of the same metal material as the gate electrode. The first conductive layer is a conductive material having a higher resistance than the second conductive layer.
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
94.
SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
A semiconductor memory device includes a first memory die, a second memory die disposed above the first memory die via adhesives, a first wiring connected to the first memory die, and configured to apply a power supply voltage to the first memory die, a first switch element connected to the first wiring, a second wiring connected to the second memory die, and configured to apply the power supply voltage to the second memory die, a second switch element connected to the second wiring, and a third wiring configured to electrically connect to the first wiring via the first switch element, and configured to electrically connect to the second wiring via the second switch element. The first switch element and the second switch element are independently controllable.
A semiconductor storage device according to an embodiment includes a first wiring, a second wiring, a first insulating layer, a first insulator, and a conductor. The first insulating layer has a first portion, a second portion, and a third portion. The first portion is stacked on the first wiring. The second portion is stacked on the second wiring. The third portion is on the opposite side of the first wiring and the second wiring with respect to the first portion and the second portion.
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
96.
SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND RECEIVER DEVICE
According to one embodiment, a semiconductor integrated circuit includes: first and second converters respectively configured to determine first and second bit strings based on first and second clock signals; a circuit. The circuit includes: first, second, and third capacitors; first and second switching elements; and first, second, and third buffers. The first buffer includes an output end coupled to the first capacitor, a first end of the each of the first and second switching elements. The second buffer includes an output end coupled to the second capacitor, a second end of the first switching element, and the first converter. The third buffer includes an output end coupled to the third capacitor, a second end of the second switching element, and the second converter. A reference voltage is supplied to an input end of each of the first, second, and third buffers.
H03M 1/46 - Valeur analogique comparée à des valeurs de référence uniquement séquentiellement, p.ex. du type à approximations successives avec convertisseur numérique/analogique pour fournir des valeurs de référence au convertisseur
H03M 1/14 - Conversion par étapes, avec pour chaque étape la mise en jeu de moyens de conversion identiques ou différents et délivrant plus d'un bit
A memory plane region includes a first structure and a second structure having conductive layers, and includes a first memory region to a third memory region, a first region between the first memory region and the second memory region, and a second region between the second memory region and the third memory region. The first structure comprises first via contact electrodes in the first region. The second structure comprises second via contact electrodes in the second region. The first via contact electrodes are electrically connected to transistors provided at positions where the first structure and the first region overlap, and where the second structure and the first region overlap. The second via contact electrodes are electrically connected to transistors provided at positions where the first structure and the second region overlap, and where the second structure and the second region overlap.
H10B 80/00 - Ensembles de plusieurs dispositifs comprenant au moins un dispositif de mémoire couvert par la présente sous-classe
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 25/18 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types prévus dans plusieurs sous-groupes différents du même groupe principal des groupes , ou dans une seule sous-classe de ,
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 41/41 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région de circuit périphérique de régions de mémoire comprenant un transistor de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
An end material recovery apparatus includes a plurality of cages each in which an upper portion is opened, the plurality of cages each having at least one surface formed of at least one of a mesh-like surface and a porous surface, the plurality of cages being configured to receive a mixed liquid in which an end material is mixed with a liquid from the upper portion, collect at least a part of the end material in the mixed liquid, and discharge the liquid from the at least one surface; a rotation drive mechanism configured to individually rotate the plurality of cages in a direction in which the upper portion faces downward; and a plurality of recovery containers configured to recover the end material dropped by individually rotating the plurality of cages in the direction in which the upper portion faces downward.
B01D 29/35 - Eléments filtrants autoportants agencés pour la filtration à courant dirigé vers l'extérieur
B01D 29/92 - Filtres à éléments filtrants stationnaires pendant la filtration, p.ex. filtres à aspiration ou à pression, non couverts par les groupes ; Leurs éléments filtrants comportant des dispositifs d'alimentation ou d'évacuation d'évacuation du filtrat
B01D 29/94 - Filtres à éléments filtrants stationnaires pendant la filtration, p.ex. filtres à aspiration ou à pression, non couverts par les groupes ; Leurs éléments filtrants comportant des dispositifs d'alimentation ou d'évacuation d'évacuation du gâteau de filtration, p.ex. goulottes
According to one embodiment, a semiconductor memory device includes a first circuit, multiple second circuits, and a first number of first channels connected to the first circuit. One or more second circuits are connected to each first channel. The control circuit is connected to the semiconductor memory device via a second channel. The control circuit generates multiple first access requests each for one of the second circuits. The control circuit determines order of execution of the first access requests to allow concurrent execution of a second number of first access requests designating two or more of the second circuits connected to different first channels. The control circuit executes in parallel the second number of data transfers responsive to the second number of first access requests via the second channel at a transfer rate the second number of times a transfer rate of one of the first number of first channels.
According to one embodiment, a system includes: a memory, and a controller, wherein the memory includes a first die including first and second planes and a second die including a third plane, and the controller issues a read command to the first and second dies, if a read time for first data in the first plane has ended, a read time for second data in the second plane has ended after the end of the read time for the first data, and a read time for third data in the third plane has ended after the end of the read time for the second data, receives the first data from the first die, receives the third data from the second die after completion of receiving the first data, and receives the second data from the first die after completion of receiving the third data.
brevets
