Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

Japon

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Type PI
        Brevet 2 998
        Marque 208
Juridiction
        International 1 949
        États-Unis 1 175
        Canada 58
        Europe 24
Propriétaire / Filiale
[Owner] Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 3 194
MGC Filsheet Co., Ltd. 156
Japan Pionics Co., Ltd. 7
Eiwa Chemical Industry Co., Ltd. 4
Date
Nouveautés (dernières 4 semaines) 21
2024 avril (MACJ) 11
2024 mars 20
2024 février 16
2024 janvier 17
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Classe IPC
C08J 5/24 - Imprégnation de matériaux avec des prépolymères pouvant être polymérisés en place, p.ex. fabrication des "prepregs" 225
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques 212
H05K 1/03 - Emploi de matériaux pour réaliser le substrat 209
B32B 27/36 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyesters 167
C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles 153
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Classe NICE
01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture 134
17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler 62
03 - Produits cosmétiques et préparations de toilette; préparations pour blanchir, nettoyer, polir et abraser. 42
09 - Appareils et instruments scientifiques et électriques 22
05 - Produits pharmaceutiques, vétérinaires et hygièniques 21
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Statut
En Instance 287
Enregistré / En vigueur 2 919
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1.

CARBON DIOXIDE ABSORBENT

      
Numéro d'application 18267616
Statut En instance
Date de dépôt 2021-12-14
Date de la première publication 2024-04-18
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kouno, Kazuki
  • Kawashima, Yuki

Abrégé

A carbon dioxide absorbent containing a polyamine compound (A) having an alicyclic hydrocarbon structure, wherein a content of the polyamine compound (A) is 60% by mass or more.

Classes IPC  ?

  • B01J 20/26 - Composés macromoléculaires synthétiques

2.

RESIN COMPOSITION, AND PRINTING INK AND ELECTROCONDUCTIVE PASTE EACH USING SAME

      
Numéro d'application 18276107
Statut En instance
Date de dépôt 2022-02-10
Date de la première publication 2024-04-18
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Goto, Toshihito
  • Ogawa, Noriyoshi

Abrégé

According to the present invention, a resin composition can be provided, which comprises a solvent represented by general formula (1) and a polycarbonate resin containing a structural unit (a) represented by general formula (A) (provided that a polycarbonate homopolymer composed only of a structural unit represented by formula (i) is excluded). (In formula (1), Ra represents a hydrogen atom or the like; Rb represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or the like; Rc to Rf independently represent a hydrogen atom or the like; and n represents an integer of 1 to 10.) (In formula (A), R1 to R8 independently represent a hydrogen atom or the like; and X represents —O— or the like.)

Classes IPC  ?

  • C08G 64/06 - Polycarbonates aromatiques ne contenant pas d'insaturations aliphatiques
  • C09D 7/63 - Adjuvants non macromoléculaires organiques
  • C09D 11/102 - Encres d’imprimerie à base de résines artificielles contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions autres que celles faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C09D 169/00 - Compositions de revêtement à base de polycarbonates; Compositions de revêtement à base de dérivés de polycarbonates

3.

METHODS FOR PRODUCING POLYCARBONATE COPOLYMER AND POLYSILOXANE COMPOUND, POLYCARBONATE COPOLYMER, POLYSILOXANE COMPOUND, COMPOSITION, AND MOLDED BODY

      
Numéro d'application 18515885
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-21
Date de la première publication 2024-04-18
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Uera, Kazuyoshi
  • Kamatani, Kohei
  • Tomita, Keisuke
  • Akimoto, Hisato

Abrégé

A polycarbonate copolymer which has siloxane constituent units represented by any of formulae (1-1) to (1-4) and prescribed polycarbonate constituent units. A polycarbonate copolymer which has siloxane constituent units represented by any of formulae (1-1) to (1-4) and prescribed polycarbonate constituent units.

Classes IPC  ?

  • C08L 83/16 - Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères dans lesquels tous les atomes de silicium sont liés autrement que par des atomes d'oxygène
  • C08G 64/16 - Polycarbonates aliphatique-aromatiques ou araliphatiques
  • C08G 64/38 - Procédés généraux de préparation utilisant d'autres monomères
  • C08G 77/60 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone dans lesquels tous les atomes de silicium sont liés autrement que par des atomes d'oxygène
  • C08L 69/00 - Compositions contenant des polycarbonates; Compositions contenant des dérivés des polycarbonates

4.

POLYMER, COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POLYMER, COMPOSITION FOR FILM FORMATION, RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD, AND COMPOSITION FOR OPTICAL MEMBER FORMATION

      
Numéro d'application 18273014
Statut En instance
Date de dépôt 2022-01-11
Date de la première publication 2024-04-11
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Matsuura, Kodai
  • Horiuchi, Junya
  • Okada, Yu
  • Omatsu, Tadashi
  • Echigo, Masatoshi

Abrégé

A polymer having a constituent unit derived from a monomer represented by the following formula (0), wherein the polymer has sites in which the constituent units are linked by direct bonding between aromatic rings of the monomer represented by the formula (0): A polymer having a constituent unit derived from a monomer represented by the following formula (0), wherein the polymer has sites in which the constituent units are linked by direct bonding between aromatic rings of the monomer represented by the formula (0): A polymer having a constituent unit derived from a monomer represented by the following formula (0), wherein the polymer has sites in which the constituent units are linked by direct bonding between aromatic rings of the monomer represented by the formula (0): wherein R is a monovalent group, and m is an integer of 1 to 5, wherein at least one R is a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 40 carbon atoms and optionally having a substituent, or an amino group having 0 to 40 carbon atoms and optionally having a substituent.

Classes IPC  ?

  • C08G 61/02 - Composés macromoléculaires contenant uniquement des atomes de carbone dans la chaîne principale de la molécule, p.ex. polyxylylènes
  • C08G 8/16 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes de formaldéhyde, p.ex. de formaldéhyde formé in situ avec des amino- ou nitrophénols
  • C08G 8/22 - Résorcinol
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • G03F 7/22 - Exposition successive avec le même motif lumineux de différentes zones de la même surface
  • G03F 7/26 - Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou

5.

COMPOSITION FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

      
Numéro d'application 18276480
Statut En instance
Date de dépôt 2022-02-04
Date de la première publication 2024-04-11
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Oie, Toshiyuki
  • Adaniya, Tomoyuki

Abrégé

Provided is a composition for cleaning semiconductor substrates, having high removal rate of tungsten oxide with high Ti/W etching selectivity. Provided is a composition for cleaning semiconductor substrates, having high removal rate of tungsten oxide with high Ti/W etching selectivity. The composition for cleaning semiconductor substrates, comprising an oxidizing agent (A), a fluorine compound (B), a metallic tungsten corrosion inhibiter (C), and a tungsten oxide etching accelerator (D), wherein the addition ratio of the oxidizing agent (A) is from 0.0001 to 10% by mass relative to the total mass of the composition for cleaning semiconductor substrates; the addition ratio of the fluorine compound (B) is from 0.005 to 10% by mass relative to the total mass of the composition for cleaning semiconductor substrates; and the addition ratio of the metallic tungsten corrosion inhibiter (C) is from 0.0001 to 5% by mass relative to the total mass of the composition for cleaning semiconductor substrates.

Classes IPC  ?

  • C11D 3/24 - Composés organiques contenant un halogène
  • C11D 3/00 - Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe
  • C11D 11/00 - Méthodes particulières pour la préparation de compositions contenant des mélanges de détergents

6.

ACID MATRIX APPLICATIONS: WELL STIMULATION AND COMPLETION FLUIDS USING VISCOELASTIC SURFACTANTS AND MODIFIED ADDITIVES

      
Numéro d'application 17766977
Statut En instance
Date de dépôt 2020-10-07
Date de la première publication 2024-04-11
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Advincula, Rigoberto C.
  • Mimura, Kunitoshi
  • Ohno, Daisuke
  • Shimada, Masahiro

Abrégé

A composition for an oil or gas well formation, containing a viscoelastic surfactant; and a modified nanomaterial and a producing method of the composition, and a forming method of the oil or gas well. The modified nanomaterial optionally contains a nanocellulose. The modified nanomaterial optionally has, on its surface, a sulfate group, a sulfite group, a carboxy group, an ethylene oxide chain, an amino group, an ester group, a silane group, a tertiary ammonium group or a mixture thereof.

Classes IPC  ?

  • C09K 8/20 - Composés organiques naturels ou leurs dérivés, p.ex. polysaccharides ou dérivés de la lignine

7.

MOLDED ARTICLE MANUFACTURING METHOD, RESIN IMPREGNATING APPARATUS, AND 3D PRINTER

      
Numéro d'application 18039916
Statut En instance
Date de dépôt 2021-10-29
Date de la première publication 2024-04-11
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Matsumoto, Nobuhiko
  • Ikeuchi, Kousuke
  • Hashimoto, Ryoma

Abrégé

Provided are a method for manufacturing a molded article consisting of a fiber-reinforced composite material containing a cured product of a thermosetting resin or a thermosetting resin composition and continuous reinforcing fibers, the method including, in this order, Steps (I) to (III) described below, a resin impregnating apparatus suitably used for the manufacturing method, and a 3D printer. Step (I): A coating step of coating a surface of a continuous reinforcing fiber bundle with a thermosetting resin or a thermosetting resin composition. Step (II): A resin impregnating step of twisting the continuous reinforcing fiber bundle after step (I) and obtaining a prepreg impregnated with the thermosetting resin or the thermosetting resin composition. Step (III): A heating and molding step of disposing the prepreg obtained in step (II) above and then heating the prepreg.

Classes IPC  ?

  • B29B 15/12 - Revêtement ou imprégnation d'agents de renforcement de longueur indéfinie
  • B33Y 70/10 - Composites de différents types de matériaux, p.ex. mélanges de céramiques et de polymères ou mélanges de métaux et de biomatériaux
  • B33Y 80/00 - Produits obtenus par fabrication additive

8.

COMPOSITION FOR FILM FORMATION, RESIST COMPOSITION, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION FOR OPTICAL MEMBER FORMATION, RESIN FOR UNDERLAYER FILM FORMATION, RESIST RESIN, RADIATION-SENSITIVE RESIN, AND RESIN FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY

      
Numéro d'application 18013870
Statut En instance
Date de dépôt 2021-07-08
Date de la première publication 2024-04-11
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yamamoto, Hiroaki
  • Matsuura, Kodai
  • Horiuchi, Junya
  • Iwasaki, Atsuko
  • Makinoshima, Takashi
  • Echigo, Masatoshi

Abrégé

A composition for film formation containing a polycyclic polyphenolic resin having repeating units derived from at least one monomer selected from the group consisting of aromatic hydroxy compounds represented by the formulas (1-0), (1A), and (1B), wherein the repeating units are linked by a direct bond between aromatic rings: A composition for film formation containing a polycyclic polyphenolic resin having repeating units derived from at least one monomer selected from the group consisting of aromatic hydroxy compounds represented by the formulas (1-0), (1A), and (1B), wherein the repeating units are linked by a direct bond between aromatic rings:

Classes IPC  ?

  • C08G 61/02 - Composés macromoléculaires contenant uniquement des atomes de carbone dans la chaîne principale de la molécule, p.ex. polyxylylènes
  • C08G 61/12 - Composés macromoléculaires contenant d'autres atomes que le carbone dans la chaîne principale de la macromolécule
  • C09D 165/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison carbone-carbone dans la chaîne principale; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères 
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage

9.

THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT OF SAME, PREPREG, FIBER-REINFORCED COMPOSITE MATERIAL, AND HIGH-PRESSURE GAS CONTAINER

      
Numéro d'application JP2023033282
Numéro de publication 2024/075480
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-13
Date de publication 2024-04-11
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ikeuchi Kousuke
  • Wakahara Daiki
  • Matsumoto Nobuhiko

Abrégé

Disclosed are: a thermosetting resin composition which contains an epoxy resin (component (A)), a (meth)acrylate compound (component (B)), an epoxy resin curing agent (component (C)) and a thermal radical polymerization initiator (component (D)), wherein the component (B) contains a poly(butadiene-CO-acrylonitrile) having acryloyloxy groups at both ends (component (B1)) and a multifunctional (meth)acrylate (component (B2)) other than the component (B1), and the component (C) contains a boron amine complex; a cured product of this thermosetting resin composition; a prepreg; a fiber-reinforced composite material; and a high-pressure gas container which comprises this fiber-reinforced composite material.

Classes IPC  ?

  • C08G 59/72 - Complexes d'halogénures de bore
  • C08J 5/04 - Renforcement des composés macromoléculaires avec des matériaux fibreux en vrac ou en nappes
  • C08J 5/24 - Imprégnation de matériaux avec des prépolymères pouvant être polymérisés en place, p.ex. fabrication des "prepregs"
  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxy; Compositions contenant des dérivés des résines époxy
  • F16J 12/00 - Récipients sous pression en général
  • F17C 1/02 - Récipients sous pression, p.ex. bouteilles de gaz, réservoirs de gaz, cartouches échangeables comportant des renforcements

10.

RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD AND METHOD FOR PURIFYING RESIN

      
Numéro d'application 18277366
Statut En instance
Date de dépôt 2022-01-28
Date de la première publication 2024-04-04
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Horiuchi, Junya
  • Makinoshima, Takashi
  • Sato, Takashi
  • Echigo, Masatoshi

Abrégé

An object of the present invention is to provide a novel resin that is useful as a film forming material for lithography and the like. The problem can be solved by a resin containing a constituent unit represented by the following formula (1) or (1)′: An object of the present invention is to provide a novel resin that is useful as a film forming material for lithography and the like. The problem can be solved by a resin containing a constituent unit represented by the following formula (1) or (1)′: An object of the present invention is to provide a novel resin that is useful as a film forming material for lithography and the like. The problem can be solved by a resin containing a constituent unit represented by the following formula (1) or (1)′: wherein the variables in the formulas are as described in the specification.

Classes IPC  ?

  • C08G 8/20 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes de formaldéhyde, p.ex. de formaldéhyde formé in situ avec des phénols polyhydriques
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/26 - Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou

11.

DEOXYGENATION AGENT COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND DEOXYGENATION AGENT PACKAGE

      
Numéro d'application JP2023034309
Numéro de publication 2024/070891
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-21
Date de publication 2024-04-04
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s) Sato Daiki

Abrégé

A deoxygenation agent composition which contains an iron powder, an activated carbon, water, a halide of an alkaline earth metal, and an alkaline substance, wherein: the content of the activated carbon is 20 parts by mass to 40 parts by mass relative to 100 parts by mass of the content of the iron powder; the content of the water is 230 parts by mass to 370 parts by mass relative to 100 parts by mass of the content of the activated carbon; and the content of the halide of an alkaline earth metal is 50 parts by mass to 65 parts by mass relative to 100 parts by mass of the content of the water.

Classes IPC  ?

  • B01D 53/14 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par absorption
  • B01J 20/02 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique
  • B01J 20/30 - Procédés de préparation, de régénération ou de réactivation

12.

AMINO COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME, EPOXY RESIN CURING AGENT, AND EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT OF SAME

      
Numéro d'application JP2023033658
Numéro de publication 2024/063019
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-15
Date de publication 2024-03-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ohno Yuma
  • Akai Yuka
  • Kouno Kazuki

Abrégé

Provided are: an amino compound represented by general formula (1); a method for producing the amino compound; an epoxy resin curing agent comprising the amino compound; an epoxy resin composition; and a cured product of the epoxy resin composition. (1): R1-NH-X-NH-R2(wherein R1and R2each independently represent a hydrogen atom, or a monovalent group represented by general formula (2), in which at least one of R1and R2222n22m222-, or a bivalent group represented by general formula (3) or (4); n represents 2 to 6; and m represents 1 or 2.) (In the formula, a broken line indicates the presence or absence of a π bond; R3to R5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxy group; and * indicates a bonding hand.) (In the formula, * indicates a bonding hand.)

Classes IPC  ?

  • C07D 307/52 - Radicaux substitués par des atomes d'azote ne faisant par partie d'un radical nitro 
  • C08G 59/50 - Amines

13.

CARBON DIOXIDE ABSORBER

      
Numéro d'application 18273103
Statut En instance
Date de dépôt 2021-12-20
Date de la première publication 2024-03-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kouno, Kazuki
  • Kawashima, Yuki
  • Asai, Ryo
  • Kirino, Tomoaki

Abrégé

A carbon dioxide absorbent containing an amine compound (A) having a heterocyclic structure (X) selected from the group consisting of an oxygen-containing heterocyclic structure and a sulfur-containing heterocyclic structure, a content of the amine compound (A) being 65% by mass or more.

Classes IPC  ?

  • B01D 53/14 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par absorption
  • C07D 295/13 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de car avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes d'azote liés par des liaisons simples ou doubles avec les atomes d'azote du cycle et les atomes d'azote substituants liés à la même chaîne carbonée, qui n'est pas interrompue par des cycles carbocycliques à une chaîne acyclique saturée
  • C07D 307/14 - Radicaux substitués par des atomes d'azote ne faisant pas partie d'un radical nitro
  • C07D 307/52 - Radicaux substitués par des atomes d'azote ne faisant par partie d'un radical nitro 
  • C07D 309/04 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydro-carbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 333/20 - Radicaux substitués par des hétéro-atomes, autres que les halogènes, liés par des liaisons simples par des atomes d'azote

14.

AMINO COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SAME, EPOXY RESIN CURING AGENT, AND EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT OF SAME

      
Numéro d'application JP2023033656
Numéro de publication 2024/063018
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-15
Date de publication 2024-03-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ohno Yuma
  • Akai Yuka
  • Kouno Kazuki

Abrégé

2222-NH-R1(wherein R1represents a monovalent group represented by general formula (2); and X represents a phenylene group) (in the formula, a broken line indicates the presence or absence of a π-bond; R2to R4each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxy group; and * indicates a bonding hand.) (3): R1222-NH-R1(wherein R1 and X are as defined above.)

Classes IPC  ?

  • C07D 307/52 - Radicaux substitués par des atomes d'azote ne faisant par partie d'un radical nitro 
  • C08G 59/50 - Amines

15.

BISIMIDE PHENOL COMPOUND

      
Numéro d'application 18504785
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-08
Date de la première publication 2024-03-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hikichi, Tatsuya
  • Wakahara, Daiki
  • Ohnishi, Nobuyoshi

Abrégé

A bisimide phenyl ester acid dianhydride represented by the following formula (2): A bisimide phenyl ester acid dianhydride represented by the following formula (2): A bisimide phenyl ester acid dianhydride represented by the following formula (2): where R3 and R4 each independently represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms; each m is independently an integer of 1 to 4; and each A independently represents an aromatic ring or an alicyclic ring.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

16.

POLYIMIDE RESIN, POLYIMIDE VARNISH, POLYIMIDE FILM, AND TEMPORARY FIXING MATERIAL COMPOSITION

      
Numéro d'application JP2023032770
Numéro de publication 2024/058061
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-08
Date de publication 2024-03-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Abiko Yohei
  • Yasufuku Haruka
  • Yonehama Shinichi

Abrégé

A polyimide resin having a structural unit A derived from a tetracarboxylic dianhydride and a structural unit B derived from a diamine, wherein the structural unit A includes a structural unit (A1) derived from a compound represented by formula (a1), and the structural unit B includes a structural unit (B1) derived from a compound represented by formula (b1) and a structural unit (B2) derived from a compound represented by formula (b2) (Z is a diphenylfluorene structure or a hexafluoro diphenylpropane structure, and X1and X232322-.).

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C09D 179/08 - Polyimides; Polyesterimides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09J 179/08 - Polyimides; Polyesterimides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • H01L 21/304 - Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe

17.

METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE FILM

      
Numéro d'application JP2023033284
Numéro de publication 2024/058194
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-13
Date de publication 2024-03-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hoshino Shun
  • Muraya Takahiro
  • Suzuki Kouji
  • Ishii Kentaro
  • Hatakeyama Takuro

Abrégé

This method for producing a polyimide film comprises: a step 1 in which, at 50°C to 120°C, a solvent is removed from a varnish that contains the solvent and a polyimide precursor having a polyamic acid moiety, and the resulting varnish is dried; and a step 2 in which the resulting product is imidized by being held at 300°C to 400°C for 10 minutes to 120 minutes, and subsequently held at 420°C to 500°C. With respect to this method for producing a polyimide film, the polyamic acid moiety has a structural unit that is derived from a tetracarboxylic acid dianhydride and a structural unit that is derived from a diamine; and a diamine which enables the achievement of the structural unit derived from a diamine includes a diamine that has an ionization potential of 7.10 eV or more.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles

18.

AQUEOUS COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD AND THINNING PROCESSING METHOD FOR STAINLESS STEEL USING SAME

      
Numéro d'application JP2023033576
Numéro de publication 2024/058250
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-14
Date de publication 2024-03-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sugimoto Takashi
  • Ikeda Kaduhiko
  • Tamai Satoshi

Abrégé

The present invention addresses the problem of providing: an aqueous composition which enables the manufacturing of thinned stainless steel; such stainless steel and a manufacturing method therefor; and a thinning processing method for stainless steel. The problem has been solved by using an aqueous composition for thinning stainless steel, the aqueous composition containing 0.01-10 mass% of hydrogen peroxide, 12.5-40 mass% of halide ions, and 0-3.0 mass% of copper ions. According to the present invention, the thinning of stainless steel can be achieved by a simple method.

Classes IPC  ?

  • C23F 1/28 - Compositions acides pour les métaux du groupe du fer

19.

Miscellaneous Design

      
Numéro d'application 1781686
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2024-01-22
Date d'enregistrement 2024-01-22
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Chemicals used in industry; chemical substances for use to preserve foodstuffs, pharmaceuticals and medical instruments to prevent material from deteriorating by oxidation; oxygen absorbing agents; oxygen detecting agents.

20.

ANTI-GLARE LAMINATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

      
Numéro d'application JP2023032168
Numéro de publication 2024/057985
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-04
Date de publication 2024-03-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Suzuki Yuto
  • Kokubu Hiroko
  • Takasaki Masato
  • Fukunaga Yasutaka

Abrégé

The present invention makes it possible to provide an anti-glare laminate in which at least a base-material layer containing a polycarbonate resin (a1), a high-hardness resin layer containing a high-hardness resin (B), and a hard coat layer are disposed in the stated order, wherein the development surface area ratio (Sdr), arithmetic average height (Sa), and autocorrelation length (Sal) of the hard coat layer satisfy expressions (i) to (iii). (i): 0 ≤ Sdr ≤ 0.6. (ii): 0 ≤ Sa ≤ 0.16. (iii): 0 ≤ Sal ≤ 15.0.

Classes IPC  ?

  • B32B 27/36 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyesters
  • B32B 7/023 - Propriétés optiques
  • G02B 5/02 - Diffuseurs; Eléments afocaux

21.

METHOD FOR PRODUCING STAINLESS STEEL, WEIGHT REDUCTION PROCESSING METHOD, STAINLESS STEEL AND AQUEOUS COMPOSITION

      
Numéro d'application JP2023033575
Numéro de publication 2024/058249
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-14
Date de publication 2024-03-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sugimoto Takashi
  • Ikeda Kaduhiko
  • Tamai Satoshi

Abrégé

The present invention provides: low-density stainless steel and a method for producing the same; a weight reduction processing method for stainless steel; and an aqueous composition, etc. that is useful in weight reduction of stainless steel. The above problem was solved by a method for producing stainless steel, etc. that includes a weight reduction processing step that reduces the weight of stainless steel using an aqueous composition, the density of the stainless steel that has undergone weight reduction processing being less than 7.4 g/cm3. Reduction of the weight and lowering of the density of stainless steel can be achieved by an easy method in accordance with the present invention.

Classes IPC  ?

  • C23F 1/28 - Compositions acides pour les métaux du groupe du fer

22.

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE RESIN COMPOSITION, RESIN FILM, AND ELECTRONIC DEVICE

      
Numéro d'application 18038574
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-10
Date de la première publication 2024-03-14
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sato, Yumi
  • Miyahara, Daichi
  • Umeki, Miho

Abrégé

A photosensitive polyimide resin composition containing: a ring-closed polyimide resin (A) having a structure represented by Formula (1) and a weight average molecular weight of 70000 or less; and a polyfunctional radically polymerizable compound (B) having 4 or more and 100 or less radically polymerizable functional groups. A photosensitive polyimide resin composition containing: a ring-closed polyimide resin (A) having a structure represented by Formula (1) and a weight average molecular weight of 70000 or less; and a polyfunctional radically polymerizable compound (B) having 4 or more and 100 or less radically polymerizable functional groups.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons

23.

PHOTOCURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND OPTICAL MATERIAL CONTAINING SAID CURED PRODUCT

      
Numéro d'application 18273244
Statut En instance
Date de dépôt 2022-01-11
Date de la première publication 2024-03-14
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kinjo, Kota
  • Namiki, Kosuke
  • Furukawa, Kikuo
  • Koshiishi, Eiji

Abrégé

According to the present invention, there can be provided a photocurable composition comprising a sulfur (a) having a cyclic structure represented by the following formula (1), an episulfide compound (b), and a photopolymerization initiator (c), wherein the content of the sulfur (a) is 1 to 28 parts by mass, with respect to the total mass (100 parts by mass) of the sulfur (a) and the episulfide compound (b): According to the present invention, there can be provided a photocurable composition comprising a sulfur (a) having a cyclic structure represented by the following formula (1), an episulfide compound (b), and a photopolymerization initiator (c), wherein the content of the sulfur (a) is 1 to 28 parts by mass, with respect to the total mass (100 parts by mass) of the sulfur (a) and the episulfide compound (b):

Classes IPC  ?

  • C08L 81/04 - Polysulfures
  • C08J 3/28 - Traitement par ondes énergétiques ou par rayonnement de particules
  • C08K 5/375 - Sulfures contenant des cycles aromatiques à six chaînons
  • C08K 5/45 - Composés hétérocycliques comportant du soufre dans le cycle
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques

24.

FOAMED-RESIN-FORMABLE COMPOSITION, POLYUREA-BASED RESIN FOAM BODY, AND POLYUREA-BASED RESIN FOAM BODY PRODUCTION METHOD

      
Numéro d'application JP2023029901
Numéro de publication 2024/053366
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-18
Date de publication 2024-03-14
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kawashima Yuki
  • Kouno Kazuki

Abrégé

This foamed-resin-formable composition is for obtaining a polyurea-based resin foam body, and contains a reactant (A) between a cyclic polyamine compound (a1) and carbon dioxide, a polyisocyanate compound (B), and an aromatic polyamine compound (C). This polyurea-based resin foam body is obtained by foaming and molding the foamed-resin-formable composition. This polyurea-based resin foam body production method comprises a step for foaming and molding the foamed-resin-formable composition. According to the present invention, it is possible to obtain a polyurea-based resin foam body which can reduce environmental load and which has improved foaming ability.

Classes IPC  ?

  • C08G 18/00 - Polymérisats d'isocyanates ou d'isothiocyanates
  • C08G 18/32 - Composés polyhydroxylés; Polyamines; Hydroxyamines
  • C08G 101/00 - Fabrication de produits cellulaires

25.

POLYESTER RESIN AND METHOD FOR PRODUCING POLYESTER RESIN

      
Numéro d'application 18500152
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-02
Date de la première publication 2024-03-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Shinohara, Katsumi
  • Sato, Kazua
  • Ikarashi, Hiroki

Abrégé

A polyester resin containing: a diol constituent unit containing a unit a1 derived from spiroglycol represented by formula (1) and a unit a2 derived from ethylene glycol; and a dicarboxylic acid constituent unit containing a unit b derived from terephthalic acid and/or an ester thereof. A content of the unit a1 is from 5 to 60 mol % and a content of the unit a2 is from 30 to 95 mol %, based on a total amount of the unit a1 and the unit a2. A content of the unit b is from 80 to 100 mol % based on a total amount of the dicarboxylic acid constituent unit. A polyester resin containing: a diol constituent unit containing a unit a1 derived from spiroglycol represented by formula (1) and a unit a2 derived from ethylene glycol; and a dicarboxylic acid constituent unit containing a unit b derived from terephthalic acid and/or an ester thereof. A content of the unit a1 is from 5 to 60 mol % and a content of the unit a2 is from 30 to 95 mol %, based on a total amount of the unit a1 and the unit a2. A content of the unit b is from 80 to 100 mol % based on a total amount of the dicarboxylic acid constituent unit.

Classes IPC  ?

  • C08G 63/672 - Acides dicarboxyliques et composés dihydroxylés

26.

ANTI-GLARE LAMINATE

      
Numéro d'application JP2023030442
Numéro de publication 2024/048406
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-24
Date de publication 2024-03-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kamei Shota
  • Yamagishi Hiroaki
  • Kajimoto Chihiro

Abrégé

The present invention provides an anti-glare laminate comprising at least a substrate layer and an anti-glare layer. The anti-glare layer comprises at least a multifunctional (meth)acryloyl group-containing monomer (A), a (meth)acryloyl group-containing monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and silica particles (D). The average particle diameter of the silica particles is 1 to 7 µm, and the silica particles have an oil absorption of 30 to 250 mL/100 g. The proportion of component (A) is 40 to 90 mass% and the proportion of component (B) is 10 to 60 mass% using 100 mass% for the total of component (A) and component (B). The double bond equivalent of component (B) is not greater than 400 g/mol.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/02 - Diffuseurs; Eléments afocaux
  • B32B 7/023 - Propriétés optiques
  • B32B 27/30 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant une résine acrylique
  • G02B 1/11 - Revêtements antiréfléchissants
  • G02B 5/28 - Filtres d'interférence

27.

ANTI-GLARE LAMINATE

      
Numéro d'application JP2023030443
Numéro de publication 2024/048407
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-24
Date de publication 2024-03-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kamei Shota
  • Yamagishi Hiroaki
  • Kajimoto Chihiro

Abrégé

The present invention makes it possible to provide an anti-glare laminate including at least a substrate layer and an anti-glare layer, wherein the haze (H) of the anti-glare laminate and the ten point average roughness (Rzjis) measured when the reference length of the anti-glare layer is set to 0.8 mm satisfy formula (1). Formula (1): H/Rzjis ≥ 4.0

Classes IPC  ?

  • G02B 5/02 - Diffuseurs; Eléments afocaux
  • B32B 7/023 - Propriétés optiques
  • B32B 27/30 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant une résine acrylique
  • G02B 1/11 - Revêtements antiréfléchissants

28.

ADHESIVE FILM, HEAT MOLDED BODY AND METHOD FOR PRODUCING ADHESIVE FILM

      
Numéro d'application JP2023030649
Numéro de publication 2024/048432
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-25
Date de publication 2024-03-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s) Kakeya Fumiaki

Abrégé

The present invention provides: an adhesive film which exhibits excellent moldability; a heat molded body; and a method for producing an adhesive film. This adhesive film comprises a base material film that contains a polycarbonate, a primer layer that is arranged on at least one surface of the base material film, and an adhesive layer that is arranged on a surface on the reverse side of the primer layer from the base material film; and the primer layer is formed of a primer layer composition that contains an oligomer diol.

Classes IPC  ?

  • C09J 7/50 - Adhésifs sous forme de films ou de pellicules caractérisés par une couche d’apprêt entre le support et l’adhésif
  • C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
  • C09J 7/25 - Matières plastiques; Matières plastiques métallisées à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions autres que celles faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C09J 7/38 - Adhésifs sensibles à la pression
  • C09J 133/04 - Homopolymères ou copolymères d'esters

29.

COMPOSITION, RESIN COMPOSITION, AND CURED PRODUCT

      
Numéro d'application JP2023030852
Numéro de publication 2024/048481
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-28
Date de publication 2024-03-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Asai Ryo
  • Kitamura Mitsuharu

Abrégé

Provided are a composition, and a resin composition and cured product using the composition. The composition includes an amino group and a cyclic ether structure, and contains a compound having a molecular weight of 1000 or less, and a less-hindered phenolic antioxidant.

Classes IPC  ?

  • C09K 15/20 - Compositions anti-oxydantes; Compositions inhibant les modifications chimiques contenant des composés organiques contenant de l'azote et de l'oxygène
  • C07D 307/14 - Radicaux substitués par des atomes d'azote ne faisant pas partie d'un radical nitro
  • C08G 59/50 - Amines
  • C08K 5/13 - Phénols; Phénolates
  • C08K 5/17 - Amines; Composés d'ammonium quaternaire
  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxy; Compositions contenant des dérivés des résines époxy
  • C08L 101/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés

30.

METHOD FOR PRODUCING POLYCARBONATE RESIN MOLDED PRODUCT

      
Numéro d'application JP2023030865
Numéro de publication 2024/048485
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-28
Date de publication 2024-03-07
Propriétaire
  • MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
  • MITSUBISHI GAS CHEMICAL TRADING, INC. (Japon)
Inventeur(s) Nagai Satoshi

Abrégé

Provided is a method for producing a polycarbonate resin molded product by molding a polycarbonate resin using an injection molding machine, comprising: a step for starve feeding polycarbonate resin particulates to an injection molding machine; a step for generating a plasticized resin by plasticizing the particulates inside the injection molding machine; and a step for producing a molded product from the plasticized resin. The water content of the particulates which are starve fed to the injection molding machine is not more than 0.3 wt%.

Classes IPC  ?

  • B29C 45/00 - Moulage par injection, c. à d. en forçant un volume déterminé de matière à mouler par une buse d'injection dans un moule fermé; Appareils à cet effet

31.

CELLULOSE FIBERS, RESIN COMPOSITION, MOLDED ARTICLE, AND METHOD FOR PRODUCING CELLULOSE FIBERS

      
Numéro d'application JP2023031408
Numéro de publication 2024/048626
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-30
Date de publication 2024-03-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kimura Ryutaro
  • Sugiyama Masahide
  • Miyahira Tetsurou

Abrégé

Provided are a resin composition, a molded article, and a method for producing cellulose fibers. When dyed by a dye, the cellulose fibers have a ratio (L'/L) of the skin layer brightness (L') and the core layer brightness (L) of 0.70 or less. The skin layer brightness (L') and the core layer brightness (L) of the cellulose fiber cross section are obtained by measuring the R, G, and B values of each of the layers, and calculating using the formula of [(maximum value of the R, G, and B values)/255] * 100 [%].

Classes IPC  ?

  • D01F 2/00 - Filaments, ou similaires, artificiels, à un seul composant, formés de cellulose ou de dérivés de la cellulose; Leur fabrication
  • C08B 16/00 - Régénération de la cellulose
  • C08J 5/04 - Renforcement des composés macromoléculaires avec des matériaux fibreux en vrac ou en nappes

32.

MULTILAYER BODY AND MOLDED ARTICLE

      
Numéro d'application JP2023029797
Numéro de publication 2024/043180
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-18
Date de publication 2024-02-29
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yamaguchi Madoka
  • Izumi Ryunosuke

Abrégé

The present invention provides: a multilayer body wherein the occurrence of spring-back can be suppressed even if the multilayer body is subjected to hot forming; and a molded article. The multilayer body comprises a polycarbonate resin layer (X) which is formed of a resin composition (x) that contains a polycarbonate resin, and an acrylic resin layer (Y) which is formed of a resin composition (y) that contains an acrylic resin. With respect to the polycarbonate resin contained in the resin composition (x), the ratio Mw/Mn of the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene as determined by gel permeation chromatography to the number average molecular weight (Mn) is 2.80 to 4.40, and/or 60 to 93 parts by mass of a polycarbonate resin (x1) that have a viscosity-average molecular weight of 24,000 to 50,000 and 7 to 40 parts by mass of a polycarbonate oligomer (x2) that has a viscosity-average molecular weight of 2,000 to 10,000 are contained.

Classes IPC  ?

  • B32B 27/36 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyesters
  • C08L 33/10 - Homopolymères ou copolymères des esters de l'acide méthacrylique
  • C08L 69/00 - Compositions contenant des polycarbonates; Compositions contenant des dérivés des polycarbonates
  • B32B 7/027 - Propriétés thermiques

33.

POLYCARBONATE RESIN, RESIN SOLUTION, AND FILM

      
Numéro d'application JP2023030291
Numéro de publication 2024/043270
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-23
Date de publication 2024-02-29
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s) Goto Toshihito

Abrégé

A polycarbonate resin provided according to one embodiment of the present invention comprises a constituent unit (A) derived from a monomer represented by formula (1), a constituent unit (B) derived from a monomer represented by formula (2), a constituent unit (C) derived from a monomer represented by formula (3), and/or a constituent unit (D) derived from a monomer represented by formula (4).

Classes IPC  ?

  • C08G 64/04 - Polycarbonates aromatiques
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C08L 69/00 - Compositions contenant des polycarbonates; Compositions contenant des dérivés des polycarbonates

34.

SYSTEM FOR PRODUCING HYDROCARBON COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING HYDROCARBON COMPOUND

      
Numéro d'application 18272425
Statut En instance
Date de dépôt 2022-02-24
Date de la première publication 2024-02-29
Propriétaire
  • MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. (Japon)
  • MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Marushima, Shinya
  • Irie, Kenichi
  • Kamo, Takahiro
  • Tanioka, Tadateru
  • Ando, Yoshimasa
  • Tsutsumi, Atsushi

Abrégé

Provided is a production system for producing a hydrocarbon compound, which is a hydrocarbon compound production system capable of managing an environmental load reducing effect derived from a raw material. The hydrocarbon compound production system includes a hydrogen production device that generates hydrogen, a carbon dioxide supply device that supplies a carbon dioxide, and a hydrocarbon compound production device that generates a hydrocarbon compound from each of the hydrogen generated by the hydrogen production device and the carbon dioxide supplied from the carbon dioxide supply device, wherein, on the basis of at least either one of respective environmental indicators of the hydrogen generated by the hydrogen production device and the carbon dioxide supplied from the carbon dioxide supply device, an environmental load level of the hydrocarbon compound generated by the hydrocarbon compound production device is categorized.

Classes IPC  ?

  • C10G 2/00 - Production de mélanges liquides d'hydrocarbures de composition non définie à partir d'oxydes de carbone

35.

MANUFACTURING METHOD FOR POLYIMIDE RESIN VARNISH

      
Numéro d'application JP2023029067
Numéro de publication 2024/034634
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-09
Date de publication 2024-02-15
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hatakeyama Takuro
  • Muraya Takahiro

Abrégé

A method of manufacturing a polyimide resin varnish comprises step (A) described below and step (B) described below and is under a dry gas environment from the start time of step (A) to the end time of step (B). Step (A) is for polymerizing, in an organic solvent and at 100 to 210°C, a tetracarboxylic acid component including an aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride mixture and a diamine component including an aromatic diamine, and obtaining a polymer, and step (B) is for reacting, at 60 to 130°C, an alkoxysilylamine compound with the polymer obtained in step (A).

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • B32B 27/34 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyamides

36.

COMPOSITION, AND OPTICAL MATERIAL AND LENS USING SAME

      
Numéro d'application 18269091
Statut En instance
Date de dépôt 2021-10-04
Date de la première publication 2024-02-15
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Imagawa, Yousuke
  • Takemura, Kouhei
  • Sugihara, Ryosuke
  • Sado, Mariko

Abrégé

A composition that includes Compound (a) and Compound (b). Compound (a) is represented by formula (1): A composition that includes Compound (a) and Compound (b). Compound (a) is represented by formula (1): A composition that includes Compound (a) and Compound (b). Compound (a) is represented by formula (1): where: Ar represents an aromatic ring; m represents an integer of 2 to 8; n represents an integer of 0 to 6, provided that m+n is the number of carbon atoms constituting the aromatic ring, or less; and R1 each independently represents an alkylthio group, a halogen group, a hydroxy group, a dialkylthiocarbamoyl group, or a dialkylcarbamoylthio group. Compound (b) is represented by formula (2): A composition that includes Compound (a) and Compound (b). Compound (a) is represented by formula (1): where: Ar represents an aromatic ring; m represents an integer of 2 to 8; n represents an integer of 0 to 6, provided that m+n is the number of carbon atoms constituting the aromatic ring, or less; and R1 each independently represents an alkylthio group, a halogen group, a hydroxy group, a dialkylthiocarbamoyl group, or a dialkylcarbamoylthio group. Compound (b) is represented by formula (2): A composition that includes Compound (a) and Compound (b). Compound (a) is represented by formula (1): where: Ar represents an aromatic ring; m represents an integer of 2 to 8; n represents an integer of 0 to 6, provided that m+n is the number of carbon atoms constituting the aromatic ring, or less; and R1 each independently represents an alkylthio group, a halogen group, a hydroxy group, a dialkylthiocarbamoyl group, or a dialkylcarbamoylthio group. Compound (b) is represented by formula (2): where p represents an integer of 0 to 4, and q represents an integer of 0 to 2.

Classes IPC  ?

  • C08G 75/08 - Polythioéthers à partir de thioéthers cycliques à partir de thiiranes
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques

37.

METHOD FOR MANUFACTURING METAL FOIL CLAD LAMINATED SHEET, RESIN COMPOSITION, RESIN COMPOSITE SHEET, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

      
Numéro d'application JP2023023658
Numéro de publication 2024/034276
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-26
Date de publication 2024-02-15
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Okumura Keisuke
  • Komatsu Kouki
  • Hasebe Keiichi
  • Hirano Shunsuke

Abrégé

The present invention provides a method for manufacturing a metal foil clad laminated sheet having excellent mass productivity and in which peeling of a resin composition layer and a metal foil is suppressed, as well as a resin composition, a resin composite sheet, a method for manufacturing a printed wiring board, and a method for manufacturing a semiconductor device. A method for manufacturing a metal foil clad laminated sheet in which a resin composite sheet C including a metal foil and a resin composition layer disposed on one side of the metal foil is laminated on the surface of a circuit board A including an insulating layer and a conductor circuit layer, using a vacuum laminating device, the method for manufacturing a metal foil clad laminated sheet comprising the following steps. Step 1: A step for obtaining a circuit board B by reducing the content of moisture and/or a solvent included in the circuit board A. Step 2: A step for obtaining a laminated board D by placing, heating, and pressurizing in a reduced pressure or vacuum environment the circuit board B and the resin composite sheet C. Step 3: A step for obtaining a laminated board E by smoothing the surface of the resin composition layer of the laminated board D.

Classes IPC  ?

  • H05K 3/46 - Fabrication de circuits multi-couches
  • B32B 15/08 - Produits stratifiés composés essentiellement de métal comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique de résine synthétique
  • H05K 1/03 - Emploi de matériaux pour réaliser le substrat

38.

ROUGHENING TREATMENT METHOD FOR STAINLESS STEEL SURFACE, METHOD FOR MANUFACTURING ROUGHENED STAINLESS STEEL, AND AQUEOUS COMPOSITION USED IN SAID METHODS

      
Numéro d'application 18266624
Statut En instance
Date de dépôt 2021-12-13
Date de la première publication 2024-02-08
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ikeda, Kazuhiko
  • Fujii, Tomoko
  • Matsunaga, Hiroshi

Abrégé

The problem of the present invention is to provide a roughening treatment method in which the surface of stainless steel is sufficiently roughened in an efficient manner with few steps, while maintaining good surface quality of the stainless steel after treatment. The above problem is solved by a roughening treatment method for stainless steel, which comprises a roughening treatment step that uses a first aqueous composition, and a post-treatment step that uses a second aqueous composition. Namely, the roughening treatment step is to roughen the surface of stainless steel containing copper or a metal having an ionization tendency larger than copper by bringing the first aqueous composition into contact with the surface, wherein the first aqueous composition comprises 0.1% to 20% by mass of hydrogen peroxide based on the total amount of the first aqueous composition, 0.25% to 40% by mass of copper ions based on the total amount of the first aqueous composition, and 1% to 30% by mass of halide ions based on the total amount of the first aqueous composition, wherein the post-treatment step is to perform a post-treatment by bringing the second aqueous composition into contact, under acidic conditions, with the surface of the stainless steel that has been treated in the roughening treatment step, and wherein the second aqueous composition comprises at least a peroxide.

Classes IPC  ?

  • C23F 1/28 - Compositions acides pour les métaux du groupe du fer

39.

AQUEOUS COMPOSITION, STAINLESS STEEL SURFACE ROUGHENING METHOD USING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING ROUGHENED STAINLESS STEEL

      
Numéro d'application 18266888
Statut En instance
Date de dépôt 2021-12-13
Date de la première publication 2024-02-08
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ikeda, Kazuhiko
  • Fujii, Tomoko
  • Matsunaga, Hiroshi

Abrégé

The problem of the present invention is to provide an aqueous composition with which the surface of stainless steel is sufficiently roughened in an efficient manner with few steps, while maintaining good quality (e.g., thickness) of the stainless steel after treatment. The above problem is solved by the following aqueous composition for roughening the surface of stainless steel. Namely, the aqueous composition comprises 0.1% to 10% by mass of hydrogen peroxide based on the total amount of the aqueous composition, 1% to 30% by mass of halide ions based on the total amount of the aqueous composition, and 0% to 3% by mass of copper ions based on the total amount of the aqueous composition.

Classes IPC  ?

  • C23F 1/28 - Compositions acides pour les métaux du groupe du fer

40.

MULTILAYER BODY

      
Numéro d'application JP2023027853
Numéro de publication 2024/029473
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-28
Date de publication 2024-02-08
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ishii Hiroki
  • Konomi Keisuke

Abrégé

Provided is a multilayer body which has, on a surface of a thin polycarbonate film, a protection film that has an adhesive layer and in which an orange peel texture is unlikely to occur on the surface of the polycarbonate film when the protection film is peeled. A multilayer body according to the present invention has a polycarbonate film that has a thickness of 20-75 μm and a protection film that is provided on at least one surface of the polycarbonate film, wherein the protection film has an adhesive layer that can be peeled from the polycarbonate film and a layer that contains a resin, the adhesive layer is in contact with the polycarbonate film, and when the polycarbonate film is peeled from the multilayer body, the arithmetic mean undulation Ma of undulations in the adhesive layer, excluding undulations that have an undulation width of less than 500 μm or more than 3,000 μm, is 0.01-0.12 μm.

Classes IPC  ?

  • B32B 27/36 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyesters
  • B32B 7/023 - Propriétés optiques
  • B32B 7/06 - Liaison entre couches permettant une séparation sans difficultés
  • B32B 27/00 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
  • B32B 27/32 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyoléfines
  • C09J 7/24 - Matières plastiques; Matières plastiques métallisées à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C09J 7/25 - Matières plastiques; Matières plastiques métallisées à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions autres que celles faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone

41.

RESIN COMPOSITION, FILM, POLARIZING SHEET, RESIN COMPOSITION PRODUCTION METHOD, AND FILM MANUFACTURING METHOD

      
Numéro d'application JP2023028063
Numéro de publication 2024/029515
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-08-01
Date de publication 2024-02-08
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s) Kosaka Megumu

Abrégé

Provided are: a resin composition which can suppress occurrence of stains on a molding roller, and with which foreign matter is unlikely to be formed in a film; a film; a polarizing sheet; a resin composition production method; and a film manufacturing method. This resin composition contains, with respect to 100 parts by mass of a polyamide resin, 0.05-10 parts by mass of a compound having 1-3 cyclic ether structures per molecule, and exhibits a haze of 10% or less when being formed into a 200 μm-thick film.

Classes IPC  ?

  • C08L 77/00 - Compositions contenant des polyamides obtenus par des réactions créant une liaison amide carboxylique dans la chaîne principale; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C08K 3/013 - Charges, pigments ou agents de renforcement
  • C08K 5/1515 - Cycles à trois chaînons
  • C08K 5/1525 - Cycles à quatre chaînons
  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxy; Compositions contenant des dérivés des résines époxy

42.

RECESS ETCHING SOLUTION, RECESS ETCHING METHOD, AND SURFACE-TREATED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD

      
Numéro d'application 18255975
Statut En instance
Date de dépôt 2021-12-06
Date de la première publication 2024-02-08
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Okabe, Satoshi
  • Oie, Toshiyuki
  • Adaniya, Tomoyuki
  • Hommo, Yoshihiro
  • Chen, Chung-Yi
  • Wang, Po-Hung

Abrégé

A recess etching solution for recess etching a metal wiring in a semiconductor substrate manufacturing process; and a recess etching method employing the same. The recess etching solution is for applying recess etching to a surface of a cobalt-containing metal layer embedded in a via or a trench formed in a semiconductor substrate, and contains (A) an organic acid, one of or both of (B) a nitrogen-containing heterocyclic compound and (C) an organic solvent, and (D) water. The recess etching method includes applying recess etching to a surface of a cobalt-containing metal layer by bringing the recess etching solution into contact with the surface of the cobalt-containing metal layer embedded in a via or a trench formed in a semiconductor substrate.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
  • C09K 13/00 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage

43.

RESIN COMPOSITION, PREPREG, RESIN SHEET, LAMINATE, METAL FOIL-CLAD LAMINATE, AND PRINTED WIRING BOARD

      
Numéro d'application 18276539
Statut En instance
Date de dépôt 2022-01-26
Date de la première publication 2024-02-08
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ogashiwa, Takaaki
  • Miyahira, Tetsuro
  • Takamura, Tatsuro
  • Ito, Sayaka

Abrégé

An object is to provide a resin composition having a high permittivity and a low dissipation factor, and also a low coefficient of thermal expansion and a good appearance, and suitably used for producing an insulation layer of a printed wiring board, and a prepreg, a resin sheet, a laminate, a metal foil-clad laminate, and a printed wiring board obtainable by using the resin composition. The resin composition contains: (A) BaTi4O9; (B) a filler different from the BaTi4O9 (A); and (C) a thermosetting resin; wherein a median particle size of the BaTi4O9 (A) is 0.10 to 1.00 μm, and a volume ratio of the BaTi4O9 (A) to the filler (B), the BaTi4O9(A):the filler (B), ranges from 15:85 to 80:20.

Classes IPC  ?

  • C08L 79/08 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08K 7/18 - Sphères pleines inorganiques
  • C08K 3/22 - Oxydes; Hydroxydes de métaux
  • C08J 5/24 - Imprégnation de matériaux avec des prépolymères pouvant être polymérisés en place, p.ex. fabrication des "prepregs"
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • H05K 1/03 - Emploi de matériaux pour réaliser le substrat

44.

METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD

      
Numéro d'application JP2023027476
Numéro de publication 2024/029431
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-27
Date de publication 2024-02-08
Propriétaire
  • MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
  • MGC ELECTROTECHNO CO., LTD. (Japon)
  • YONEZAWA DIA ELECTRONICS CO.,INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kaimori Yoshiyasu
  • Kitamura Shinya
  • Sato Toshinori
  • Muto Tomohiro
  • Nohara Kimiyuki

Abrégé

After laminating an insulation layer (14) and an electrolytic copper foil (15) in this order on an inner layer board (13), a resist pattern (17B) is formed on the electrolytic copper foil (15). Next, using the resist pattern (17B) as an etching resist, the electrolytic copper foil (15) is etched using an etching liquid containing sulfuric acid and hydrogen peroxide, and a mask for via hole formation (18) is formed. Subsequently, the resist pattern (17B) is removed, the part of the insulation layer (14) not covered by the mask for via hole formation (18) is removed using a laser, and via holes (14A) are formed.

Classes IPC  ?

  • H05K 3/46 - Fabrication de circuits multi-couches
  • H05K 3/42 - Trous de passage métallisés

45.

RESIN COMPOSITION AND MOLDED ARTICLE

      
Numéro d'application JP2023022541
Numéro de publication 2024/024329
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-19
Date de publication 2024-02-01
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ishihara Tomita Eri
  • Shimada Nakamura Jin
  • Oda Takafumi

Abrégé

The present invention provides a resin composition which contains an acid-modified polyolefin at a ratio of 0.1 part by mass to 50 parts by mass relative to 100 parts by mass of a polyamide resin, wherein: the polyamide resin comprises a diamine unit and a dicarboxylic acid unit; the diamine unit contains 70% by mole or more of a constituent unit that is derived from a xylylenediamine; and the dicarboxylic acid unit contains 70% by mole or more of a constituent unit that is derived from an α, ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having 11 to 20 carbon atoms.

Classes IPC  ?

  • C08L 77/06 - Polyamides dérivés des polyamines et des acides polycarboxyliques
  • C08G 69/26 - Polyamides dérivés, soit des acides amino-carboxyliques, soit de polyamines et d'acides polycarboxyliques dérivés de polyamines et d'acides polycarboxyliques
  • C08L 23/26 - Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères d'hydrocarbures aliphatiques non saturés ne possédant qu'une seule liaison double carbone-carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères  modifiées par post-traitement chimique

46.

RESIN COMPOSITION AND MOLDED ARTICLE

      
Numéro d'application JP2023022542
Numéro de publication 2024/024330
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-19
Date de publication 2024-02-01
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ishihara Tomita Eri
  • Shimada Nakamura Jin
  • Oda Takafumi

Abrégé

A resin composition that contains reinforcing fibers in a proportion of 10-300 mass parts per 100 mass parts of a xylylenediamine polyamide resin, in which the xylylenediamine polyamide resin contains diamine units and dicarboxylic acid units, the diamine units contain 70 mol% or more of structural units derived from xylylenediamine, the dicarboxylic acid units contain 70 mol% or more of structural units derived from C11-20 α,ω-straight-chain aliphatic dicarboxylic acids, and the relative viscosity of the xylylenediamine polyamide resin is 1.6 to 2.4.

Classes IPC  ?

  • C08L 77/06 - Polyamides dérivés des polyamines et des acides polycarboxyliques
  • C08G 69/26 - Polyamides dérivés, soit des acides amino-carboxyliques, soit de polyamines et d'acides polycarboxyliques dérivés de polyamines et d'acides polycarboxyliques
  • C08J 5/04 - Renforcement des composés macromoléculaires avec des matériaux fibreux en vrac ou en nappes
  • C08K 7/02 - Fibres ou "whiskers"

47.

RESIN COMPOSITION, CURED OBJECT, PREPREG, METAL-FOIL-CLAD LAMINATE, RESIN COMPOSITE SHEET, PRINTED WIRING BOARD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

      
Numéro d'application JP2023026752
Numéro de publication 2024/024664
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-21
Date de publication 2024-02-01
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kamata Yuji
  • Hasebe Keiichi

Abrégé

Provided are: a resin composition comprising a heat-curable compound and a fluororesin filler and attaining low-dielectric properties and excellent moist heat resistance; and a cured object, a prepreg, a metal-foil-clad laminate, a resin composite sheet, a printed wiring board, and a semiconductor device. The resin composition comprises a fluororesin filler (A) having an acidic group and/or a basic group, a thermoplastic elastomer (B) having a basic group and/or an acidic group, which is opposite to the acidic group and/or the basic group of the fluororesin filler (A), and a heat-curable compound (C) compatible with the thermoplastic elastomer (B).

Classes IPC  ?

  • C08L 27/12 - Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un halogène; Compositions contenant des dérivés de tels polymères non modifiées par un post-traitement chimique contenant du fluor
  • B32B 15/08 - Produits stratifiés composés essentiellement de métal comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique de résine synthétique
  • C08J 5/10 - Renforcement des composés macromoléculaires avec des matériaux fibreux en vrac ou en nappes caractérisé par les additifs utilisés dans le mélange de polymères
  • C08L 21/00 - Compositions contenant des caoutchoucs non spécifiés
  • H05K 1/03 - Emploi de matériaux pour réaliser le substrat

48.

RESIN COMPOSITION CONTAINING BIFUNCTIONAL PHENYLENE ETHER RESIN

      
Numéro d'application JP2023027019
Numéro de publication 2024/024730
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-24
Date de publication 2024-02-01
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Miyamoto Makoto
  • Arai Yuji
  • Iijima Takayuki

Abrégé

188 is represented by general formula (3).

Classes IPC  ?

  • C08F 299/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des interréactions de polymères impliquant uniquement des réactions entre des liaisons non saturées carbone-carbone, en l'absence de monomères non macromoléculaires

49.

RESIN OBTAINED FROM CYCLIC DIOL COMPOUND, AND OPTICAL LENS CONTAINING SAME

      
Numéro d'application JP2023026497
Numéro de publication 2024/024602
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-20
Date de publication 2024-02-01
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kato Noriyuki
  • Nishimori Katsushi
  • Motegi Atsushi
  • Ishihara Kentaro
  • Watanabe Takafumi
  • Harada Yutaro

Abrégé

The present invention can provide a resin that contains a constitutional unit (A) derived from a monomer represented by general formula (1) and that is a polycarbonate resin or a polyester carbonate resin. [Compound 1] [In the formula, each R1is independently a hydrogen atom, a C1-4 alkyl group, or a phenyl group. X is a direct bond or a divalent group that is represented by formula (Y). [Compound 2] [In the formula, each R2and each R3is independently a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, or each R2and each R3 may bind to one another to form a ring together with an adjacent carbon atom, and the ring may be substituted by an alkyl group. n is 0 or 1. * represents a binding position.]]

Classes IPC  ?

  • C08G 64/02 - Polycarbonates aliphatiques
  • C08G 63/672 - Acides dicarboxyliques et composés dihydroxylés
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques

50.

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE CLEANING COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE USING SAME

      
Numéro d'application JP2023027299
Numéro de publication 2024/024811
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-26
Date de publication 2024-02-01
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s) Oie Toshiyuki

Abrégé

Provided is a semiconductor substrate cleaning composition that has a high Ti/W etching selectivity and can reduce damage to oxide films. The semiconductor substrate cleaning composition contains (A) an oxidizing agent and (B) a metal tungsten corrosion inhibitor. The semiconductor substrate cleaning composition does not contain (C) a fluorine compound, or further contains less than 0.005 mass% of a fluorine compound on the basis of the total mass of the semiconductor substrate cleaning composition, and has a pH of 7 or less.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
  • H01L 21/304 - Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe

51.

METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE

      
Numéro d'application 18038770
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-10
Date de la première publication 2024-01-25
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Miyahara, Daichi
  • Sato, Yumi
  • Umeki, Miho

Abrégé

A method for producing a patterned substrate, including: step (a) of forming a film composed of a photosensitive polyimide resin composition on a substrate; step (b) of exposing the film; and step (c) of developing the exposed film using a developer to form a pattern formed of the film on the substrate, wherein a relative energy difference (RED) between the developer and the film before exposure is 0.50 or greater and 1.4 or less.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09D 179/08 - Polyimides; Polyesterimides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

52.

PRESSURE VESSEL AND METHOD FOR PRODUCING PRESSURE VESSEL

      
Numéro d'application 18266100
Statut En instance
Date de dépôt 2021-10-06
Date de la première publication 2024-01-25
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Matsumoto, Nobuhiko
  • Ikeuchi, Kousuke
  • Mitadera, Jun

Abrégé

Provided are a pressure vessel with excellent gas barrier properties, less likely to cause cracks, and excellent internal pressure fatigue properties, and a production method thereof. The pressure vessel includes a layer at least in the body part, and the layer includes a fiber-reinforced resin material that contains a resin component and a continuous reinforcing fiber. A ratio (inner region/outer region) of the continuous reinforcing fiber content (vol. %) in the inner region to a continuous reinforcing fiver content (vol. %) in the outer region is from 0.80 to 0.99, where the inner region is up to 0.1% from the inner side of the layer in the thickness direction, and the outer region is up to 0.1% from the outer side of the layer in the thickness direction, and the continuous reinforcing fiber content (vol. %) in the central region of the layer, which is between up to more than 0.1% from the inner side in the thickness direction and up to more than 0.1% from the outer side in the thickness direction, is from 40 to 60 vol. %.

Classes IPC  ?

  • F17C 1/06 - Enveloppes protectrices constituées par un enroulement de bandes ou de matériaux filiformes p.ex. fils métalliques
  • C08J 5/24 - Imprégnation de matériaux avec des prépolymères pouvant être polymérisés en place, p.ex. fabrication des "prepregs"

53.

POLARIZING SHEET

      
Numéro d'application JP2023025922
Numéro de publication 2024/018992
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-13
Date de publication 2024-01-25
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Okazaki Kota
  • Matsuno Yuya
  • Akaki Masayuki
  • Kimura Hideaki

Abrégé

[Problem] To provide a polarizing laminate having a reduced optical distortion when measured with MIL-DTL-43511D. [Solution] Provided is a polarizing laminate which comprises a polarizing film comprising a uniaxially stretched polyvinyl alcohol-based resin film and transparent protective layers respectively arranged on both surfaces of the polarizing film each through an adhesive layer, in which the difference between a maximum value and a minimum value of the width of a gap between two slits adjacent to the polarizing laminate (i.e., a slit interval) in an optical distortion measured with MIL-DTL-43511D is 1.05 mm or less.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/30 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques autres que les lentilles Éléments polarisants
  • G02C 7/10 - Filtres, p.ex. pour faciliter l'adaptation des yeux à l'obscurité; Lunettes de soleil
  • G02C 7/12 - Polariseurs

54.

THERMOPLASTIC RESIN AND OPTICAL MEMBER

      
Numéro d'application JP2023026186
Numéro de publication 2024/019028
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-18
Date de publication 2024-01-25
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kato Noriyuki
  • Nishimori Katsushi
  • Motegi Atsushi
  • Ishihara Kentaro
  • Murata Suzuki Shoko
  • Harada Yutaro

Abrégé

According to one embodiment of the present invention, provided is a thermoplastic resin comprising a structural unit (A) derived from a monomer represented by general formula (1) and a structural unit (C) derived from a monomer represented by general formula (3).

Classes IPC  ?

  • C08G 64/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison ester carbonique dans la chaîne principale de la macromolécule
  • C08G 63/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison ester carboxylique dans la chaîne principale de la macromolécule
  • C08G 63/672 - Acides dicarboxyliques et composés dihydroxylés
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques

55.

HARD COAT FILM AND RESIN MOLDED ARTICLE USING SAME

      
Numéro d'application JP2023025387
Numéro de publication 2024/018938
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-10
Date de publication 2024-01-25
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kato Ryota
  • Wakayama Shota
  • Nakamura Hitomi
  • Sato Yoshimasa

Abrégé

According to the present invention, it is possible to provide a hard coat film comprising: a base material layer which contains a thermoplastic resin; and a hard coat layer which is a cured coating film layer and is provided on at least one surface of the base material layer, wherein the hard coat layer contains a fluorine-containing leveling agent, the surface roughness of the surface of the hard coat layer is at most 10 nm, and the atomic concentration F(80º) of fluorine at an angle of 80º is at most 10 atomic% and the atomic concentration F(30º) of fluorine at an angle of 30º is at most 10 atomic%, as measured by angle resolved XPS.

Classes IPC  ?

  • G02B 1/14 - Revêtements protecteurs, p.ex. revêtements durs
  • B32B 27/18 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique caractérisée par l'emploi d'additifs particuliers
  • G02B 1/111 - Revêtements antiréfléchissants utilisant des couches comportant des matériaux organiques

56.

EIJIRESU

      
Numéro d'application 231694100
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-22
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

(1) Chemicals used in industry; chemical substances for use to preserve foodstuffs, pharmaceuticals and medical instruments to prevent material from deteriorating by oxidation; oxygen absorbing agents; oxygen detecting agents.

57.

Miscellaneous Design

      
Numéro de série 79391995
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-22
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Chemicals used in industry, namely, oxygen absorbing chemicals for use to preserve foodstuffs, pharmaceuticals and medical instruments to prevent material from deteriorating by oxidation, oxygen absorbing chemicals, oxygen detecting chemicals

58.

RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM FORMING METHOD USING SAME

      
Numéro d'application JP2023024543
Numéro de publication 2024/014329
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-03
Date de publication 2024-01-18
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Okada Takumi
  • Hoshino Ryosuke
  • Sato Hideyuki
  • Katagiri Masayuki
  • Suzuki Shu
  • Echigo Masatoshi

Abrégé

The present invention provides a resist composition which contains a resin (A) and a solvent (B) containing a compound (B1) represented by general formula (b-1), and which contains an active ingredient in an amount of 45 mass% or less with respect to the total amount of the resist composition. (In the above formula (b-1), R0is a C1–C10 alkyl group, a C6–C10 aryl group, or a C1–C10 acyl group, and R1 is a hydrogen atom or a C1–C10 alkyl group.)

Classes IPC  ?

  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons

59.

OXYGEN ABSORBING RESIN COMPOSITION, OXYGEN ABSORBING FILM, OXYGEN ABSORBING MULTI-LAYER FILM, AND COVER MATERIAL

      
Numéro d'application 18038751
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-15
Date de la première publication 2024-01-18
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Watanabe, Keisuke
  • Itou, Yoshiki

Abrégé

An oxygen absorbing resin composition containing a polyolefin, an iron powder, titanium oxide, and calcium oxide, a content of the iron powder being from 10 to 50 mass % in the oxygen absorbing resin composition, a mass ratio of the titanium oxide to the iron powder [titanium oxide/iron powder] being from 0.1 to 0.5, and a mass ratio of the calcium oxide to the iron powder [calcium oxide/iron powder] being from 0.1 to 0.5.

Classes IPC  ?

  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C08K 3/22 - Oxydes; Hydroxydes de métaux
  • C08K 3/08 - Métaux
  • B65D 65/40 - Emploi de stratifiés pour des buts particuliers d'emballage
  • B32B 15/20 - Produits stratifiés composés essentiellement de métal comportant de l'aluminium ou du cuivre
  • B32B 15/085 - Produits stratifiés composés essentiellement de métal comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique de résine synthétique comprenant des polyoléfines
  • B32B 27/32 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyoléfines
  • B32B 27/18 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique caractérisée par l'emploi d'additifs particuliers
  • B32B 27/30 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant une résine acrylique
  • B32B 27/34 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyamides
  • B32B 27/08 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comme seul composant ou composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique d'une résine synthétique d'une sorte différente

60.

THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION, MOLDED PRODUCT, METAL FOIL LAMINATED BOARD, BONDING SHEET, FILAMENT, AND MATERIAL FOR THREE-DIMENSIONAL FABRICATION

      
Numéro d'application JP2023018691
Numéro de publication 2024/014123
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-19
Date de publication 2024-01-18
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sakai Atsushi
  • Fujii Ryosuke
  • Sato Yuuki
  • Kaneko Naoki

Abrégé

ABAB12122 are each independently a C6-C22 tetravalent group which comprises at least one aromatic ring.)

Classes IPC  ?

  • C08L 79/08 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • B32B 15/088 - Produits stratifiés composés essentiellement de métal comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique de résine synthétique comprenant des polyamides
  • B33Y 70/00 - Matériaux spécialement adaptés à la fabrication additive
  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08L 101/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
  • C09J 7/35 - Adhésifs sous forme de films ou de pellicules caractérisés par la composition de l’adhésif activés par chauffage
  • C09J 171/00 - Adhésifs à base de polyéthers obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale; Adhésifs à base de dérivés de tels polymères
  • C09J 179/04 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

61.

RESIST AUXILIARY FILM COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME

      
Numéro d'application JP2023024544
Numéro de publication 2024/014330
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-03
Date de publication 2024-01-18
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Okada Takumi
  • Hoshino Ryosuke
  • Sato Hideyuki
  • Katagiri Masayuki
  • Suzuki Shu
  • Echigo Masatoshi

Abrégé

According to the present invention, it is possible to provide a resist auxiliary film composition containing a resin (A) and a solvent (B), the solvent (B) including a compound (B1) represented by general formula (b-1) below, wherein the content of an active ingredient is 45% by mass or less based on the total amount of the resist auxiliary film composition. (In formula (b-1) above, R0is an alkyl group having 1-10 carbon atoms, an aryl group having 6-10 carbon atoms, or an acyl group having 1-10 carbon atoms; and R1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1-10 carbon atoms.)

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C08L 57/00 - Compositions contenant des polymères non spécifiés obtenus par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C08L 61/08 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes avec des phénols avec des phénols monohydriques
  • C08L 83/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
  • C08L 101/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou

62.

THINNER COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THINNER COMPOSITION

      
Numéro d'application JP2023024545
Numéro de publication 2024/014331
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-03
Date de publication 2024-01-18
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Okada Takumi
  • Hoshino Ryosuke
  • Sato Hideyuki
  • Katagiri Masayuki
  • Suzuki Shu
  • Echigo Masatoshi

Abrégé

The present invention provides a thinner composition containing a solvent (B) that includes a compound (B1) represented by general formula (b-1) below. (In formula (b-1) above, R0is an alkyl group having 1-10 carbon atoms, an aryl group having 6-10 carbon atoms, or an acyl group having 1-10 carbon atoms, and R1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1-10 carbon atoms.)

Classes IPC  ?

  • G03F 7/42 - Elimination des réserves ou agents à cet effet
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou

63.

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE CLEANING COMPOSITION, METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATES, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR SUBSTRATES

      
Numéro d'application JP2023023715
Numéro de publication 2024/004980
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-27
Date de publication 2024-01-04
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kawai Ryuichiro
  • Horie Hiroaki
  • Shigeta Mari
  • Shimada Kenji

Abrégé

nn] (n-k)-mk-2mxx (M is boron, silicon, zirconium, antimony, niobium, aluminum, phosphorus, or titanium; k is the oxidation number for M; m is an integer from 0 to k/2; x is a positive integer; R is a hydrogen atom, alkali metal, or alkyl group; and n is the coordination number of fluoride ions to M.); component (C) : an oxidizing agent; and component (D) : water, wherein the α given by formula (I) is 0.2 to 1.1. ([F] is the molar concentration of fluoride ion in the composition, [M] is the molar concentration of M in the composition, and n(M) is the coordination number of fluoride ions to M.)

Classes IPC  ?

  • H01L 21/304 - Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe

64.

POLYPHENOL COMPOUND, FILM-FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING PATTERN

      
Numéro d'application JP2023024419
Numéro de publication 2024/005194
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-30
Date de publication 2024-01-04
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Iwasaki, Atsuko
  • Omatsu, Tadashi
  • Echigo, Masatoshi

Abrégé

A film-forming composition for lithography which contains a polyphenol compound represented by formula (1). (In formula (1), A, Ar1, Ar2, X, P1, P2, j, k, l1, and l2 are as defined in the specification.)

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C07C 39/15 - Composés comportant au moins un groupe hydroxyle ou O-métal lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons polycycliques sans autre insaturation que celle des cycles aromatiques tous les groupes hydroxyle étant liés à des cycles non condensés
  • C07C 69/21 - Esters d'acide acétique de composés hydroxylés ayant plus de trois groupes hydroxyle
  • G03F 7/26 - Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet

65.

METHANOL PRODUCTION METHOD AND METHANOL PRODUCTION DEVICE

      
Numéro d'application JP2023019530
Numéro de publication 2024/004464
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-25
Date de publication 2024-01-04
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Higashide, Hirofumi
  • Kakimi, Atsushi
  • Akiyoshi, Shuusuke
  • Abe, Takanori

Abrégé

According to the present invention, a method for producing methanol using carbon dioxide and hydrogen as starting materials includes a step (A) for combining the carbon dioxide and the hydrogen to obtain a makeup gas, a step (B) for combining the makeup gas, after the pressure thereof has been raised, with a recycled gas recovered from an outlet gas from a synthesis reactor to obtain a synthesis reactor supply gas, a step (C) for preheating the synthesis reactor supply gas by means of a heat exchange in which the outlet gas from the synthesis reactor serves as a heat source, and a step (D) for supplying the preheated synthesis reactor supply gas to a synthesis reactor and bringing the preheated synthesis reactor supply gas into contact with a catalyst to synthesize methanol.

Classes IPC  ?

  • C07C 29/152 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par réduction exclusivement des oxydes de carbone avec de l'hydrogène ou des gaz contenant de l'hydrogène caractérisée par le réacteur utilisé
  • C07C 31/04 - Méthanol
  • C07B 61/00 - Autres procédés généraux

66.

THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION, MOLDED BODY, AND CONSTITUTING MEMBER OF IC SOCKET FOR INSPECTION

      
Numéro d'application JP2023021667
Numéro de publication 2024/004602
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-12
Date de publication 2024-01-04
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s) Sato Yuuki

Abrégé

This thermoplastic resin composition contains component (A), which is at least one thermoplastic resin selected from the group consisting of (a1) a crystalline thermoplastic resin having a melting point of 270°C or more and (a2) an amorphous thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200°C or more, and component (B), which is an inorganic filler including (b1) zirconium oxide, wherein the content of the component (b1) based on 100 parts by mass of the component (A) is 2-40 parts by mass, and the content of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A) is 2-60 parts by mass.

Classes IPC  ?

  • C08L 101/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
  • C08L 79/08 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08K 3/013 - Charges, pigments ou agents de renforcement
  • C08K 3/22 - Oxydes; Hydroxydes de métaux

67.

COMPOSITION, RESIN COMPOSITION, FILM FORMATION COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND COMPOUND

      
Numéro d'application JP2023023917
Numéro de publication 2024/005049
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-28
Date de publication 2024-01-04
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Omatsu, Tadashi
  • Kataoka, Kentaro
  • Matsumoto, Masahiro
  • Niimi, Yushi
  • Koguma, Takeru
  • Horiuchi, Junya
  • Yamamoto, Hiroaki
  • Iinuma, Masataka
  • Matsuura, Kodai
  • Sato, Takashi
  • Okada, Yu
  • Makinoshima, Takashi
  • Echigo, Masatoshi

Abrégé

This composition comprises a compound (A) represented by formula (1) below and a compound (B) represented by formula (2) below. (The definitions of the elements in formula (1) are indicated in the description.) (In formula (2), the elements X, L1, Y, Ra, Rb, Rc, A, Z, p, m, n, and r are the same as those in formula (1), and k represents an integer from 0 to 2.)

Classes IPC  ?

  • C08F 12/00 - Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule double liaison carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un noyau carbocyclique aromatique
  • C08F 246/00 - Copolymères dans lesquels la nature des monomères n'est définie que pour les monomères en minorité
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

68.

Compound and method for producing same

      
Numéro d'application 18252821
Numéro de brevet 11919833
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-04-12
Date de la première publication 2023-12-28
Date d'octroi 2024-03-05
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yokoo Yamazoe, Aoi
  • Kanbara, Yutaka

Abrégé

Provided is a method for producing a methyl-adduct compound, the method including methylating, in the presence of potassium carbonate and dimethyl carbonate, a dinitrile compound represented by Formula (1) below to obtain a methyl-adduct compound represented by Formula (2) below: 4 are each methyl.

Classes IPC  ?

  • C07C 211/27 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné non saturé contenant au moins un cycle aromatique à six chaînons ayant des groupes amino reliés au cycle aromatique à six chaînons par l'intermédiaire de chaînes carbonées saturées
  • C07C 209/48 - Préparation de composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné par réduction d'acides carboxyliques ou de leurs esters en présence d'ammoniac ou d'amines ou par réduction de nitriles, d'amides d'acides carboxyliques, d'imines ou d'imino-éthers par réduction de nitriles
  • C07C 253/30 - Préparation de nitriles d'acides carboxyliques par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes cyano
  • C07C 255/33 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone acycliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné contenant au moins un cycle aromatique à six chaînons avec des groupes cyano reliés au cycle aromatique à six chaînons ou au système cyclique condensé contenant ce cycle, par l'intermédiaire de chaînes carbonées saturées

69.

RESIN COMPOSITION, COATING FILM USING SAME, AND ELECTROLYTE

      
Numéro d'application 18276534
Statut En instance
Date de dépôt 2022-02-18
Date de la première publication 2023-12-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ogawa, Noriyoshi
  • Goto, Toshihito

Abrégé

According to the present invention, there can be provided a resin composition, comprising: a polycarbonate resin comprising a constituent unit represented by the following general formula (1): According to the present invention, there can be provided a resin composition, comprising: a polycarbonate resin comprising a constituent unit represented by the following general formula (1): According to the present invention, there can be provided a resin composition, comprising: a polycarbonate resin comprising a constituent unit represented by the following general formula (1): wherein R1 to R4 and R11 to R14 each independently hydrogen, fluorine, chlorine, bromine or iodine, etc., a represents an integer of 1 to 1,000, and X represents —S—, etc.; and a carbonate-based organic solvent, wherein the content of the polycarbonate resin in the resin composition is 0.05% to 50% by mass; the content of the carbonate-based organic solvent in the resin composition is 50% to 99.5% by mass, and the total percentage of constituent units represented by the following formulae (2) to (4) in all of the constituent units represented by the general formula (1) is 0% to 75% at a molar percentage: According to the present invention, there can be provided a resin composition, comprising: a polycarbonate resin comprising a constituent unit represented by the following general formula (1): wherein R1 to R4 and R11 to R14 each independently hydrogen, fluorine, chlorine, bromine or iodine, etc., a represents an integer of 1 to 1,000, and X represents —S—, etc.; and a carbonate-based organic solvent, wherein the content of the polycarbonate resin in the resin composition is 0.05% to 50% by mass; the content of the carbonate-based organic solvent in the resin composition is 50% to 99.5% by mass, and the total percentage of constituent units represented by the following formulae (2) to (4) in all of the constituent units represented by the general formula (1) is 0% to 75% at a molar percentage:

Classes IPC  ?

  • C08G 64/06 - Polycarbonates aromatiques ne contenant pas d'insaturations aliphatiques
  • C09D 169/00 - Compositions de revêtement à base de polycarbonates; Compositions de revêtement à base de dérivés de polycarbonates
  • C09D 7/20 - Diluants ou solvants
  • H01M 10/0565 - Matériaux polymères, p.ex. du type gel ou du type solide

70.

COMPOUND, COMPOSITION, CURED PRODUCT, AND COMPOUND MANUFACTURING METHOD

      
Numéro d'application JP2023019051
Numéro de publication 2023/248675
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-23
Date de publication 2023-12-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Fujii Shiki
  • Ohno Daisuke
  • Kitamura Mitsuharu

Abrégé

22 or *-C=CH-, and * is bonded to the side close to the oxygen atom contained in the ring.

Classes IPC  ?

  • C07D 405/14 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
  • C08F 26/00 - Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou
  • C08L 39/00 - Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
  • C07D 307/14 - Radicaux substitués par des atomes d'azote ne faisant pas partie d'un radical nitro

71.

METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE VARNISH

      
Numéro d'application JP2023022818
Numéro de publication 2023/249022
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-20
Date de publication 2023-12-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Suenaga Shuya
  • Matsumaru Teruhisa
  • Sugito Ken

Abrégé

The present invention provides a method for producing a polyimide varnish, the method comprising: a polycondensation step in which one or more tetracarboxylic acid dianhydrides and one or more diamine compounds are subjected to a polycondensation reaction, thereby obtaining a reaction product (x); a step in which an organic solvent is subjected to inert gas bubbling, thereby obtaining a solvent (y) for dilution; and a dilution step in which the reaction product (x) and the solvent (y) for dilution are mixed with each other, thereby obtaining a polyimide solution that has a dissolved oxygen concentration of 0.23 mg/L or less. Consequently, the present invention enables the achievement of a varnish which contains a solvent-soluble polyimide, while being free from coloring and exhibiting excellent colorlessness.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

72.

EPOXY RESIN CURING AGENT, EPOXY RESIN COMPOSITION, PAINT, AND ADHESIVE

      
Numéro d'application 18030844
Statut En instance
Date de dépôt 2021-09-10
Date de la première publication 2023-12-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hanaoka, Takuma
  • Kouno, Kazuki
  • Ohno, Yuma

Abrégé

Provided are an epoxy resin curing agent containing an amine composition or a modified product thereof, wherein the amine composition contains metaxylylenediamine and paraxylylenediamine at a mass ratio of 99/1 to 51/49, an epoxy resin composition, and a paint and an adhesive containing these.

Classes IPC  ?

73.

EPOXY RESIN COMPOSITION, GAS BARRIER LAMINATE, AND PACKAGING MATERIAL

      
Numéro d'application 18036944
Statut En instance
Date de dépôt 2021-10-06
Date de la première publication 2023-12-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kobayashi, Naoko
  • Kouno, Kazuki
  • Hashimoto, Ryoma

Abrégé

An epoxy resin composition containing an epoxy resin, an epoxy resin curing agent containing an amine-based curing agent, and a polyalkylene glycol, as well as a gas barrier laminate and a packaging material in which the epoxy resin composition is used.

Classes IPC  ?

  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxy; Compositions contenant des dérivés des résines époxy
  • C08K 5/544 - Composés contenant du silicium contenant de l'azote
  • C08K 5/17 - Amines; Composés d'ammonium quaternaire
  • C08K 5/20 - Amides d'acides carboxyliques

74.

METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE

      
Numéro d'application JP2023022817
Numéro de publication 2023/249021
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-20
Date de publication 2023-12-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Matsumaru Teruhisa
  • Suenaga Shuya
  • Sugito Ken

Abrégé

The present invention provides a method for producing a polyimide, the method comprising: a step 1 in which a diamine solution is obtained by dissolving a diamine in an organic solvent, and a tetracarboxylic acid dianhydride is added to and mixed with the diamine solution so as to obtain a homogeneous solution; and a step 2 in which the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine are polycondensed with each other. With respect to this method for producing a polyimide, in the step 1, it is regulated such that the diamine solution does not exceed 100°C from the time when the addition of the tetracarboxylic acid dianhydride is started to the time when the solution becomes homogeneous. Consequently, the present invention enables the achievement of: a varnish which has a viscosity sufficient for coating; and a polyimide which has excellent colorlessness.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

75.

METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE VARNISH

      
Numéro d'application JP2023022819
Numéro de publication 2023/249023
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-20
Date de publication 2023-12-28
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Suenaga Shuya
  • Matsumaru Teruhisa
  • Sugito Ken

Abrégé

The method for producing a polyimide varnish polycondenses one or more tetracarboxylic dianhydrides and one or more diamines in an organic solvent at a reaction temperature of 160-220°C to obtain a reaction solution and lowers the temperature of the reaction solution from the reaction temperature to 120°C at a rate of 4°C/min or more by introducing a diluting solvent to stop the reaction. A method for producing a polyimide varnish that contains a solvent-soluble polyimide, has no coloration, and can obtain a varnish having excellent colorlessness can be provided according to the present invention.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

76.

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE RESIN COMPOSITION, RESIN FILM, AND ELECTRONIC DEVICE

      
Numéro d'application 18038245
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-10
Date de la première publication 2023-12-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Umeki, Miho
  • Sato, Yumi
  • Miyahara, Daichi

Abrégé

A photosensitive polyimide resin composition containing: a ring-closed polyimide resin (A) having a structure represented by Formula (1); and a polyfunctional radically polymerizable compound (B) having radically polymerizable functional groups and oxyalkylene groups, wherein a number of the radically polymerizable functional groups in the polyfunctional radically polymerizable compound (B) is 3 or greater and 100 or less, and wherein a total number of moles of the oxyalkylene groups added in the polyfunctional radically polymerizable compound (B) is 5 or greater and 100 or less.

Classes IPC  ?

  • C08L 79/08 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

77.

ALDEHYDE COMPOSITION

      
Numéro d'application JP2023021085
Numéro de publication 2023/243499
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-07
Date de publication 2023-12-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hayashi Masaki
  • Matsuda Daiki
  • Nishiuchi Junya

Abrégé

An aldehyde composition that contains an aldehyde represented by formula (1) and an aldehyde represented by formula (2), the mass ratio [(1)/(2)] of the aldehyde represented by formula (1) and the aldehyde represented by formula (2) being 97.00/3.00-99.999/0.001. An aldehyde composition that is useful as a fragrance due to having an exceptional balance of green, aldehyde, and floral scents. Additionally, a fragrance composition having exceptional diffusibility due to containing this aldehyde composition is obtained.

Classes IPC  ?

  • C11B 9/00 - Huiles essentielles; Parfums
  • C07B 61/00 - Autres procédés généraux
  • C07C 45/62 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogène; Préparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par hydrogénation de liaisons doubles ou triples carbone-carbone
  • C07C 47/228 - Composés non saturés comportant des groupes —CHO liés à des atomes de carbone acycliques contenant des cycles aromatiques à six chaînons, p.ex. le phénylacétaldéhyde

78.

POLYACETAL RESIN COMPOSITION

      
Numéro d'application JP2023022073
Numéro de publication 2023/243658
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-14
Date de publication 2023-12-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Michiba Kiyonori
  • Sunaga Daisuke

Abrégé

The present invention provides: a polyacetal resin composition; a metal resin composition; and a method for producing a polyacetal resin composition. The present invention provides a polyacetal resin composition which contains 100 parts by weight of a polyacetal resin (A) and 0.1 to 0.9 part by weight of a fatty acid metal salt (B) having a weight loss rate of 20% by weight of more, the weight loss rate being the ratio of weight loss after the fatty acid metal salt is heated from room temperature to 200°C at a rate of 200°C/minute in the air at atmospheric pressure and is subsequently held at 200°C for 60 minutes.

Classes IPC  ?

  • C08L 59/00 - Compositions contenant des polyacétals; Compositions contenant des dérivés des polyacétals 
  • C08G 2/24 - Copolymérisation d'aldéhydes ou de cétones avec des acétals
  • C08K 5/09 - Acides carboxyliques; Leurs sels métalliques; Leurs anhydrides

79.

METHOD FOR PRODUCING FLUORENONE

      
Numéro d'application 18251771
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-04
Date de la première publication 2023-12-21
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Watanabe, Yuki
  • Sumi, Hiroki
  • Fujita, Hideaki
  • Nakamura, Goh
  • Kumano, Tatsuyuki

Abrégé

A method for producing fluorenone including a pretreatment step of heating fluorene in the presence of a lower aliphatic carboxylic acid, a bromine compound, and a metal catalyst, and an oxidation step of continuously supplying fluorene and oxygen to perform an oxidation reaction, in the order indicated.

Classes IPC  ?

  • C07C 45/36 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogène; Préparation des chélates de ces composés par oxydation avec l'oxygène moléculaire de restes —CHx dans des composés non saturés dans des composés contenant des cycles aromatiques à six chaînons
  • B01J 31/04 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques contenant des composés organiques ou des hydrures métalliques  contenant des acides carboxyliques ou leurs sels
  • B01J 35/12 - Catalyseurs caractérisés par leur forme ou leurs propriétés physiques, en général liquides ou fondus

80.

THERMOPLASTIC RESIN AND OPTICAL LENS INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18033163
Statut En instance
Date de dépôt 2021-10-25
Date de la première publication 2023-12-14
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kato, Noriyuki
  • Ikeda, Shinya
  • Motegi, Atsushi
  • Ogata, Tatsunobu
  • Harada, Yutaro
  • Nishimori, Katsushi
  • Ishihara, Kentaro

Abrégé

A thermoplastic resin including a constituent unit (A) derived from a monomer represented by general formula (1). In general formula (1), R1 and R11 each independently represent a hydrogen atom, an aryl group having 6-12 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1-4 carbon atoms, and X represents one of general formulas (a) to (d). In general formulas (a) to (d), R21 to R57 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a linear or branched alkyl group having 1-4 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1-7 carbon atoms.

Classes IPC  ?

  • C08L 69/00 - Compositions contenant des polycarbonates; Compositions contenant des dérivés des polycarbonates
  • C08G 64/16 - Polycarbonates aliphatique-aromatiques ou araliphatiques
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques

81.

FILAMENT, MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE MATERIAL

      
Numéro d'application 18030472
Statut En instance
Date de dépôt 2021-09-01
Date de la première publication 2023-12-14
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yamanaka, Masaki
  • Matsumoto, Nobuhiko

Abrégé

Provided are a filament that does not impair the strength that is intrinsic to the filament and contains a disperse dye, and has excellent color fastness, a material using the filament, and a method for producing the material. The filament containing a polyamide resin having an aromatic ring and/or a hetero ring, and a disperse dye having an aromatic ring and/or a hetero ring.

Classes IPC  ?

  • D01F 6/60 - Filaments, ou similaires, faits par l’homme, à un seul composant, formés de polymères synthétiques; Leur fabrication à partir de produits d'homopolycondensation à partir de polyamides
  • D06P 1/18 - Colorants azoïques
  • D06P 1/20 - Colorants anthraquinoniques
  • D06P 3/26 - Polyamides; Polyuréthanes utilisant des colorants en dispersion
  • D01F 8/12 - Filaments, ou similaires, faits par l’homme, conjugués, c. à d. à plusieurs composants; Leur fabrication à partir de polymères synthétiques avec au moins un polyamide comme constituant

82.

ALDEHYDE COMPOSITION

      
Numéro d'application 18250238
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-02
Date de la première publication 2023-12-14
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Utamura, Tatsuya
  • Nishiuchi, Junya

Abrégé

An aldehyde composition containing an aldehyde represented by Formula (1) and an aldehyde represented by Formula (2) is provided. A mass ratio [(1)/(2)] of the aldehyde represented by Formula (1) to the aldehyde represented by Formula (2) is from 96/4 to 99.97/0.03. An aldehyde composition containing an aldehyde represented by Formula (1) and an aldehyde represented by Formula (2) is provided. A mass ratio [(1)/(2)] of the aldehyde represented by Formula (1) to the aldehyde represented by Formula (2) is from 96/4 to 99.97/0.03.

Classes IPC  ?

  • C07C 47/228 - Composés non saturés comportant des groupes —CHO liés à des atomes de carbone acycliques contenant des cycles aromatiques à six chaînons, p.ex. le phénylacétaldéhyde
  • C11B 9/00 - Huiles essentielles; Parfums

83.

BIOABSORBABLE FIBROUS MEDICAL MATERIAL

      
Numéro d'application 18250383
Statut En instance
Date de dépôt 2021-10-25
Date de la première publication 2023-12-14
Propriétaire
  • MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
  • National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System (Japon)
Inventeur(s)
  • Maehara, Akira
  • Hirata, Hitoshi
  • Murayama, Atsuhiko
  • Nakagawa, Yasunobu

Abrégé

An object of the present invention is to provide a bioabsorbable and stretchable fibrous medical material that enables formation of ligation which provides a small and hard-to-unravel knot even with a weak force. The present invention provides a fibrous medical material which is a fibrous material composed of a molded article provided by spinning and drawing a bioabsorbable aliphatic polymer, wherein an elongation at break is 75% or greater, an intermediate elastic modulus in tension at a strain ranging from 0.25% and 10% is lower than an initial elastic modulus in tension at a strain ranging from 0.05% to 0.25%, the intermediate elastic modulus in tension is 400 MPa or less, and a residual strain rate after 100% deformation is 70% or less.

Classes IPC  ?

  • A61L 17/10 - Matériaux au moins partiellement résorbables contenant des matériaux macromoléculaires

84.

EPOXY RESIN COMPOSITION

      
Numéro d'application JP2023018273
Numéro de publication 2023/238615
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-16
Date de publication 2023-12-14
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Wakahara Daiki
  • Ohnishi Nobuyoshi
  • Ikeuchi Kousuke
  • Okada Kana
  • Matsumoto Nobuhiko
  • Innan Susumu

Abrégé

The present invention provides an epoxy resin composition which contains an epoxy resin (A) and an epoxy resin curing agent (B), wherein: the epoxy resin (A) contains an epoxy resin (A1) that has a glycidyl group derived from resorcinol, and an epoxy resin (A2) that has a glycidyl group derived from bisphenol F, or the like; the epoxy resin curing agent (B) contains resorcinol (B1) or the like; and the content of the epoxy resin curing agent (B) is 7% by mass to 60% by mass.

Classes IPC  ?

  • C08G 59/20 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les composés époxydés utilisés
  • C08G 59/62 - Alcools ou phénols
  • C08J 5/24 - Imprégnation de matériaux avec des prépolymères pouvant être polymérisés en place, p.ex. fabrication des "prepregs"
  • C08K 7/02 - Fibres ou "whiskers"
  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxy; Compositions contenant des dérivés des résines époxy
  • C08L 101/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
  • F17C 1/06 - Enveloppes protectrices constituées par un enroulement de bandes ou de matériaux filiformes p.ex. fils métalliques

85.

ALICYCLIC ALCOHOL, ALICYCLIC ALCOHOL COMPOSITION, AND PERFUME COMPOSITION

      
Numéro d'application 18248899
Statut En instance
Date de dépôt 2021-10-19
Date de la première publication 2023-12-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Tomaki, Keisuke
  • Shirai, Shinyou

Abrégé

An alicyclic alcohol of Formula (1) and a fragrance composition including the same is described. An alicyclic alcohol composition containing an alicyclic alcohol of Formula (1) and an alicyclic alcohol of Formula (2), is also described, and this composition may also include an alicyclic alcohol of Formula (3). The alicyclic alcohol composition may comprise Formula (1) at a content of 85 mass % to 98 mass %. An alicyclic alcohol of Formula (1) and a fragrance composition including the same is described. An alicyclic alcohol composition containing an alicyclic alcohol of Formula (1) and an alicyclic alcohol of Formula (2), is also described, and this composition may also include an alicyclic alcohol of Formula (3). The alicyclic alcohol composition may comprise Formula (1) at a content of 85 mass % to 98 mass %.

Classes IPC  ?

  • C07C 31/135 - Alcools monohydroxyliques contenant des cycles saturés monocycliques à cycles à cinq ou six chaînons; Alcools naphténiques
  • C11B 9/00 - Huiles essentielles; Parfums

86.

COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING TRIOXANE USING SAME

      
Numéro d'application JP2023020399
Numéro de publication 2023/234382
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-01
Date de publication 2023-12-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s) Okada Takuya

Abrégé

Provided is a means with which trioxane can be continuously produced at a high yield. Provided is a composition that contains (A) 58.5-65.5 mass% of formaldehyde, (B) 0.7-4.5 mass% of methanesulfonic acid, and (C) less than 0.007 mass% of a metal salt. The total content of the formaldehyde (A) and the methanesulfonic acid (B) is less than 68 mass%. The metal salt (C) includes at least one type selected from the group consisting of a nitrate, a nitrite and a persulfate.

Classes IPC  ?

  • C07C 47/04 - Formaldéhyde
  • C07C 309/04 - Acides sulfoniques ayant des groupes sulfo liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné acyclique saturé contenant un seul groupe sulfo
  • C07D 323/06 - Trioxane

87.

SUZURANOL

      
Numéro d'application 1765150
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2023-10-27
Date d'enregistrement 2023-10-27
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Classes de Nice  ? 03 - Produits cosmétiques et préparations de toilette; préparations pour blanchir, nettoyer, polir et abraser.

Produits et services

Perfumery; synthetic perfumery; natural perfumery; perfumes for industrial purpose.

88.

TRIARYLMETHANE COMPOUNDS

      
Numéro d'application 18231676
Statut En instance
Date de dépôt 2023-08-08
Date de la première publication 2023-12-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Reuter, Karl
  • Andrushko, Vasyl
  • Kantor, Mark
  • Stolz, Florian
  • Shiratake, Munenori
  • Ishihara, Kentaro
  • Hirose, Koji
  • Ikeda, Shinya
  • Kato, Noriyuki
  • Kondo, Mitsuteru
  • Murata, Shoko
  • Oshima, Kensuke

Abrégé

The present invention relates to triarylmethane compounds of the formula (I), which suitable as monomers for preparing thermoplastic resins having beneficial optical properties and which can be used for producing optical devices. R1 , R2 are e.g. hydrogen; Y is an alkylene group having 2, 3 or 4 carbon atoms, Ar is selected from mono- or polycyclic aryl and mono- or polycyclic hetaryl; X1, X2, X3, X4 are CH, C—Rx or N, provided that in each ring at most two of X1, X2, X3, X4 are N; Rx is e.g. halogen, CN or CH═CH2. The invention also relates to thermoplastic resins comprising a polymerized unit of the compound of formula (I). The present invention relates to triarylmethane compounds of the formula (I), which suitable as monomers for preparing thermoplastic resins having beneficial optical properties and which can be used for producing optical devices. R1 , R2 are e.g. hydrogen; Y is an alkylene group having 2, 3 or 4 carbon atoms, Ar is selected from mono- or polycyclic aryl and mono- or polycyclic hetaryl; X1, X2, X3, X4 are CH, C—Rx or N, provided that in each ring at most two of X1, X2, X3, X4 are N; Rx is e.g. halogen, CN or CH═CH2. The invention also relates to thermoplastic resins comprising a polymerized unit of the compound of formula (I).

Classes IPC  ?

  • C07C 43/23 - Ethers une liaison sur l'oxygène de la fonction éther étant sur un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons contenant des groupes hydroxyle ou O-métal
  • C08G 64/06 - Polycarbonates aromatiques ne contenant pas d'insaturations aliphatiques
  • C08G 64/30 - Procédés généraux de préparation utilisant des carbonates
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
  • C08G 63/193 - Composés hydroxylés contenant des cycles aromatiques contenant plusieurs cycles aromatiques

89.

METHOD FOR PRODUCING FLUORENONE

      
Numéro d'application 18249179
Statut En instance
Date de dépôt 2021-10-21
Date de la première publication 2023-12-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sumi, Hiroki
  • Watanabe, Yuki
  • Fujita, Hideaki
  • Nakamura, Goh
  • Kumano, Tatsuyuki

Abrégé

Provided is a method for producing fluorenone comprising an oxidation step of oxidizing fluorene in the presence of an aliphatic carboxylic acid having 2 to 3 carbon atoms, a metal catalyst, a bromine compound, and oxygen, a solvent removal step of removing the aliphatic carboxylic acid, a heating step at 120 to 350° C., and a distillation step in the order indicated.

Classes IPC  ?

  • C07C 49/675 - Composés non saturés comportant un groupe cétone faisant partie d'un cycle contenant des cycles aromatiques à six chaînons un groupe cétone faisant partie d'un système cyclique condensé comportant trois cycles

90.

RESIN COMPOSITION

      
Numéro d'application JP2023018075
Numéro de publication 2023/233984
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-15
Date de publication 2023-12-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ogawa, Shun
  • Yoshimura, Yasuaki
  • Hasegawa, Hiroki
  • Arakawa, Shota
  • Sakuma, Yoshiko

Abrégé

The present invention addresses the problem of providing a resin composition or the like that exhibits favorable oxygen barrier performance and a favorable color tone after oxygen absorption, and that is excellent in strength and shape retention as well as moldability. The problem can be solved by a resin composition containing a transition metal catalyst and a polyester compound having a prescribed structure.

Classes IPC  ?

  • C08L 67/02 - Polyesters dérivés des acides dicarboxyliques et des composés dihydroxylés
  • A61J 1/05 - Récipients spécialement adaptés à des fins médicales ou pharmaceutiques pour recueillir, stocker ou administrer du sang, du plasma ou des liquides à usage médical
  • A61M 5/28 - Ampoules ou cartouches-seringues, c. à d. ampoules ou cartouches munies d'une aiguille
  • B32B 27/00 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
  • B32B 27/32 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyoléfines
  • B32B 27/36 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyesters
  • B65D 1/02 - Bouteilles ou réceptacles similaires, à cols ou à ouvertures rétrécies analogues, conçus pour verser le contenu
  • B65D 65/40 - Emploi de stratifiés pour des buts particuliers d'emballage
  • B65D 77/00 - Paquets réalisés en enfermant des objets ou des matériaux dans des réceptacles préformés, p.ex. des boîtes, des cartons, des sacs ou des sachets
  • B65D 81/24 - Adaptations pour empêcher la détérioration ou l'altération du contenu; Applications au réceptacle ou au matériau d'emballage d'agents de conservation des aliments, de fongicides, d'insecticides ou de produits repoussant les animaux
  • B65D 81/26 - Adaptations pour empêcher la détérioration ou l'altération du contenu; Applications au réceptacle ou au matériau d'emballage d'agents de conservation des aliments, de fongicides, d'insecticides ou de produits repoussant les animaux avec dispositifs pour évacuer ou absorber les fluides, p.ex. s'écoulant du contenu; Emploi de produits empêchant la corrosion ou de dessiccateurs
  • C08G 63/181 - Acides contenant des cycles aromatiques
  • C08G 63/189 - Acides contenant des cycles aromatiques contenant plusieurs cycles aromatiques contenant des cycles aromatiques condensés contenant un cycle naphtalénique
  • C08G 63/199 - Acides ou composés hydroxylés contenant des cycles cycloaliphatiques
  • C08G 63/88 - Traitement de post-polymérisation
  • C08K 5/098 - Sels métalliques d'acides carboxyliques

91.

POLYIMIDE RESIN PRECURSOR AND POLYIMIDE RESIN

      
Numéro d'application JP2023018858
Numéro de publication 2023/234085
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-22
Date de publication 2023-12-07
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Abiko Yohei
  • Ishii Kentaro
  • Muraya Takahiro

Abrégé

Provided is a polyimide resin precursor comprising a repeating unit represented by general formula (1) below or a repeating unit represented by general formula (1) below and a repeating unit represented by general formula (2) below, wherein the total of the repeating unit represented by general formula (1) and the repeating unit represented by general formula (2) is 70 to 100 mol % inclusive based on all the repeating units of the polyimide resin precursor, and the ratio of the repeating unit represented by general formula (1) is 30 to 100 mol % based on the total of the repeating unit represented by general formula (1) and the repeating unit represented by general formula (2). This polyimide resin precursor has excellent heat resistance, and a polyimide resin having a low linear expansion coefficient as well as excellent elongation and mechanical strength can be obtained.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles

92.

RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT, SEALING MATERIAL, ADHESIVE, INSULATING MATERIAL, COATING MATERIAL, PREPREG, MULTILAYERED BODY, AND FIBER-REINFORCED COMPOSITE MATERIAL

      
Numéro d'application 18181472
Statut En instance
Date de dépôt 2023-03-09
Date de la première publication 2023-11-30
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ikeda, Kousuke
  • Yasuda, Yoshihiro
  • Katagiri, Masayuki

Abrégé

Provided is a resin composition comprises a cyanate ester compound (A), an amine adduct compound (B) and a borate ester (C).

Classes IPC  ?

  • C08G 18/58 - Résines époxydes
  • C08G 18/10 - Procédés mettant en œuvre un prépolymère impliquant la réaction d'isocyanates ou d'isothiocyanates avec des composés contenant des hydrogènes actifs, dans une première étape réactionnelle
  • C08J 5/24 - Imprégnation de matériaux avec des prépolymères pouvant être polymérisés en place, p.ex. fabrication des "prepregs"

93.

LAMINATE

      
Numéro d'application JP2023019409
Numéro de publication 2023/228986
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-24
Date de publication 2023-11-30
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Abiko Yohei
  • Hatakeyama Takuro
  • Muraya Takahiro

Abrégé

This laminate for manufacturing a TFT substrate comprises: a support base material made of glass; a first inorganic film laminated on the support base material; a polyimide resin laminated on the first inorganic film; and a second inorganic film laminated on the polyimide resin, wherein the polyimide resin has a structural unit represented by general formula (1) or a structural unit represented by general formula (2), and the glass transition temperature is 400°C or higher. (X1is a group having an alicyclic structure or an aromatic ring, Y1is a single bond and the like, R1and R2are methyl groups and the like, h and i are integers of 0-4, at least one of which is an integer of 1-4, and n is 0, 1, or 2.) (X2includes a tetravalent group represented by general formula (3), Y2 is a single bond and the like, and m is 0, 1, or 2.) (R is a methyl group and the like, p is 1-4, and k is 1 or 2.)

Classes IPC  ?

  • H10K 77/10 - Substrats, p. ex. substrats flexibles
  • B32B 17/00 - Produits stratifiés composés essentiellement d'une feuille de verre ou de fibres de verre, de scorie ou d'une substance similaire
  • B32B 27/34 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des polyamides
  • G09F 9/00 - Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels
  • G09F 9/30 - Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels dans lesquels le ou les caractères désirés sont formés par une combinaison d'éléments individuels
  • H05B 33/02 - Sources lumineuses électroluminescentes - Détails
  • H05B 33/14 - Sources lumineuses avec des éléments radiants ayant essentiellement deux dimensions caractérisées par la composition chimique ou physique ou la disposition du matériau électroluminescent
  • H10K 59/12 - Affichages à OLED à matrice active [AMOLED]

94.

EPOXY RESIN CURING AGENT, EPOXY RESIN COMPOSITION, AND USE OF AMINE COMPOSITION

      
Numéro d'application 18025280
Statut En instance
Date de dépôt 2021-08-19
Date de la première publication 2023-11-30
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kouno, Kazuki
  • Ikeuchi, Kousuke
  • Ohno, Yuma
  • Ota, Emi
  • Yokoo, Aoi

Abrégé

Provided are an epoxy resin curing agent containing an amine composition or a modified product thereof, wherein the amine composition contains bis(aminomethyl)cyclohexane (A) and a compound (B) represented by the following formula (1), and wherein the content of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A) is from 0.01 to 2.0 parts by mass, an epoxy resin composition, and use of an amine composition for an epoxy resin curing agent, wherein R1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and p is a number of 1 to 3. Provided are an epoxy resin curing agent containing an amine composition or a modified product thereof, wherein the amine composition contains bis(aminomethyl)cyclohexane (A) and a compound (B) represented by the following formula (1), and wherein the content of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A) is from 0.01 to 2.0 parts by mass, an epoxy resin composition, and use of an amine composition for an epoxy resin curing agent, wherein R1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and p is a number of 1 to 3.

Classes IPC  ?

95.

RESIN COMPOSITION, CURED SUBSTANCE, SEALING MATERIAL, ADHESIVE, INSULATING MATERIAL, COATING MATERIAL, PREPREG, MULTILAYER BODY, AND FIBER-REINFORCED COMPOSITE MATERIAL

      
Numéro d'application JP2023008298
Numéro de publication 2023/228509
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-03-06
Date de publication 2023-11-30
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ikeda Kousuke
  • Yasuda Yoshihiro
  • Katagiri Masayuki

Abrégé

Provided are a resin composition having an excellent potential while maintaining excellent heat tolerance, as well as a cured substance, a sealing material, an adhesive, an insulating material, a coating material, a prepreg, a multilayer body, and a fiber-reinforced composite material. The resin composition contains a cyanic acid ester compound (A), an amine adduct compound (B), and boric acid ester (C).

Classes IPC  ?

  • C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08G 61/02 - Composés macromoléculaires contenant uniquement des atomes de carbone dans la chaîne principale de la molécule, p.ex. polyxylylènes
  • C08J 5/04 - Renforcement des composés macromoléculaires avec des matériaux fibreux en vrac ou en nappes
  • C08J 5/24 - Imprégnation de matériaux avec des prépolymères pouvant être polymérisés en place, p.ex. fabrication des "prepregs"
  • C09D 7/63 - Adjuvants non macromoléculaires organiques
  • C09D 179/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement de l'azote, avec ou sans oxygène ou carbone, non prévues dans les groupes
  • C09J 11/06 - Additifs non macromoléculaires organiques
  • C09J 179/00 - Adhésifs à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement de l'azote, avec ou sans oxygène ou carbone, non prévus dans les groupes

96.

COMPOSITION, AND OPTICAL MATERIAL AND LENS USING SAME

      
Numéro d'application 18030847
Statut En instance
Date de dépôt 2021-09-10
Date de la première publication 2023-11-23
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Imagawa, Yousuke
  • Takemura, Kouhei
  • Sugihara, Ryosuke
  • Sado, Mariko

Abrégé

A composition containing: a compound (a) represented by Formula (1): A composition containing: a compound (a) represented by Formula (1): A composition containing: a compound (a) represented by Formula (1): wherein Ar represents an aromatic ring, m represents an integer of 2 to 8, n represents an integer of 0 to 6, provided that m+n is equal to or less than a number of carbon atoms that constitute the aromatic ring, and R1 each independently represents an alkylthio group, an epoxyalkylthio group, a thiol group, a halogen group, a hydroxy group, a dialkylthiocarbamoyl group, or a dialkylcarbamoylthio group; and 1,2,3,5,6-pentathiepane (b).

Classes IPC  ?

  • C08G 18/38 - Composés de bas poids moléculaire contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
  • G02C 7/02 - Verres; Systèmes de verres

97.

FILAMENT, STRUCTURE, RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING FILAMENT

      
Numéro d'application 18030463
Statut En instance
Date de dépôt 2021-09-01
Date de la première publication 2023-11-23
Propriétaire Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yamanaka, Masaki
  • Matsumoto, Nobuhiko

Abrégé

Provided are: a filament containing a polyamide resin, the filament having a high strength and a high retention percentage of mechanical properties after water absorption; a structure; a resin composition; and a method for producing the filament. The filament includes a polyamide resin containing diamine-derived structural units and dicarboxylic acid-derived structural units. 70 mol % or more of the diamine-derived structural units are derived from xylylenediamine, and 70 mol % or more of the dicarboxylic acid-derived structural units are derived from α,ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having from 11 to 14 carbons. The content of a compound with a molecular weight of 310 or more and 1000 or less is 0.1 mass % or more and 1.5 mass % or less, and the content of a compound with a molecular weight of less than 310 is 0.1 mass % or less.

Classes IPC  ?

  • D01F 6/60 - Filaments, ou similaires, faits par l’homme, à un seul composant, formés de polymères synthétiques; Leur fabrication à partir de produits d'homopolycondensation à partir de polyamides
  • C08G 69/26 - Polyamides dérivés, soit des acides amino-carboxyliques, soit de polyamines et d'acides polycarboxyliques dérivés de polyamines et d'acides polycarboxyliques
  • D01F 8/12 - Filaments, ou similaires, faits par l’homme, conjugués, c. à d. à plusieurs composants; Leur fabrication à partir de polymères synthétiques avec au moins un polyamide comme constituant

98.

COMPOSITION FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND CLEANING METHOD

      
Numéro d'application 18246531
Statut En instance
Date de dépôt 2021-09-22
Date de la première publication 2023-11-16
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Horie, Hiroaki
  • Horita, Akinobu
  • Hamanaka, Makoto
  • Shimada, Kenji
  • Kikunaga, Takahiro

Abrégé

A cleaning composition for semiconductor substrates. The cleaning composition comprises hydrogen peroxide, a hydrogen peroxide stabilizing agent, an alkaline compound, and water. The hydrogen peroxide stabilizing agent is oxalic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, potassium oxalate, 5-phenyl-1H-tetrazole, triethylenetetraminehexaacetic acid, trans-1,2-cyclohexanediaminetetraacetic acid, 8-quinolinol, L(+)-isoleucine, DL-valine, L(-)-proline, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, N,N-di(2-hydroxyethyl)glycine, glycine, L-tryptophan, 2,6-pyridinedicarboxylic acid, benzothiazole, or DL-alanine. The alkaline compound is a quaternary ammonium hydroxide or potassium hydroxide.

Classes IPC  ?

  • C11D 3/04 - Composés inorganiques solubles dans l'eau
  • C11D 3/39 - Percomposés organiques ou inorganiques
  • C11D 3/30 - Amines; Amines substituées
  • C11D 11/00 - Méthodes particulières pour la préparation de compositions contenant des mélanges de détergents

99.

NOVEL LACTIC ACID BACTERIA, AND COMPOSITION, FOOD/DRINK ITEM, AND PHARMACEUTICAL ITEM CONTAINING LACTIC ACID BACTERIA

      
Numéro d'application JP2023015823
Numéro de publication 2023/218898
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-04-20
Date de publication 2023-11-16
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sugimoto, Atsushi
  • Nakamura, Tomoe
  • Chihama, Ryota
  • Takenaka, Yuto
  • Sato, Yuuki

Abrégé

The present invention provides: lactic acid bacteria that enhance IL-12p70 and IFN-λ production, thereby making it possible to increases resistance against infection by infectious microorganisms and viruses, relieve stress, and suppress excessive inflammatory response that causes symptoms to worsen; compositions such as a immunostimulation composition, a stress relief composition, and an inflammation suppression composition, containing said lactic acid bacteria; and food/drink and pharmaceutical items containing the compositions. Lactobacillus sakei strain MG-LAB279 (accession number: NITE BP-03645); compositions such as an immunostimulation composition, a stress relief composition, and an inflammation suppression composition containing, as an active ingredient, said strain or a bacterial cell component thereof; and food/drink and pharmaceutical items containing the compositions.

Classes IPC  ?

  • A61P 3/02 - Nutriments, p.ex. vitamines, minéraux
  • A61P 31/12 - Antiviraux
  • A61P 37/04 - Immunostimulants
  • A61P 43/00 - Médicaments pour des utilisations spécifiques, non prévus dans les groupes
  • C12R 1/225 - Lactobacillus
  • C12N 1/20 - Bactéries; Leurs milieux de culture
  • A23L 33/135 - Bactéries ou leurs dérivés, p.ex. probiotiques
  • A61K 35/747 - Lactobacilles, p.ex. L. acidophilus ou L. brevis

100.

OXYGEN ABSORBENT MATERIAL AND METHOD FOR STORING ARTICLE

      
Numéro d'application JP2023016897
Numéro de publication 2023/219016
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-04-28
Date de publication 2023-11-16
Propriétaire MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kobayashi Naoko
  • Kouno Kazuki
  • Nohira Itsuki

Abrégé

The present invention provides: [1] an oxygen absorbent material which comprises a base material (I), an inorganic layer (II) and a cured product layer (III) of an epoxy resin composition that contains an epoxy resin and an epoxy resin curing agent containing an amine-based curing agent, wherein the inorganic layer (II) and the cured product layer (III) are adjacent to each other; and [2] a method for storing an article, the method comprising one or more modes that are selected from among (1) a mode in which the article is contained in a packaging material in which the oxygen absorbent material described in [1] is sealed and (2) a mode in which the article is contained in a packaging material that at least partially comprises the oxygen absorbent material described in [1], and the packaging material has an oxygen transmission rate of 1 cc/(m2∙day∙atm) or less.

Classes IPC  ?

  • B32B 27/38 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant des résines époxy
  • A23L 3/3526 - Composés organiques contenant de l'azote
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