ASML Holding N.V.

Pays‑Bas

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Type PI
        Brevet 7 660
        Marque 153
Juridiction
        États-Unis 4 323
        International 3 385
        Canada 62
        Europe 43
Propriétaire / Filiale
ASML Netherlands B.V. 7 067
[Owner] ASML Holding N.V. 529
Cymer, LLC 357
Cymer, Inc. 101
Brion Technologies, Inc. 9
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Date
Nouveautés (dernières 4 semaines) 73
2024 novembre (MACJ) 13
2024 octobre 68
2024 septembre 48
2024 août 78
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Classe IPC
G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet 4 202
G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique 814
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet 776
H05G 2/00 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma 520
G03B 27/42 - Appareils de tirage par projection, p.ex. agrandisseur, appareil photographique de reproduction pour la reproduction automatique répétée d'un même original 399
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Classe NICE
09 - Appareils et instruments scientifiques et électriques 130
42 - Services scientifiques, technologiques et industriels, recherche et conception 67
07 - Machines et machines-outils 60
37 - Services de construction; extraction minière; installation et réparation 32
40 - Traitement de matériaux; recyclage, purification de l'air et traitement de l'eau 18
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Statut
En Instance 791
Enregistré / En vigueur 7 022
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1.

METHOD OF MANUFACTURING A MEMBRANE ASSEMBLY

      
Numéro d'application 18774721
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-16
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van Zwol, Pieter-Jan
  • Baltussen, Sander
  • De Graaf, Dennis
  • Franken, Johannes Christiaan Leonardus
  • Giesbers, Adrianus Johannes Maria
  • Klein, Alexander Ludwig
  • Klootwijk, Johan Hendrik
  • Knapen, Peter Simon Antonius
  • Kurganova, Evgenia
  • Kuznetsov, Alexey Sergeevich
  • Notenboom, Arnoud Willem
  • Valefi, Mahdiar
  • Van De Kerkhof, Marcus Adrianus
  • Van Den Einden, Wilhelmus Theodorus Anthonius Johannes
  • Van Der Woord, Ties Wouter
  • Wondergem, Hendrikus Jan
  • Zdravkov, Aleksandar Nikolov

Abrégé

A method for manufacturing a membrane assembly for EUV lithography, the method including: providing a stack including: at least one membrane layer supported by a planar substrate, wherein the planar substrate has an inner region and a border region around the inner region; and a first sacrificial layer between the planar substrate and the membrane layer; selectively removing the inner region of the planar substrate such that the membrane assembly has: a membrane formed from the at least one membrane layer, and a border holding the membrane, the border having the border region of the planar substrate and the first sacrificial layer situated between the border region and the membrane layer, wherein the selectively removing the inner region of the planar substrate includes using an etchant which has a similar etch rate for the membrane layer and its oxide and a substantially different etch rate for the first sacrificial layer.

Classes IPC  ?

  • G03F 1/64 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation caractérisés par les cadres, p.ex. du point de vue de leur structure ou de leur matériau
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

2.

METHODS AND COMPUTER PROGRAMS FOR DATA MAPPING FOR LOW DIMENSIONAL DATA ANALYSIS

      
Numéro d'application 18576441
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-21
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Adal, Kedir Mohammed
  • Sahraeian, Reza
  • Van Dijk, Leon Paul
  • Van Haren, Richard Johannes, Franciscus
  • Haque, Abu, Niyam Md, Mushfiqul

Abrégé

Methods, systems, and apparatus for mapping high dimensional data related to a lithographic apparatus, etch tool, metrology tool or inspection tool to a lower dimensional representation of the data. High dimensional data is obtained related to the apparatus. The high dimensional data has first dimensions N greater than two. A nonlinear parametric model is obtained, which has been trained to map a training set of high dimensional data onto a lower dimensional representation. The lower dimensional representation has second dimensions M, wherein Mis less than N. The model has been trained using a cost function configured to make the mapping preserve local similarities in the training set of high dimensional data. Using the model, the obtained high dimensional data is mapped to the corresponding lower dimensional representation.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

3.

CORRECTING FOR GRID DISTORTION

      
Numéro d'application EP2024059270
Numéro de publication 2024/227556
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-04-04
Date de publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van Rens, Jasper, Frans, Mathijs
  • Goosen, Maikel, Robert

Abrégé

A method for operating a charged particle-optical apparatus, the method comprising: scanning, with the charged particle-optical apparatus, a sample comprising a series of locations with a charged particle beam, so as to generate scan data; changing a setting of at least one charged particle-optical parameter of the charged particle-optical apparatus from location to location, wherein the at least one charged particle-optical parameter affects a charged particle-optical grid distortion of the scan data; and compensating for the charged particle-optical grid distortion, based on the changed setting of the at least one charged particle-optical parameter.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/153 - Dispositions électronoptiques ou ionoptiques pour la correction de défauts d'images, p.ex. stigmateurs
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

4.

METHOD TO MANUFACTURE NANO RIDGES IN HARD CERAMIC COATINGS

      
Numéro d'application 18773176
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-15
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML Holding N.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Akbas, Mehmet Ali
  • Uitterdijk, Tammo
  • Mason, Christopher John
  • Lipson, Matthew
  • Peterson, David Hart
  • Perry, Michael
  • Helmus, Peter
  • Deng, Jerry Jianguo
  • Sohrabibabaheidary, Damoon

Abrégé

A method for reducing sticking of an object to a surface used in a lithography process includes receiving, at a control computer, instructions for a tool configured to modify the surface and forming, in a deterministic manner based on the instructions received at the control computer, a modified surface having a furrow and a ridge, wherein the ridge reduces the sticking by reducing a contact surface area of the modified surface. Another apparatus includes a modified surface that includes furrows and ridges forming a reduced contact surface area to reduce a sticking of an object to the modified surface, the ridges having an elastic property that causes the reduced contact surface area to increase when the plurality of ridges is elastically deformed.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces

5.

INSPECTION APPARATUS AND METHOD

      
Numéro d'application 18776207
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-17
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Wang, Yan
  • Zhang, Jian
  • Kang, Zhiwen
  • Wang, Yixiang

Abrégé

An inspection apparatus for adjusting a working height for a substrate for multiple target heights is disclosed. The inspection apparatus includes a radiation source configured to provide a radiation beam and a beam splitter configured to split the radiation beam into multiple beamlets that each reflect off a substrate. Each beamlet contains light of multiple wavelengths. The inspection apparatus includes multiple light reflecting components, wherein each light reflecting component is associated with one of the beamlets reflecting off the substrate and is configured to support a different target height for the substrate by detecting a height or a levelness of the substrate based on the beamlet reflecting off the substrate.

Classes IPC  ?

  • G01B 15/08 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation d'ondes électromagnétiques ou de radiations de particules, p.ex. par l'utilisation de micro-ondes, de rayons X, de rayons gamma ou d'électrons pour mesurer la rugosité ou l'irrégularité des surfaces
  • H01J 37/20 - Moyens de support ou de mise en position de l'objet ou du matériau; Moyens de réglage de diaphragmes ou de lentilles associées au support
  • H01J 37/21 - Moyens pour la mise au point
  • H01J 37/22 - Dispositifs optiques ou photographiques associés au tube
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

6.

PATTERNING DEVICE FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD

      
Numéro d'application 18552645
Statut En instance
Date de dépôt 2022-03-09
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Van De Kerkhof, Marcus Adrianus

Abrégé

A patterning device for a lithographic apparatus arranged to project a pattern from the patterning device onto a substrate, the patterning device comprising: an imaging area having opposing first sides extending parallel to a scanning direction of the lithographic apparatus and opposing second sides extending perpendicularly to the scanning direction, and at least one sensing mark located adjacent to at least one second side of the imaging area; wherein the at least one sensing mark is located a predetermined distance in the scanning direction away from the at least one second side of the imaging area and extends a width in the scanning direction such that the at least one sensing mark, when projected onto the substrate, fits within a scribe line on the substrate.

Classes IPC  ?

  • G03F 1/42 - Aspects liés à l'alignement ou au cadrage, p.ex. marquages d'alignement sur le substrat du masque
  • G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation
  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique

7.

PATTERN SELECTION SYSTEMS AND METHODS

      
Numéro d'application 18686994
Statut En instance
Date de dépôt 2022-08-22
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Liu, Meng
  • Chen, Been-Der
  • Shao, Debao
  • Wuu, Jen-Yi
  • Chen, Hao
  • Hamouda, Ayman
  • Cheng, Jianhua

Abrégé

Selecting an optimized, geometrically diverse subset of clips for a design layout for a semiconductor wafer is described. A complete representation of the design layout is received. A set of representative clips of the design layout is determined such that individual representative clips comprise different combinations of one or more unique patterns of the design layout. A subset of the representative clips is selected based on the one or more unique patterns. The subset of the representative clips is configured to include: (1) each geometrically unique pattern in a minimum number of representative clips; or (2) as many geometrically unique patterns of the design layout as possible in a maximum number of representative clips. The subset of representative clips is provided as training data for training an optical proximity correction or source mask optimization semiconductor process machine learning model, for example.

Classes IPC  ?

  • G06F 30/392 - Conception de plans ou d’agencements, p.ex. partitionnement ou positionnement
  • G06F 111/20 - CAO de configuration, p.ex. conception par assemblage ou positionnement de modules sélectionnés à partir de bibliothèques de modules préconçus

8.

PATTERN SELECTION FOR SOURCE MASK OPTIMIZATION AND TARGET OPTIMIZATION

      
Numéro d'application 18572764
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-17
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Hsu, Duan-Fu Stephen
  • Jia, Ningning
  • Jiang, Xiaohui
  • Liu, Gengxin

Abrégé

Apparatuses, systems, and methods for selecting a subset of critical patterns from a plurality of patterns of a design layout. In some embodiments, the method includes accessing diffraction order data based on the plurality of patterns that represent features to be formed on at least a portion of a substrate, the diffraction order data including a plurality of peaks corresponding to the plurality of patterns. The method also includes identifying a subset of representative peaks from the plurality of peaks according to one or more grouping criteria, the identifying including identifying a first representative peak that covers another peak colinear with the first representative peak, wherein the first representative peak is a discrete peak having a frequency that is an integer multiple of frequency of another discrete peak. The method further includes selecting the subset of critical patterns corresponding to the subset of representative peaks.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 1/36 - Masques à correction d'effets de proximité; Leur préparation, p.ex. procédés de conception à correction d'effets de proximité [OPC optical proximity correction]

9.

METHOD FOR DETERMINING A STOCHASTIC METRIC RELATING TO A LITHOGRAPHIC PROCESS

      
Numéro d'application 18287166
Statut En instance
Date de dépôt 2022-04-12
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Batistakis, Chrysostomos
  • Pisarenco, Maxim
  • Van Kraaij, Markus Gerardus Martinus Maria
  • Rutigliani, Vito Daniele
  • Middlebrooks, Scott Anderson
  • Verschuren, Coen Adrianus
  • Geypen, Niels

Abrégé

A method of determining a stochastic metric, the method including: obtaining a trained model having been trained to correlate training optical metrology data to training stochastic metric data, wherein the training optical metrology data includes a plurality of measurement signals relating to distributions of an intensity related parameter across a zero or higher order of diffraction of radiation scattered from a plurality of training structures, and the training stochastic metric data includes stochastic metric values relating to the plurality of training structures, wherein the plurality of training structures have been formed with a variation in one or more dimensions on which the stochastic metric is dependent; obtaining optical metrology data including a distribution of the intensity related parameter across a zero or higher order of diffraction of radiation scattered from a structure; and using the trained model to infer a value of the stochastic metric from the optical metrology data.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G06N 20/00 - Apprentissage automatique

10.

THERMAL CONDITIONING UNIT, SUBSTRATE HANDLING DEVICE AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

      
Numéro d'application 18687727
Statut En instance
Date de dépôt 2022-08-08
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Kramer, Gijs

Abrégé

A thermal conditioning unit to thermally condition a substrate, the thermal conditioning unit including: a top surface; a plurality of gas inlets and gas outlets provided in the top surface; a plurality of pressure valves connected to the plurality of gas inlets and gas outlets, wherein each of the plurality of pressure valves is configured to, during use, be connected to a pressure supply to generate a spatial pressure distribution across the top surface of the thermal conditioning unit; and a control device configured to control the plurality of pressure valves to generate, during use, the spatial pressure distribution, wherein the control device is configured to receive substrate shape data representing a shape of the substrate to be conditioned, and wherein the control device is configured to control the plurality of pressure valves to adapt the spatial pressure distribution based on the substrate shape data.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

11.

CONTEXT-BASED METROLOGY IMPUTATION FOR IMPROVED PERFORMANCE OF COMPUTATIONAL GUIDED SAMPLING

      
Numéro d'application EP2024059269
Numéro de publication 2024/227555
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-04-04
Date de publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Lin, Chenxi
  • Wang, Zhihuan
  • Zou, Yi

Abrégé

A method to identify a location on a wafer with a computational model to scan using an inspection tool is disclosed. More particularly, a method of correlating metrology data and context data to impute missing metrology data necessary to train as well as apply a computational model for guided inspection is disclosed. A computational probability prediction model is disclosed to generate defective die probability estimates with improved accuracy and versatility to guide different wafers for inspection.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G01N 21/95 - Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
  • G06N 20/00 - Apprentissage automatique
  • H01L 21/66 - Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement

12.

METHOD FOR EVALUATING MEASUREMENT VALUES OF AN ABERRATION OF A PROJECTION LENS

      
Numéro d'application EP2024061570
Numéro de publication 2024/227706
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-04-26
Date de publication 2024-11-07
Propriétaire
  • CARL ZEISS SMT GMBH (Allemagne)
  • ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Tudorovskiy, Timur
  • Ho, Vinh Huu
  • Schneider, Eva
  • Op Het Veld, Maike
  • Harmes, Robert
  • Stinstra, Erwin Diederik

Abrégé

The invention relates to a method for evaluating measurement values (50) of at least one aberration of a projection lens (22) of a projection exposure system (10) for microlithography. The measurement values were determined at a plurality of field points (52) in a field plane of the projection lens, wherein the projection lens comprises a plurality of optical elements (E1-E4) for guiding an exposure radiation (14) and comprises a manipulator system (M1-M4) by means of which at least one of the optical elements can be manipulated in at least one degree of freedom (68) in order to move a rigid body. The method comprises the following steps: providing a fit function (62) which comprises a polynomial function (64) depending on two variables in the form of location coordinates defining a field plane and a further term (66), wherein the further term comprises rigid-body sensitivities (70) for a plurality of locations in the field plane which each describe a dependency of the at least one aberration (63) on a degree of freedom (68) at the relevant locations, said degree of freedom being able to be controlled by the manipulator system; and extrapolating the measurement values (50) determined at the plurality of field points (52) to further field points (56) of the projection lens by fitting the fit function to the determined measurement values.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

13.

PROTECTIVE DEVICE FOR A VACUUM SEAL

      
Numéro d'application EP2024059409
Numéro de publication 2024/227559
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-04-05
Date de publication 2024-11-07
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Adams, Bradley, Robert
  • Xu, Muchen
  • Debruin, Daniel, Steven
  • Panneerselvam, Arun, Kumar
  • Ridinger, Armin, Bernhard

Abrégé

An apparatus includes: a vacuum sealing device chemically reactive to a target material in an environment, the vacuum sealing device fixed between a first fitting and a second fitting; and a protective device chemically non-reactive to the target material, the protective device positioned between the environment and the vacuum sealing device. When the apparatus is in a first mode of operation, the protective device defines one or more test pathways between the environment and the vacuum sealing device, the one or more test pathways including one or more through pathways within the protective device. When the apparatus is in a second mode of operation, the protective device blocks passage of target material from the environment to the vacuum sealing device.

Classes IPC  ?

  • H05G 2/00 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

14.

ON CHIP SENSOR FOR WAFER OVERLAY MEASUREMENT

      
Numéro d'application 18769032
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-10
Date de la première publication 2024-10-31
Propriétaire
  • ASML Holding N.V. (Pays‑Bas)
  • ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Swillam, Mohamed
  • Roux, Stephen
  • Elazhary, Tamer Mohamed Tawfik Ahmed Mohamed
  • Den Boef, Arie Jeffrey

Abrégé

A sensor apparatus includes a sensor chip, an illumination system, a first optical system, a second optical system, and a detector system. The illumination system is coupled to the sensor chip and transmits an illumination beam along an illumination path. The first optical system is coupled to the sensor chip and includes a first integrated optic to configure and transmit the illumination beam toward a diffraction target on a substrate, disposed adjacent to the sensor chip, and generate a signal beam including diffraction order sub-beams generated from the diffraction target. The second optical system is coupled to the sensor chip and includes a second integrated optic to collect and transmit the signal beam from a first side to a second side of the sensor chip. The detector system is configured to measure a characteristic of the diffraction target based on the signal beam transmitted by the second optical system.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G02B 6/122 - Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
  • G02B 26/08 - Dispositifs ou dispositions optiques pour la commande de la lumière utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander la direction de la lumière

15.

METHOD AND APPARATUS TO DETERMINE A PATTERNING PROCESS PARAMETER

      
Numéro d'application 18621218
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-29
Date de la première publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Tsiatmas, Anagnostis
  • Hinnen, Paul Christiaan
  • Mc Namara, Elliott Gerard
  • Theeuwes, Thomas
  • De La Fuente Valentin, Maria Isabel
  • Shahrjerdy, Mir Homayoun
  • Den Boef, Arie Jeffrey
  • Wang, Shu-Jin

Abrégé

A method including: obtaining a detected representation of radiation redirected by each of a plurality of structures from a substrate additionally having a device pattern thereon, wherein each structure has an intentional different physical configuration of the respective structure than the respective nominal physical configuration of the respective structure, wherein each structure has geometric symmetry at the respective nominal physical configuration, wherein the intentional different physical configuration of the structure causes an asymmetric optical characteristic distribution and wherein a patterning process parameter measures change in the physical configuration; and determining a value, based on the detected representations and based on the intentional different physical configurations, to setup, monitor or correct a measurement recipe for determining the patterning process parameter.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G06T 7/00 - Analyse d'image

16.

IMAGING SYSTEM

      
Numéro d'application 18565200
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-20
Date de la première publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Hartgers, Albertus
  • Steeghs, Marco Matheus Louis
  • Swinkels, Gerardus Hubertus Petrus Maria
  • Imponente, Giovanni
  • Plantz, Nicholas William Maria
  • Engelen, Wouter Joep
  • Van De Kerkhof, Marcus Adrianus

Abrégé

A plate for use in an imaging system to determine at least two optical properties of an illumination beam of the imaging system, the imaging system configured to illuminate an illumination region with the illumination beam, the plate including a plurality of markers, wherein a first subset of the plurality of markers includes a first type of markers for determining a first optical property of the illumination beam, and a second subset of the plurality of markers includes a second type of markers for determining a second optical property of the illumination beam, wherein the plurality of markers are located within a marker region of the plate and the marker region generally corresponds to the illumination region.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

17.

METROLOGY METHOD AND DEVICE

      
Numéro d'application 18571649
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-07
Date de la première publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Tarabrin, Sergey

Abrégé

Disclosed is a dark-field interferometric microscope and associated microscopy method. The microscope comprises an object branch being operable to propagate object radiation onto a sample and collect resultant scattered radiation from said sample and a reference branch being operable to propagate reference radiation. The object radiation and said reference radiation are mutually pointwise spatially coherent. A filter arrangement removes a zeroth order component from said scattered radiation to provide filtered scattered radiation; and a detection arrangement detects an interferometric image from interference of said filtered scattered radiation and reference radiation.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G02B 21/10 - Condensateurs donnant un éclairage sur fond noir

18.

DROPLET DETECTION METROLOGY UTILIZING METROLOGY BEAM SCATTERING

      
Numéro d'application 18576266
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-24
Date de la première publication 2024-10-31
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Urone, Dustin Michael
  • Driessen, Theodorus Wilhelmus
  • Riggs, Daniel Jason
  • Simmons, Rodney D.
  • Bankhead, Jaden Robert
  • Mckenzie, Paul Alexander

Abrégé

Disclosed is an apparatus for and method of detecting a droplet of target material in a system for generating EUV radiation in which an illumination system is used to illuminate the droplet of a target material and a detector is arranged to detect radiation from the illumination system that has been forward or side scattered by the droplet of target material.

Classes IPC  ?

  • G01N 15/0205 - par des moyens optiques
  • H05G 2/00 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma

19.

IMAGE POSITIONING CONTROL METHOD AND SYSTEM

      
Numéro d'application EP2024056751
Numéro de publication 2024/223142
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-14
Date de publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Butler, Hans

Abrégé

A method of controlling an image positioning error in an optical system is described. The optical system comprises a first component, a second component and a third component arranged in an optical path of the optical system. The method comprises: - determining an image positioning error of the first component and feeding through of the image positioning error of the first component to a control loop of the second component to at least partly compensate the image positioning error of the first component; and - determining an image positioning error of the second component and feeding through of the image positioning error of the second component to a control loop of the third component to at least partly compensate the image positioning error of the second component.

Classes IPC  ?

  • B23K 26/04 - Alignement, pointage ou focalisation automatique du faisceau laser, p.ex. en utilisant la lumière rétrodiffusée
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

20.

METHOD AND SYSTEM TO CONTROL THE POSITION OF AN OPTICAL ELEMENT

      
Numéro d'application EP2024056754
Numéro de publication 2024/223143
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-14
Date de publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Butler, Hans

Abrégé

The present disclosure provides a method of controlling a position of an optical element for projecting an image, the method comprising the steps of: - providing the optical element having at least one actuator to allow movement of the optical element in at least a first degree of freedom and at least a second degree of freedom; - determining a movement error of the optical element in at least the second degree of freedom; - correcting an image projection error caused by the movement error in the second degree of freedom using a movement of the optical element in the first degree of freedom.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G02B 7/182 - Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques pour miroirs pour miroirs

21.

LITHOGRAPHIC APPARATUS WITH A FLUID HANDLING STRUCTURE

      
Numéro d'application EP2024057349
Numéro de publication 2024/223155
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-19
Date de publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Smeets, Benjamin, Cunnegonda, Henricus
  • Huiberts, Sjoerd, Martijn
  • Berendsen, Christianus, Wilhelmus, Johannes
  • Eummelen, Erik, Henricus, Egidius, Catharina
  • Park, Sang-Myung
  • Tap, Mireille, Alexandra
  • Ok Di Lucente, Beril
  • Van Grotel, Martinus, Franciscus, Adrianus, Maria
  • Duymelinck, Rob, Engelbertus, Jacobus
  • Gattobigio, Giovanni, Luca
  • Migchelbrink, Ferdy

Abrégé

Disclosed herein is a lithographic apparatus comprising a fluid handling structure that is separated from a substrate and/or substrate support by a separation distance; a positioning device configured to move the substrate support and thereby the substrate; and a control system configured to control the positioning device so that the substrate support is moved along a route comprising one or more preparatory movements and one or more scanning movements; wherein: the control system is further configured to control the position of the fluid handling structure and/or substrate support so as to change the separation distance in dependence of whether a preparatory movement or a scanning movement is being performed; each preparatory movement is for moving the substrate to a position from which a new scanning movement may be started; and each scanning movement is for moving and/or positioning the substrate during one or more exposure processes.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

22.

EXPOSURE APPARATUS AND METROLOGY MEASUREMENT SYSTEM

      
Numéro d'application EP2024057591
Numéro de publication 2024/223169
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-21
Date de publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Gommans, Thomas, Martinus, Petrus
  • Ter Huurne, Tim, Gerardus, Hendrikus

Abrégé

An exposure apparatus comprises a first structure extending in a second direction and a first actuator to move the first structure in a first direction and a second structure extending in the first direction and a second actuator configured to move the second structure in the second direction, the second direction being substantially perpendicularly to the first direction. A first and a second substrate table are connected to the first and second structures. The first actuator is configured to rotate the first structure around a third direction to determine a rotation of the first substrate table around the third direction, the third direction being substantially perpendicular to the first and to the second direction. The second actuator is configured to rotate the second structure around the third direction to determine a rotation of the second substrate table around the third direction.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • H01L 21/68 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement

23.

TWINSCAN NXT

      
Numéro d'application 1819645
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2024-10-08
Date d'enregistrement 2024-10-08
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

Semi-conductor lithographic machines, and their parts and fittings.

24.

HMI HERMES MICROVISION

      
Numéro d'application 1819646
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2024-09-26
Date d'enregistrement 2024-09-26
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Classes de Nice  ?
  • 07 - Machines et machines-outils
  • 09 - Appareils et instruments scientifiques et électriques
  • 37 - Services de construction; extraction minière; installation et réparation
  • 42 - Services scientifiques, technologiques et industriels, recherche et conception

Produits et services

Semiconductor manufacturing machines and semiconductor machinery. Electronic imaging hardware and software in the field of inspection of semiconductor materials, namely, semiconductor wafers and reticles; computer hardware and software for inspection of semiconductor materials, namely, semiconductor wafers and reticles. Machinery maintenance and repair in the field of semiconductor industry; installation of semiconductor machines and semiconductor instruments and apparatus; installation of machines, instruments and apparatus for the manufacture of semiconductors. Technology supervision and inspection in the field of quality control of semiconductor wafers and reticles.

25.

A POSITION MEASUREMENT SYSTEM, A POSITIONING SYSTEM, A LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD

      
Numéro d'application 18577515
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-30
Date de la première publication 2024-10-31
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Van De Kerkhof, Marcus Adrianus

Abrégé

The invention provides a position measurement system to measure a position of an object in a movement direction relative to a reference, said position measurement system comprising: —a diffraction grating, and —an interferometer, wherein the interferometer is configured to direct a measurement beam to the diffraction grating in a measuring direction that is orthogonal to the movement direction of the object, and wherein the diffraction grating is oriented relative to the interferometer such that the measurement beam is substantially at a Littrow angle of the diffraction grating so that a diffracted beam to be received by the interferometer is substantially parallel to the measuring direction.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

26.

VACUUM SYSTEM

      
Numéro d'application EP2024059469
Numéro de publication 2024/223272
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-04-08
Date de publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • De Hoogh, Joost
  • Naki̇boğlu, Güneş
  • Jacobs, Johannes, Henricus, Wilhelmus
  • Mcgraw, Aaron
  • Direcks, Daniel, Jozef, Maria

Abrégé

A vacuum system configured to provide a vacuum to a heat transfer fluid of a fluid-conditioned lithographic system element, the vacuum system comprising: a venturi, configured to generate a partial vacuum; and a buffer vessel, configured to contain a partial vacuum. The buffer vessel is in fluid communication with a constriction of the venturi, and the buffer vessel is further configured to be in fluid communication with a heat transfer fluid of a fluid-conditioned lithographic system element.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

27.

METROLOGY METHOD AND APPARATUS AND COMPUTER PROGRAM BACKGROUND

      
Numéro d'application EP2024059549
Numéro de publication 2024/223282
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-04-09
Date de publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Zacca, Vincenzo, Giuseppe
  • Zwier, Olger, Victor

Abrégé

Disclosed is a method of metrology, comprising: obtaining metrology data relating to one or more targets on a substrate, the metrology data comprising intensity metric data relating to one or more intensity metrics, and phase difference metric data relating to a phase difference metric; determining intensity asymmetry metric data from said intensity metric data, said intensity asymmetry metric data describing, for each said intensity metric, an asymmetry in said intensity metric data between diffraction orders of a complementary pair of diffraction orders following diffraction by said one or more targets; obtaining one or more pre-calibrated asymmetry coefficients; and determining a value for a parameter of interest from said phase difference metric data, and said intensity asymmetry metric data as weighted by said pre-calibrated asymmetry coefficients.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

28.

INSPECTION OR QUALIFICATION APPARATUS FOR PROCESSING AN OBJECT FOR USE WITHIN AN EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHIC APPARATUS

      
Numéro d'application EP2024060528
Numéro de publication 2024/223396
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-04-18
Date de publication 2024-10-31
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van Gestel, Dries, Els, Victor
  • Biermanns-Foeth, Andreas
  • Lebert, Rainer Helmut
  • Phiesel, Christoph, Sebastian

Abrégé

An apparatus for determining one or more characteristics of an object for use in an EUV lithographic apparatus comprises: a support; a radiation system; a detector system; and a radiation adjustment module. The support is for supporting an object (for example, a pellicle, a reticle or a reticle and pellicle assembly). The radiation system is operable to produce and deliver a radiation beam so as to be incident on an object when supported by the support. The detector system is operable to receive radiation that has interacted with an object when supported by the support. The radiation adjustment module is operable to adjust one or more characteristics of the radiation beam delivered to the object or the radiation received by the detector system so as to allow characteristics of a plurality of different objects, each having different characteristics, to be determined, which may provide control over a EUV radiation dose.

Classes IPC  ?

29.

LITHOGRAPHIC METHOD TO ENHANCE ILLUMINATOR TRANSMISSION

      
Numéro d'application 18682789
Statut En instance
Date de dépôt 2022-07-27
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Downey, Todd R.
  • Manca, Marianna
  • Gomulya, Widianta
  • Mankala, Kalyan Kumar
  • Nath, Janardan

Abrégé

Systems, apparatuses, and methods are provided for adjusting illumination slit uniformity in a lithographic apparatus. An example method can include determining whether an exposure field for a wafer exposure operation is less than a maximum exposure field of a uniformity correction system. In response to determining that the exposure field is less than the maximum exposure field, the example method can include modifying illumination slit uniformity calibration data associated with the maximum exposure field to generate modified illumination slit uniformity calibration data associated with the exposure field. Subsequently, the example method can include determining an optimal position of a finger assembly of the uniformity correction system based on the modified illumination slit uniformity calibration data.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

30.

METROLOGY SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND METHOD

      
Numéro d'application 18686742
Statut En instance
Date de dépôt 2022-08-05
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Goorden, Sebastianus Adrianus
  • Huisman, Simon Reinald
  • Alpeggiani, Filippo

Abrégé

Systems, apparatuses, and methods are provided for correcting an alignment measurement or overlay error. An example method can include measuring an observable in response to an illumination of a region of a surface by a radiation beam, such as interference between radiation diffracted from the region. The example method can further include generating a measurement signal indicative of the observable. In some aspects, the measurement signal can include interference fringe pattern data indicative of the measured interference. The example method can further include determining a correction to a measurement value based on measurement signal. Optionally, the correction can include a correction to an alignment measurement of an alignment sensor, a correction to an overlay error of an overlay sensor, or both.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique

31.

METHODS, SOFTWARE, AND SYSTEMS FOR DETERMINATION OF CONSTANT-WIDTH SUB-RESOLUTION ASSIST FEATURES

      
Numéro d'application 18713143
Statut En instance
Date de dépôt 2022-11-23
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Peng, Xingyue
  • Jia, Ningning
  • Shi, Zhan
  • Howell, Rafael C.

Abrégé

Methods, software, and systems are disclosed for determining mask patterns. The determination can include obtaining a mask pattern including sub-resolution assist features (SRAFs) each having constant widths. The widths are set as continuous variables and so can be optimized along with other variables during a mask optimization process of the mask pattern. Based on their population and/or statistics, the optimized continuous widths are then discretized to a limited number of global width levels. Further mask optimization be performed with the SRAFs having discretized optimized global width levels, where the width assigned to an individual SRAF may be adjusted to a different level of the global width levels.

Classes IPC  ?

  • G03F 1/36 - Masques à correction d'effets de proximité; Leur préparation, p.ex. procédés de conception à correction d'effets de proximité [OPC optical proximity correction]

32.

BEAM MANIPULATOR IN CHARGED PARTICLE-BEAM APPARATUS

      
Numéro d'application 18759499
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-28
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Aksenov, German
  • Beugin, Vincent Claude
  • Brandt, Pieter Lucas

Abrégé

Disclosed herein is a manipulator or an array of manipulator. A manipulator manipulates a charged particle beam in a projection system. The manipulator comprising a substrate with major surfaces and a through-passage between associated apertures in the major surfaces. The through passage configured for passage of a path of a charged particle beam. An inner wall of the through-passage between the major surfaces comprises a plurality of electrodes configured to manipulate the charged particle beam. Each electrode comprises doped substrate. The through-passage comprises recesses that extend away from the path of the charged particle beam. Each recess defines a gap between the adjacent electrodes and further comprising an electrically insulating region between the adjacent electrodes. The recesses extend behind at least one of the adjacent electrodes relative to the path of the charged particle beam and comprising at least part of the electrically insulating region.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

33.

APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING AN INSPECTION SYSTEM

      
Numéro d'application 18759703
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-28
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Nikipelov, Andrey
  • Farokhipoor, Saeedeh
  • Van Kampen, Maarten

Abrégé

A method and apparatus for cleaning vacuum ultraviolet (VUV) optics (e.g., one or more mirrors of a VUV) of a substrate inspection system is disclosed. The cleaning system ionizes or disassociates hydrogen gas in a VUV optics environment to generate hydrogen radicals (e.g., H*) or ions (e.g., H+, H2+, H3+), which remove water or hydrocarbons from the surface of the one or more mirrors. The one or more VUV mirrors may include a reflective material, such as aluminum. The one or more VUV mirrors may have a protective coating to protect the reflective material from any detrimental reaction to the hydrogen radicals or ions. The protective coating may include a noble metal.

Classes IPC  ?

  • G01N 21/15 - Prévention de la souillure des éléments du système optique ou de l'obstruction du chemin lumineux
  • G01N 21/88 - Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
  • G01N 21/95 - Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
  • G02B 1/18 - Revêtements pour garder des surfaces optiques propres, p.ex. films hydrophobes ou photocatalytiques
  • G02B 5/08 - Miroirs

34.

USING REINFORCEMENT LEARNING TO DETERMINE OPTIMAL ALIGNMENT FOR AN OPTICAL SYSTEM

      
Numéro d'application EP2024057610
Numéro de publication 2024/217818
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-21
Date de publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Harrison, Kramer, Daniel
  • Tan, Jeryl, Jing, Xian
  • Kockerols, Jean
  • Pasveer, Willem, Franke

Abrégé

Corrections and/or other adjustments to an optical system of a lithography, metrology, and/or other apparatuses are typically based on information from a prior manufacturing and/or metrology operation, user experience with the lithography and/or metrology system and/or process, basic optical physics principles, and/or other information. Advantageously, the present systems and methods use 5 reinforcement learning to optimize the alignment of tens, hundreds, thousands, or millions of optical system components (along with associated settings and/or other characteristics), and make corrections and/or other adjustments that optimize adjustment and/or processing time, and/or costs.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G02B 7/00 - Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques
  • G02B 27/62 - Appareils optiques spécialement adaptés pour régler des éléments optiques pendant l'assemblage de systèmes optiques

35.

OPTICAL AMPLIFIER

      
Numéro d'application EP2024058770
Numéro de publication 2024/217855
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-29
Date de publication 2024-10-24
Propriétaire
  • ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
  • TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING GMBH (Allemagne)
Inventeur(s)
  • Janssen, Toni, Wil, Mathijs
  • Alvarez Alonso, Diego, Alejandro
  • Schweikert, Sven

Abrégé

An optical amplifier comprises: an amplification chamber; a first pump; a first heat exchanger; a second pump; and a new catalyst module. The amplification chamber is configured to receive a laser beam and output an amplified laser beam. The first pump is configured to pump a gain medium around a gain medium system. The second pump is configured to pump a cooling fluid through the first heat exchanger. The first heat exchanger is arranged to transfer heat from the gain medium to a cooling fluid after the gain medium has passed through the amplification chamber. The new catalyst module comprises: a body and a catalyst disposed within the body. The body forms part of the gain medium system and is disposed downstream of the amplification chamber and upstream of the first heat exchanger. In use, the gain medium is adjacent to, or in contact with, the catalyst.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/03 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet - Détails de structure des tubes laser à décharge dans le gaz
  • H01S 3/04 - Dispositions pour la gestion thermique
  • H01S 3/036 - Moyens pour obtenir ou maintenir la pression désirée du gaz à l'intérieur du tube, p.ex. au moyen d'un getter ou d'une réactivation; Moyens pour faire circuler le gaz, p.ex. pour uniformiser la pression à l'intérieur du tube
  • H01S 3/041 - Dispositions pour la gestion thermique pour des lasers à gaz
  • H01S 3/104 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation par commande du milieu actif, p.ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation dans des lasers à gaz
  • H01S 3/223 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plusieurs atomes

36.

METHOD AND SYSTEM FOR SIMULATING OVERLAY CORRECTION INDUCED IMAGING IMPACT IN LITHOGRAPHY

      
Numéro d'application EP2024058791
Numéro de publication 2024/217856
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-29
Date de publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Hsu, Duan-Fu, Stephen
  • Tang, Jialei
  • Baselmans, Johannes, Jacobus, Matheus
  • Sun, Dezheng

Abrégé

Described herein is a method and system for obtaining fading data related to prescribed overlay correction performed by a lithographic apparatus during a lithography process. The lithography process may be simulated based on the fading data to predict imaging of patterns from the lithography process. The simulation predicts a set of patterning parameters that is indicative of imaging impact due to the overlay correction. Based on the predicted impact, the patterning parameters or the overlay correction terms may be adjusted to minimize the imaging impact prior to patterning the substrate.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

37.

LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ASSOCIATED METHODS

      
Numéro d'application EP2024058797
Numéro de publication 2024/217857
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-29
Date de publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van De Kerkhof, Marcus, Adrianus
  • Van Der Ham, Ronald
  • Van Gestel, Dries, Els, Victor
  • Janssen, Franciscus, Johannes, Joseph
  • Vermeulen, Paul, Alexander
  • Engel, Michael
  • Wolf, Abraham, Jan
  • Smeets, Martin, Frans, Pierre

Abrégé

A lithographic method comprises forming an image of a reticle on a substrate a plurality of times. Each such image formation process comprises: illuminating a first portion of a reticle and pellicle assembly with a radiation beam; and collecting radiation scattered by the reticle and projecting it onto a target region of a substrate using projection optics. The lithographic method further comprises periodically illuminating a second portion of the reticle and pellicle assembly with a radiation beam, the second portion of the reticle and pellicle assembly at least partially surrounding the first portion. Some pellicles are susceptible to hydrogen etching and such pellicles tend to fail in a region surrounding a central portion. Advantageously, by periodically illuminating a second portion of the reticle and pellicle assembly with a radiation beam, hydrogen etching of the second portion of the reticle and pellicle assembly can be suppressed.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

38.

SOFTWARE, METHODS, AND SYSTEMS FOR DETERMINATION OF A LOCAL FOCUS POINT

      
Numéro d'application 18761319
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-02
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Wang, Te-Sheng
  • Wang, Szu-Po
  • Chi, Kai-Yuan

Abrégé

Disclosed are non-transitory computer-readable media, systems, and computer-implemented methods that describe obtaining hot spot (HS) location information with respect to a printed pattern; obtaining LFP search criteria for searching the printed pattern to determine a local focus point (LFP) for an imaging device; selecting a HS area in the printed pattern that contains a HS; and determining the LFP proximate to the HS area based on the LFP search criteria, the LFP not containing the HS.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/22 - Dispositifs optiques ou photographiques associés au tube
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

39.

MODULAR AUTOENCODER MODEL FOR MANUFACTURING PROCESS PARAMETER ESTIMATION

      
Numéro d'application 18259344
Statut En instance
Date de dépôt 2021-12-20
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Onose, Alexandru
  • Tiemersma, Bart Jacobus Martinus
  • Verheul, Nick
  • Dirks, Remco
  • Barbieri, Davide
  • Van Laarhoven, Hendrik Adriaan

Abrégé

A modular autoencoder model is described. The modular autoencoder model comprises input models configured to process one or more inputs to a first level of dimensionality suitable for combination with other inputs: a common model configured to: reduce a dimensionality of combined processed inputs to generate low dimensional data in a latent space; and expand the low dimensional data in the latent space into one or more expanded versions of the one or more inputs suitable for generating one or more different outputs; output models configured to use the one or more expanded versions of the one or more inputs to generate the one or more different outputs, the one or more different outputs being approximations of the one or more inputs; and a prediction model configured to estimate one or more parameters based on the low dimensional data in the latent space.

Classes IPC  ?

  • G06N 3/0455 - Réseaux auto-encodeurs; Réseaux encodeurs-décodeurs

40.

PHOTONIC CRYSTAL FIBER

      
Numéro d'application EP2024056789
Numéro de publication 2024/217786
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-14
Date de publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Abdolvand, Amir
  • Ni, Yongfeng
  • Buijs, Robin, Daniel
  • Den Boef, Arie, Jeffrey
  • Provino, Laurent, Jean, François
  • Van Schaijk, Theodorus, Thomas, Marinus

Abrégé

A photonic crystal fiber (10) comprising a core region and a cladding region surrounding the core region. The core region and the cladding region comprise a material (12) having a first refractive index, the cladding region additionally comprising a plurality of microstructures (14) extending from an input end of the fiber along a longitudinal axis of the fiber to an output end of the fiber, the plurality of microstructures (14) having a second refractive index which less than the first refractive index. The plurality of microstructures in the cladding region are arranged in a cross-sectional pattern comprising at least one ring of microstructures surrounding the core region, wherein a diameter of the maximum extent of the core region is at least 16 µm, the photonic crystal fiber having a transmission bandwidth of 200 nm or more.

Classes IPC  ?

  • G02B 6/02 - Fibres optiques avec revêtement

41.

METHOD FOR EVALUATING THE FLATNESS OF A SUBSTRATE SUPPORT

      
Numéro d'application EP2024057245
Numéro de publication 2024/217800
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-19
Date de publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Bezold, Steffen
  • Afanasiev, Konstantin
  • Bischoff, Christoph, Matthias
  • Meissner, Torsten
  • Metje, Jan
  • Schmidt, Alex
  • Warming, Till

Abrégé

A method of evaluating the flatness of a substrate support, the method comprising: clamping a substrate having an upper surface and a lower surface to the substrate support such that the lower surface of the substrate is in contact with the substrate support; and performing interferometric measurement of the lower surface of the substrate using an interferometer.

Classes IPC  ?

  • G01B 5/00 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques mécaniques
  • G01B 9/02017 - Interféromètres caractérisés par la configuration du parcours du faisceau avec plusieurs interactions entre l’objet ciblé et les faisceaux lumineux, p.ex. les réflexions des faisceaux provenant de positions différentes
  • G01B 11/30 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer la rugosité ou l'irrégularité des surfaces
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

42.

SUBSTRATE PROCESSING

      
Numéro d'application EP2024057574
Numéro de publication 2024/217816
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-21
Date de publication 2024-10-24
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van Hal, Paulus, Albertus
  • Koevoets, Adrianus, Hendrik

Abrégé

The present invention relates to a method for processing a substrate comprising: a) providing a substrate on a support; b) measuring a property of the substrate and/or of a rinsing liquid; c) controlling the addition of one or more additives to the rinsing liquid based on the measurement, to adjust the pH value and/or the conductivity of the rinsing liquid to a predetermined value; and d) providing the rinsing liquid to a first surface of the substrate via one or more nozzles. The present invention also relates to a system for processing a substrate and to a method for manufacturing a device.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/66 - Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement
  • B08B 3/04 - Nettoyage impliquant le contact avec un liquide
  • G03F 1/00 - Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants

43.

DETERMINING A CORRECTION TO A PROCESS

      
Numéro d'application 18674537
Statut En instance
Date de dépôt 2024-05-24
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Roy, Sarathi
  • Hulsebos, Edo Maria
  • Werkman, Roy
  • Ruan, Junru

Abrégé

A method for configuring a semiconductor manufacturing process, the method including: obtaining a first value of a first parameter based on measurements associated with a first operation of a process step in the semiconductor manufacturing process and a first sampling scheme; using a recurrent neural network to determine a predicted value of the first parameter based on the first value; and using the predicted value of the first parameter in configuring a subsequent operation of the process step in the semiconductor manufacturing process.

Classes IPC  ?

  • G05B 19/418 - Commande totale d'usine, c.à d. commande centralisée de plusieurs machines, p.ex. commande numérique directe ou distribuée (DNC), systèmes d'ateliers flexibles (FMS), systèmes de fabrication intégrés (IMS), productique (CIM)
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G05B 13/02 - Systèmes de commande adaptatifs, c. à d. systèmes se réglant eux-mêmes automatiquement pour obtenir un rendement optimal suivant un critère prédéterminé électriques
  • G06N 3/044 - Réseaux récurrents, p.ex. réseaux de Hopfield

44.

SYSTEMS AND METHODS OF CLEANING ELECTRON SOURCES IN CHARGED-PARTICLE BEAM SYSTEMS

      
Numéro d'application 18751031
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-21
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Du, Zhidong
  • Liu, Xuedong

Abrégé

Systems and methods of removing a contaminant from an emitter tip of an electron source in an electron beam apparatus are disclosed. An electron beam apparatus may include an electron source comprising an emitter tip configured to emit electrons and an optical source configured to generate an optical beam illuminating a portion of the emitter tip to excite a surface mode of the optical beam, wherein the excited surface mode facilitates removal of a contaminant from a surface of the illuminated portion of the emitter tip. The excited surface mode may comprise a propagating surface wave or a localized surface wave. The emitter tip may comprise a grating structure, wherein a characteristic of the grating structure matches a wavevector of the optical beam.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/22 - Dispositifs optiques ou photographiques associés au tube

45.

METROLOGY METHOD AND METROLOGY DEVICE

      
Numéro d'application 18291534
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-08
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Tenner, Vasco Tomas
  • Cramer, Hugo Augustinus Joseph
  • Tukker, Teunis Willem
  • Van De Ven, Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus

Abrégé

Disclosed is a metrology device operable to measure a sample with measurement radiation and associated method. The metrology device comprises: an illumination branch operable to propagate measurement radiation to a sample, a detection branch operable to propagate one or more components of scattered radiation, scattered from said sample as a result of illumination of the sample by said measurement radiation; and a dispersive arrangement in either of said illumination branch or said detection branch. The dispersive arrangement is arranged to maintain one or more components of said scattered radiation at substantially a same respective location in a detection pupil plane over a range of wavelength values for said measurement radiation.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

46.

AN ELECTROSTATIC CLAMP FOR USE IN LITHOGRAPHY

      
Numéro d'application EP2024056459
Numéro de publication 2024/213326
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-12
Date de publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Cats, Selwyn, Yannick, Frithjof
  • Brouns, Derk, Servatius, Gertruda

Abrégé

A lithographic apparatus having an electrostatic clamp system comprising: a plurality of electrodes configured to exert an electrostatic clamping force on a component; a power source connected to the plurality of electrodes; and a controller configured to control the potential applied to the plurality of electrodes to alternate between a first mode and a second mode, in synchronism with the generation of pulses of radiation in the lithographic apparatus, wherein: in the first mode, the average potential of the plurality of electrodes is a first potential; and in the second mode, the average potential of the plurality of electrodes is a second potential; and the first potential is more positive than the second potential.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

47.

METHOD FOR EFFICIENT DYNAMIC SAMPLING PLAN GENERATION AND ACCURATE PROBE DIE LOSS PROJECTION

      
Numéro d'application EP2024056887
Numéro de publication 2024/213339
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-14
Date de publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Lin, Chenxi
  • Wang, Fuming
  • Wang, Zhihuan

Abrégé

A method to generate an inspection tool sampling plan is disclosed. More, particularly, a method to generate an inspection tool sampling plan for more accurate die loss projection assuming non-uniform defect density or distribution on a wafer is disclosed. A method to optimize an inspection tool sampling plan is disclosed. More particularly, a method of optimizing a wafer region definition and sampling budget distribution for improved die loss projection without relying on pre-determined wafer region definition and sampling budget distribution variables is disclosed. A computational probability prediction model, sampling plan optimizer, and die loss projection formula are disclosed to project die loss with improved accuracy and versatility to guide different wafers for inspection.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • H01L 21/66 - Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement

48.

SYSTEM AND APPARATUS FOR STABILIZING ELECTRON SOURCES IN CHARGED PARTICLE SYSTEMS

      
Numéro d'application 18580152
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-23
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • La Fontaine, Bruno
  • Dou, Juying
  • Du, Zhidong
  • Kuo, Che-Chia

Abrégé

Apparatuses and systems for stabilizing electron sources in charged particle beam inspection systems are provided. In some embodiments, a system may include an electron source comprising an emitting tip electrically connected to two electrodes and configured to emit an electron; and a base coupled to the emitting tip, wherein the base is configured to stabilize the emitting tip via the coupling.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/065 - Montage des canons ou de leurs éléments constitutifs

49.

A METHOD OF MONITORING A LITHOGRAPHIC PROCESS AND ASSOCIATED APPARATUSES

      
Numéro d'application 18683124
Statut En instance
Date de dépôt 2022-08-04
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Bastani, Vahid
  • Zhang, Yichen
  • De Athayde Costa E Silva, Marsil
  • Dillen, Hermanus Adrianus
  • Van Wijk, Robert Jan

Abrégé

A computer implemented method of determining a placement metric relating to placement of one or more features on a substrate in a lithographic process. The method includes obtaining setup data including placement error contributor data relating to a plurality of placement error contributor parameters and yield data representative of yield and defining a statistical model for predicting a yield metric, the statistical model being based on a placement metric, the placement metric being a function of the placement error contributor parameters, and associated model coefficients. The model coefficients are fitted based on the setup data, and the placement metric determined from the fitted model coefficients.

Classes IPC  ?

  • G06F 30/17 - Conception mécanique paramétrique ou variationnelle
  • G06F 30/27 - Optimisation, vérification ou simulation de l’objet conçu utilisant l’apprentissage automatique, p.ex. l’intelligence artificielle, les réseaux neuronaux, les machines à support de vecteur [MSV] ou l’apprentissage d’un modèle

50.

SENSOR SYSTEM

      
Numéro d'application 18683389
Statut En instance
Date de dépôt 2022-08-08
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Kramer, Gijs

Abrégé

A sensor system for measuring a shape of a substrate, the sensor system include: a substrate support to support a surface of the substrate; at least one sensor device, each sensor device including an optical emitter to emit radiation onto the surface of the substrate, and an optical receiver to receive the radiation reflected from the surface; and a controller. The controller is configured to: determine at least one measurement height of the surface of the substrate above each of the at least one sensor device, based on the received radiation; compensate for gravitational sag of the substrate relative to a calibration height; and determine the shape of the substrate based on a comparison of the calibration height and the at least one measurement height.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G01B 11/06 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur pour mesurer l'épaisseur
  • G01B 11/245 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer des contours ou des courbes en utilisant plusieurs transducteurs fixes fonctionnant simultanément
  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique

51.

AN OBJECT GRIPPER, A METHOD OF HOLDING AN OBJECT AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS

      
Numéro d'application 18294202
Statut En instance
Date de dépôt 2022-07-19
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Van Dongen, Paul

Abrégé

A gripper for an object handler includes an engaging surface for engaging a surface of an object, and a first channel connected to a first outlet, the first outlet being configured to operate, during use, as a vacuum clamp arranged to secure the engaging surface to the surface of the object. The gripper further includes a second channel arranged to be connected to a pressure source, and at least one second outlet arranged adjacent to the engaging surface and connected to the second channel.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • B25J 15/06 - Têtes de préhension avec moyens de retenue magnétiques ou fonctionnant par succion
  • H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension

52.

METROLOGY METHOD

      
Numéro d'application EP2024056279
Numéro de publication 2024/213322
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-08
Date de publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Tinnemans, Patricius, Aloysius, Jacobus

Abrégé

Disclosed is a method of metrology relating to measurement of a structure on a substrate, said structure being subject to process variation. The method comprises obtaining first measurement data relating to a phase of measurement radiation having been scattered from one or more marks, and relating to a plurality of measurement conditions; obtaining second measurement data relating to an intensity of said measurement radiation and relating to said plurality of measurement conditions; obtaining a weighting for said first measurement data and second measurement data, said weighting comprising a modulus component relating to a modulus of complex weights and an argument component relating to an argument of the complex weights; and determining a first parameter value for a first parameter from said first measurement data and said second measurement data, as weighted by said weighting.

Classes IPC  ?

  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

53.

CONDUCTIVE POLYMERS FOR RETICLE TABLE CLEANING APPARATUS

      
Numéro d'application EP2024056738
Numéro de publication 2024/213336
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-13
Date de publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Kim, Jungseung
  • Ebert, Earl, William

Abrégé

pptranstrans-polyacetylene, a combination thereof, or a derivative thereof (e.g., polymer blends, copolymers, grafted polymers, surface modifications, surface treatments, additives, and/or fillers).

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

54.

SYSTEMS AND METHODS FOR CLAMPING A PATTERNING DEVICE IN A LITHOGRAPHY APPARATUS

      
Numéro d'application EP2024057693
Numéro de publication 2024/213378
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-21
Date de publication 2024-10-17
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Bijvoet, Dirk-Jan

Abrégé

A patterning device (e.g., a reticle) is typically clamped to a chuck in a lithography apparatus by vacuum clamps to drive the patterning device in a scan direction. Acceleration of the patterning device for a scan often causes deformation of the patterning device in an corkscrew like and/or twisting shape. A new clamping system is described, which comprises a vacuum clamp configured to apply a clamping force to the patterning device, and an actuator configured to apply an actuation force to the patterning device to reduce or eliminate deformation (e.g., twist deformation) imparted to the patterning device during the acceleration. The actuator is configured to apply the actuation force responsive to the acceleration.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

55.

CHARGED-PARTICLE OPTICAL APPARATUS AND PROJECTION METHOD

      
Numéro d'application 18743011
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-13
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Scotuzzi, Marijke
  • Mangnus, Albertus Victor Gerardus
  • Ren, Yan
  • Smakman, Erwin Paul
  • Van Soest, Jurgen

Abrégé

A charged-particle optical apparatus configured to project a multi-beam of charged particles, the apparatus comprising: a charged particle device switchable between (i) an operational configuration in which the device is configured to project the multi-beam to a sample along an operational beam path extending from a source of the multi-beam to the sample and (ii) a monitoring configuration in which the device is configured to project the multi-beam to a detector along a monitoring beam path extending from the source to the detector; wherein the monitoring beam path diverts from the inspection beam path part way along the operational beam path.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
  • H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
  • H01J 37/22 - Dispositifs optiques ou photographiques associés au tube
  • H01J 37/244 - Détecteurs; Composants ou circuits associés
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

56.

METHOD OF GENERATING A SAMPLE MAP, COMPUTER PROGRAM PRODUCT, CHARGED PARTICLE INSPECTION SYSTEM, METHOD OF PROCESSING A SAMPLE, ASSESSMENT METHOD

      
Numéro d'application 18744367
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-14
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Chen, Tzu-Chao
  • Wang, Te-Sheng

Abrégé

Methods are disclosed for generating a sample map and processing a sample. In one arrangement, a method comprises measuring a position of a first mark in each of a plurality of field regions on sample. A first model is fitted to the measured positions of the first marks. The fitted first model represents positions of the field regions. The method comprises measuring positions of a plurality of second marks in one field region or in each of a plurality of field regions. A second model is fitted to the measured positions of the second marks. The fitted second model represents a shape of each field region. A sample map is output using the fitted first and second models.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
  • H01J 37/244 - Détecteurs; Composants ou circuits associés
  • H01J 37/26 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

57.

METHOD OF PROCESSING A SAMPLE, AND CHARGED PARTICLE ASSESSMENT SYSTEM

      
Numéro d'application 18748694
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-20
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van Soest, Jurgen
  • Wieland, Marco Jan-Jaco
  • Kuiper, Vincent Sylvester

Abrégé

Methods of processing a sample and charged particle assessment systems are disclosed. In one arrangement, a sample is processed using a multi-beam of sub-beams of charged particles. At least a portion of a sub-beam processable area is processed with each sub-beam. The sub-beam processable area comprising an array of sections having rows of sections and columns of sections. Each row of sections defines an elongate region that is substantially equal to or smaller than a pitch at the sample surface of the sub-beams in the multi-beam. A plurality of the sections are processed.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/20 - Moyens de support ou de mise en position de l'objet ou du matériau; Moyens de réglage de diaphragmes ou de lentilles associées au support
  • H01J 37/304 - Commande des tubes par une information en provenance des objets, p.ex. signaux de correction
  • H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions

58.

NOZZLE FOR PROVIDING A GAS FLOW AND METHOD OF MAKING THE NOZZLE

      
Numéro d'application EP2024056281
Numéro de publication 2024/208536
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-08
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Appeltants, Wilfried
  • Van Der Graaf, Sandra
  • Siemons, Sebastiaan, Karel
  • Brinkert, Jacob

Abrégé

The present disclosure provides a nozzle for providing a gas outflow, the nozzle comprising: a main channel; the main channel opening into at least one flow restriction section at a downstream end of the main channel, each flow restriction section having a plurality of parallel vanes for creating a uniform gas flow; the at least one flow restriction section opening into a respective outflow section having an increasing cross-sectional area towards an open end thereof adapted to provide the gas outflow.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

59.

SILENCER FOR THERMAL CONDITIONING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

      
Numéro d'application EP2024056314
Numéro de publication 2024/208537
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-11
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Rezaeiha, Abdolrahim
  • Jacobs, Johannes, Henricus, Wilhelmus
  • Huang, Zhuangxiong
  • Feijts, Maurice, Wilhelmus, Leonardus, Hendricus
  • Verspaij, Jacobus, Johannus, Leonardus, Hendricus
  • Van De Meerendonk, Remco
  • Van De Wetering, Nick, Hendricus, Martinus
  • Vermeulen, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus

Abrégé

A silencer is configured to silence an acoustic wave in a thermal conditioning fluid in a thermal conditioning fluid duct and comprises an open inlet configured to be connected to the thermal conditioning fluid duct to be in fluid communication with the thermal conditioning fluid in the thermal conditioning fluid duct, a silencer housing comprising an inner cavity connected to the open inlet, a compliant member which divides the inner cavity into a thermal conditioning fluid cavity and a substantially closed gas cavity, wherein the thermal conditioning fluid cavity is connected to the inlet, an inlet duct configured to receive the thermal conditioning fluid, and an outlet duct wherein the silencer further comprises a plurality of parallel ducts each forming a fluid channel, the plurality of parallel ducts arranged in at least one of the inlet duct and the outlet duct.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • F01N 1/00 - Silencieux caractérisés par leur principe de fonctionnement
  • F16L 55/00 - Dispositifs ou accessoires à utiliser avec, ou en liaison avec, les tuyaux ou les systèmes de tuyaux
  • F16L 55/027 - Absorbeurs d'énergie; Absorbeurs de bruit Étranglements

60.

OVERLAY METROLOGY BASED ON A FRINGE PATTERN

      
Numéro d'application EP2024056740
Numéro de publication 2024/208554
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-13
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Huisman, Simon, Reinald
  • Goorden, Sebastianus, Adrianus
  • Alpeggiani, Filippo

Abrégé

Measuring overlay using a microscope based sensor is described. This provides the ability to measure alignment and overlay with a single system, among other advantages. The signal from the sensor is an intensity modulated fringe pattern (e.g., an interference pattern). The sensor is configured to generate the intensity modulated fringe pattern based on diffracted radiation received from a first metrology mark in a first layer of a patterned substrate and a second metrology mark in a second layer of the patterned substrate. The intensity modulated fringe pattern is filtered for an expected fringe period. An amplitude, phase, and/or other parameters of fringes of the filtered fringe pattern are used to determine an overlay value.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

61.

SILENCER AND LITHOGRAPHIC APPARATUS THERMAL CONDITIONING SYSTEM

      
Numéro d'application EP2024056996
Numéro de publication 2024/208565
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-15
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Rezaeiha, Abdolrahim
  • Huang, Zhuangxiong
  • Jacobs, Johannes, Henricus, Wilhelmus
  • Feijts, Maurice, Wilhelmus, Leonardus, Hendricus

Abrégé

A silencer is configured to silence an acoustic wave in a thermal conditioning fluid at a target frequency. The silencer comprises an open inlet to be connected to a thermal conditioning fluid duct to be in fluid communication with the thermal conditioning fluid in the duct, a closed end to reflect the acoustic wave in the thermal conditioning fluid, and a silencer duct forming a thermal conditioning fluid passage therebetween. The silencer is configured to silence the acoustic wave. The silencer duct comprises a three dimensional shape configured to provide at least one revolution in the thermal conditioning fluid passage The silencer duct comprises a viscoelastic material.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • F16L 55/027 - Absorbeurs d'énergie; Absorbeurs de bruit Étranglements

62.

INTERNALLY-COOLED ACTUATOR COIL

      
Numéro d'application EP2024057825
Numéro de publication 2024/208613
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-22
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Versteijlen, Joost

Abrégé

The invention provides a coil to be fluid-cooled for use in electromagnetic actuators of lithography apparatuses, the coil comprising: - a coil, formed of a plurality of electrically-insulated flat wire coil conductors and configured to conduct an electric current to generate an electromagnetic field during use, and - at least one cooling fluid channel in heat-conducting contact with the coil, for guiding a flow of cooling fluid to withdraw heat from the coil, characterized in that, the cooling fluid channel is provided across the coil, crossing through multiple of the coil conductors.

Classes IPC  ?

  • H02K 3/24 - Enroulements caractérisés par la configuration, la forme ou le genre de construction du conducteur, p.ex. avec des conducteurs en barre avec des canaux ou des conduits pour un agent de refroidissement entre les conducteurs
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

63.

EUV-TRANSMISSIVE BARRIER

      
Numéro d'application EP2024058772
Numéro de publication 2024/208766
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-29
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van Gestel, Dries, Els, Victor
  • De Graaf, Dennis

Abrégé

A method of assembling an EUV-transmissive barrier, the EUV-transmissive barrier comprising: a film assembly and a frame. The film assembly comprises a film under tensile stress and a border extending about the perimeter of the film. The method comprises: subjecting the border to a force and/orsubjecting the frame to a force, mating the border and the frame with glue being provided between the border and the frame, curing the glue, and relaxing the force or forces.

Classes IPC  ?

  • G03F 1/62 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

64.

A METHOD OF MONITORING A MEASUREMENT RECIPE AND ASSOCIATED METROLOGY METHODS AND APPARATUSES

      
Numéro d'application 18575518
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-10
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Bottegal, Giulio
  • Jongen, Martijn

Abrégé

Disclosed is a method of determining a reliability metric describing a reliability of metrology signal and/or a parameter of interest value derived therefrom and associated apparatuses. The method comprises obtaining a trained inference model for inferring a value for a parameter of interest from a measurement signal and one or more measurement signals and/or respective one or more values of a parameter of interest derived therefrom using said trained inference model. At least one reliability metric value is determined for the one or more measurement signals and/or respective one or more values of a parameter of interest, the reliability metric describing a reliability of one or more measurement signals and/or respective one or more values of a parameter of interest with respect to an accurate prediction space associated with the trained inference model.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

65.

APPARATUS AND METHOD FOR PREPARING AND CLEANING A COMPONENT

      
Numéro d'application 18578780
Statut En instance
Date de dépôt 2022-07-08
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Heijmans, Lucas Christiaan Johan
  • Dehner, Imre Rudolf Richard
  • Lafarre, Raymond Wilhelmus Louis
  • Ottens, Cornelis Christiaan
  • Van De Kerkhof, Marcus Adrianus
  • Nikipelov, Andrey
  • Vanotterdijk, Dennis
  • Smulders, Edwin Johannes Theodorus
  • Yakunin, Andrei Mikhailovich
  • Salmaso, Guido
  • Voordeckers, Luc
  • Ande, Chaitanya Krishna
  • Coenen, Martinus Jacobus Johannes

Abrégé

An apparatus for cleaning a component for use in a lithographic apparatus, the apparatus including at least one cleaning module or a plurality of cleaning modules, wherein the at least one cleaning module or the plurality of cleaning modules include a plurality of cleaning mechanisms, and wherein the plurality of cleaning mechanisms include: at least one preparing mechanism for reducing adhesion of the particles to the component and at least one removing mechanism for removing particles from the component, or a plurality of removing mechanisms for removing particles from the component.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 1/62 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation

66.

DETECTOR INSPECTION DEVICE, DETECTOR ASSEMBLY, DETECTOR ARRAY, APPARATUS, AND METHOD

      
Numéro d'application 18743049
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-13
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Steenstra, Herre Tjerk
  • Wieland, Marco Jan-Jaco
  • Looije, Alexius Otto
  • Van Leeuwen, Richard Michel
  • Visser, Erwin Robert Alexander
  • Rodrigues Mansano, Andre Luis
  • Van T Veen, Gretchen Renée
  • Seekles, Duije
  • Marissen, Roelof Albert

Abrégé

The embodiments of the present disclosure provides a detector inspection device for interrogating at least part of a detector comprised in a charged particle-optical assessment apparatus, the detector inspection device comprising: a coupler configured to be positioned proximate to a detector element of a detector; and a device controller configured to apply a stimulating signal to the coupler to stimulate a response signal in the detector for interrogating at least part of the detector.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/244 - Détecteurs; Composants ou circuits associés
  • H01J 37/09 - Diaphragmes; Ecrans associés aux dispositifs électronoptiques ou ionoptiques; Compensation des champs perturbateurs

67.

CHARGED PARTICLE DEVICE, CHARGED PARTICLE ASSESSMENT APPARATUS, MEASURING METHOD, AND MONITORING METHOD

      
Numéro d'application 18748758
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-20
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Ren, Yan
  • Scotuzzi, Marijke
  • Mangnus, Albertus Victor Gerardus
  • Smakman, Erwin Paul

Abrégé

There is provided a charged particle device for a charged particle inspection apparatus for projecting an array of sub-beams towards a sample, the charged particle device comprising: a charged particle optical element and a detector. The charged particle optical element has an up-beam surface having a plurality of openings to generate an array of sub-beams from a charged particle beam. In the charged particle optical element are defined: sub-beam apertures and monitoring apertures. The sub-beam aperture extend through the charged particle element for paths of the array of sub-beams towards a sample. The monitoring aperture extends through the charged particle element. The detector is in the monitoring aperture. At least part of the detector is down-beam of the up-beam surface. The detector measures a parameter of a portion of the charged particle beam incident on the detector.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/244 - Détecteurs; Composants ou circuits associés
  • H01J 37/10 - Lentilles
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

68.

COVER RING, SUBSTRATE SUPPORT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

      
Numéro d'application EP2024054926
Numéro de publication 2024/208491
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-27
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Kramer, Gijs
  • Bijvoet, Dirk-Jan
  • Vermeer, Adrianus Johannes Petrus Maria
  • Hanegraaf, Roland, Petrus, Hendrikus
  • Van Der Vorst, Godefridus, Walterus, Henrica
  • Fennis, Freek Hendricus Gerardus
  • Bogaart, Erik, Willem

Abrégé

Disclosed herein is a cover ring for use in a substrate support, the cover ring comprising: a flexible structure with an opening for receiving a substrate; an enclosed region within the cover ring; and a fluid conduit configured provide fluid to and/or receive fluid from the enclosed region; wherein the flexible structure is configured to change between a first state and a second state in response to a fluid flow into, or a fluid flow out of, the enclosed region; and in the first state the diameter of the opening is larger than in the second state.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces

69.

FLUID HANDLING SYSTEM AND METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICES

      
Numéro d'application EP2024055657
Numéro de publication 2024/208512
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-05
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van Der Net, Antonius, Johannus
  • Gerritzen, Justin, Johannes, Hermanus
  • Bloks, Ruud, Hendrikus, Martinus, Johannes
  • Jovanovic, Milena
  • Nayak Kallarbail, Shruthi
  • Gattobigio, Giovanni, Luca

Abrégé

A fluid handling system for a lithographic system, comprising: a liquid supply configured to supply an immersion liquid to fill at least a portion of an immersion space between a substrate and a projection system of the lithographic system, wherein the projection system is configured project a patterned radiation beam onto the substrate; a gas supply configured to generate a gas jet for confining the immersion liquid within the immersion space, wherein the gas jet comprises a medium; and an evacuation system comprising an evacuation passage, wherein the evacuation system is configured to draw a two- phase fluid comprising the medium and the immersion liquid into the evacuation passage, and the two-phase fluid comprises a gas phase and a liquid phase; a recycling system configured to receive the two-phase fluid from the evacuation passage, and to extract the medium from the two-phase fluid as a product fluid for further use.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

70.

METHOD OF PREDICTING PERFORMANCE OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS, CALIBRATION OF LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD

      
Numéro d'application EP2024055740
Numéro de publication 2024/208515
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-05
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Ercisli, Hasret
  • Doban, Alina-Ionela

Abrégé

Disclosed is a method of predicting performance of a lithographic apparatus. The method comprises: providing calibration data relating to a plurality of fields that have been exposed by the lithographic apparatus on one or more substrates, wherein a field exposure time or a related parameter is varied for at least two said fields of said plurality of fields; generating a performance model based on the calibration data; and using the performance model to determine a set of parameter of interest data for a first plurality of product fields based at least upon field exposure time data describing field exposure times or a related parameter for said plurality of product fields.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique

71.

METHOD AND SYSTEM FOR CONTEXT AWARE OVERLAY ADJUSTMENT

      
Numéro d'application EP2024056110
Numéro de publication 2024/208534
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-07
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Fu, Jiyou
  • Zhang, Chenyu

Abrégé

Described herein are systems and methods for determining overlay between features of a pattern. The method includes obtaining a representation of an image having multiple features. A context area of the image that does not contain any target features defined in a corresponding design layout is determined and an overlay of the features is determined based on a characteristic of the context area. The overlay is compared with an initial overlay determined using another process based on a non-context area of the image. The initial overlay is then adjusted or "fine-tuned" by adjusting parameters of the other process based on the comparison result.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

72.

SILENCER FOR THERMAL CONDITIONING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

      
Numéro d'application EP2024056118
Numéro de publication 2024/208535
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-08
Date de publication 2024-10-10
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Rezaeiha, Abdolrahim
  • Huang, Zhuangxiong
  • Jacobs, Johannes, Henricus, Wilhelmus
  • Van De Meerendonk, Remco
  • Verspaij, Jacobus, Johannus, Leonardus, Hendricus
  • Feijts, Maurice, Wilhelmus, Leonardus, Hendricus
  • Van De Wetering, Nick, Hendricus, Martinus
  • Vermeulen, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus
  • Wijckmans, Maurice, Willem, Jozef, Etiënne
  • Klaver, Renatus, Gerardus

Abrégé

A silencer is configured to silence an acoustic wave in a thermal conditioning fluid in a thermal conditioning fluid duct. The silencer comprises an open inlet configured to be connected to the thermal conditioning fluid duct to be in fluid communication with the thermal conditioning fluid, a silencer housing comprising an inner cavity connected to the open inlet, a compliant member arranged in the inner cavity, wherein the compliant member divides the inner cavity into a thermal conditioning fluid cavity and a gas cavity, wherein the thermal conditioning fluid cavity is connected to the open inlet and wherein the gas cavity forms a substantially closed space, wherein the gas cavity comprises a plurality of gas channels extending in a direction substantially perpendicular to a surface of the compliant member facing the gas cavity.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • F16L 55/04 - Dispositifs amortisseurs de vibrations ou de pulsations dans les fluides
  • F16L 55/027 - Absorbeurs d'énergie; Absorbeurs de bruit Étranglements

73.

TWINSCAN NXT

      
Numéro de série 79408421
Statut En instance
Date de dépôt 2024-10-08
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

Semi-conductor lithographic machines, and their parts and fittings.

74.

TWINSCAN NXT

      
Numéro d'application 019087041
Statut En instance
Date de dépôt 2024-10-03
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

Semi-conductor lithographic machines, and their parts and fittings.

75.

CHARGED PARTICLE ASSESSMENT SYSTEM AND METHOD

      
Numéro d'application 18741204
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-12
Date de la première publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van Soest, Jurgen
  • Kuiper, Vincent Sylvester
  • Li, Yinglong

Abrégé

A charged particle assessment apparatus comprising: a charged particle beam device; an actuated sample stage; a hot component and a thermal compensator. The actuated sample stage is configured to hold a sample. The hot component is configured to operate such that, during operation, heat is radiated toward a sample held on the sample holder. The hot component is smaller than the sample. The thermal compensator is configured to heat the sample so as to reduce thermal gradients therein.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/20 - Moyens de support ou de mise en position de l'objet ou du matériau; Moyens de réglage de diaphragmes ou de lentilles associées au support
  • H01J 37/244 - Détecteurs; Composants ou circuits associés
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

76.

METHOD AND SYSTEM FOR ANOMALY-BASED DEFECT INSPECTION

      
Numéro d'application 18577684
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-03
Date de la première publication 2024-10-03
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Liang, Haoyi
  • Chen, Yani
  • Yang, Ming-Yang
  • Yang, Yang
  • Huang, Xiaoxia
  • Chen, Zhichao
  • Yu, Liangjiang
  • Wang, Zhe
  • Pu, Lingling

Abrégé

Systems and methods for detecting a defect on a sample include receiving a first image and a second image associated with the first image; determining, using a clustering technique, N first feature descriptor(s) for L first pixel(s) in the first image and M second feature descriptor(s) for L second pixel(s) in the second image, wherein each of the L first pixel(s) is co-located with one of the L second pixel(s), and L, M, and N are positive integers; determining K mapping probability between a first feature descriptor of the N first feature descriptor(s) and each of K second feature descriptor(s) of the M second feature descriptor(s), wherein K is a positive integer; and providing an output for determining whether there is existence of an abnormal pixel representing a candidate defect on the sample based on a determination that one of the K mapping probability does not exceed a threshold value.

Classes IPC  ?

  • G06T 7/00 - Analyse d'image
  • G01N 23/2251 - Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement [ondes ou particules], p.ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes , ou en mesurant l'émission secondaire de matériaux en utilisant des microsondes électroniques ou ioniques en utilisant des faisceaux d’électrons incidents, p.ex. la microscopie électronique à balayage [SEM]
  • G06T 7/73 - Détermination de la position ou de l'orientation des objets ou des caméras utilisant des procédés basés sur les caractéristiques

77.

A METHOD FOR MODELING METROLOGY DATA OVER A SUBSTRATE AREA AND ASSOCIATED APPARATUSES

      
Numéro d'application EP2024055096
Numéro de publication 2024/199865
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-28
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Brinkhof, Ralph
  • Hinterding, Stijn Oskar Matisse
  • Van Der Heijden, Thijs, Willem, Gerrit
  • Balcells Quintana, Oscar
  • Werkman, Roy
  • Nijhout, Olivier, Hubert, Janjaap

Abrégé

Disclosed is method for modeling metrology data over a substrate area relating to a substrate in a lithographic process. The method comprises obtaining first layer model data, said first layer model data relating to a first model fitted to first layer metrology data for exposure of a first layer on said substrate and second layer metrology data relating to a second layer on said substrate, said second layer being exposed subsequent to exposure of said first layer. Metrology content is subtracted from the second layer metrology data, said metrology content being obtained from said first layer model data or a component thereof and/or said first layer metrology data to obtain corrected second layer metrology data. A second model is fitted to said corrected second layer metrology data or a component thereof, said second model being different to said first model and an output model is determined from at least said second model, said output model being corrected for a model mismatch resultant from said first model and said second model.

Classes IPC  ?

  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique

78.

SUBSTRATE STORAGE MODULE AND METHOD

      
Numéro d'application EP2024055105
Numéro de publication 2024/199866
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-28
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Naikwad, Sanidhya, Sanjay
  • Van Gompel, Petrus, Albertus, Johannes, Francisca
  • Van Beuzekom, Aart, Adrianus
  • Van Baren, Martijn

Abrégé

A substrate storage module for use as an integral part of a lithographic apparatus comprising a controllable environment for protecting a plurality of substrates from ambient air. The substrate storage module comprises a plurality of substrate supports for receiving the substrates, and a vacuum system fluidly coupled to the plurality of substrate supports. The vacuum system is configured to individually clamp and release the substrates.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • H01L 21/673 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants utilisant des supports spécialement adaptés

79.

SYSTEM AND METHOD FOR TAILORING CHUCK STIFFNESS

      
Numéro d'application EP2024055482
Numéro de publication 2024/199892
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-01
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Chillara, Venkata, Siva, Chaithanya
  • Loganathan, Muthukumaran
  • Sorna, Matthew, Anthony

Abrégé

A lithographic apparatus that includes an illumination system, a patterning system, a projection system, and a reticle stage. The illumination system produces a beam of radiation. The patterning system imparts a pattern on the beam. The patterning system includes a reticle. The projection system projects the patterned beam on a substrate. The reticle stage includes a reticle clamp for supporting the reticle and a chuck for supporting the reticle clamp. The chuck includes a patterned internal structure. A portion of the patterned internal structure is an auxetic structure. The auxetic structure is thicker or thinner than other portions of the patterned internal structure.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • B29D 99/00 - Matière non prévue dans les autres groupes de la présente sous-classe

80.

GAS FLOW APPARATUS AND METHOD FOR EUV LIGHT SOURCE

      
Numéro d'application EP2024055928
Numéro de publication 2024/199928
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-06
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Hazra, Ayan
  • Ehyaei, Dana
  • Stewart Iv, John, Tom

Abrégé

A liner for a source vessel for extreme ultraviolet (EUV) light production includes a wall having an inner surface extending away from a collector end of the inner surface toward an intermediate focus end of the inner surface. The inner surface has an exhaust opening extending therethrough beginning at a distance D along the inner surface from the collector end toward the intermediate focus end and respective gas flow inlets disposed at respective locations, from near the collector end to near the distance D along the inner surface, wherein at least some of the gas flow inlets are configured to supply gas flow rates that vary with their respective location along the distance D to reduce deposition on the inner surface. A process or method of operating an EUV light source is also disclosed.

Classes IPC  ?

  • H05G 2/00 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

81.

IMAGE DISTORTION CORRECTION IN CHARGED PARTICLE INSPECTION

      
Numéro d'application 18577678
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-02
Date de la première publication 2024-10-03
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Liang, Haoyi
  • Chen, Zhichao
  • Pu, Lingling
  • Chang, Fang-Cheng
  • Yu, Liangjiang
  • Wang, Zhe

Abrégé

An improved systems and methods for correcting distortion of an inspection image are disclosed. An improved method for correcting distortion of an inspection image comprises acquiring an inspection image, aligning a plurality of patches of the inspection image based on a reference image corresponding to the inspection image, evaluating, by a machine learning model, alignments between each patch of the plurality of patches and a corresponding patch of the reference image, determining local alignment results for the plurality of patches of the inspection image based on a reference image corresponding to the inspection image, determining an alignment model based on the local alignment results, and correcting a distortion of the inspection image based on the alignment model.

Classes IPC  ?

  • G06T 5/80 - Correction géométrique
  • G06T 7/00 - Analyse d'image
  • G06T 7/33 - Détermination des paramètres de transformation pour l'alignement des images, c. à d. recalage des images utilisant des procédés basés sur les caractéristiques

82.

LITHOGRAPHY SYSTEM, SUBSTRATE SAG COMPENSATOR, AND METHOD

      
Numéro d'application 18578947
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-28
Date de la première publication 2024-10-03
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Van De Kerkhof, Marcus Adrianus

Abrégé

A system includes a support table having one or more protrusions and a pressure device. The one or more protrusions contact and support a substrate such that the substrate is suspended with respect to the support table. Sagging of the substrate when supported by the support table is based on a material and/or dimensions of the substrate. The pressure adjusts a pressure on a side of the substrate such that the sagging is reduced.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

83.

CHARGED-PARTICLE APPARATUS, MULTI-DEVICE APPARATUS, METHOD OF USING CHARGED-PARTICLE APPARATUS AND CONTROL METHOD

      
Numéro d'application 18742934
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-13
Date de la première publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Ren, Yan
  • Mangnus, Albertus Victor Gerardus
  • Scotuzzi, Marijke
  • Smakman, Erwin Paul

Abrégé

A charged-particle apparatus generates a plurality of sub-beams from a source beam of charged particles and direct the sub-beams downbeam toward a sample position. The charged-particle apparatus comprises a charged particle source, an aperture array, and a charged particle optical component. The charged-particle source comprises an emitter to emit a source beam of charged particles along a divergent path. The aperture array is positioned in the divergent path so the aperture array generates sub-beams from the source beam. The charged-particle-optical component acts on the source beam upbeam of the aperture array. The charged-particle-optical component comprises a multipole and/or a charged-particle lens. The multipole operates on the source beam to vary the position of the divergent path at the aperture array. The multipole may vary a cross-sectional shape of the divergent path at the aperture array. The charged-particle-optical lens compensates for variations in distance between the emitter and the aperture array.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
  • H01J 37/09 - Diaphragmes; Ecrans associés aux dispositifs électronoptiques ou ionoptiques; Compensation des champs perturbateurs
  • H01J 37/10 - Lentilles
  • H01J 37/244 - Détecteurs; Composants ou circuits associés
  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage

84.

SYSTEMS AND METHODS FOR THERMALLY STABLE MOUNTING OF OPTICAL COLUMNS

      
Numéro d'application 18415586
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-17
Date de la première publication 2024-10-03
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Winters, Jasper
  • Van Zwet, Erwin John
  • Van Der Lans, Marcus Johannes
  • De Jager, Pieter Willem Herman
  • Van De Ven, Emiel Anton

Abrégé

Systems and methods are disclosed for stabilizing an optical column. One system can include an optical column; a frame configured to support the optical column, the frame having a first coefficient of thermal expansion (CTE); and a subframe configured to be coupled to the optical column in at least two places by a first anchor and a second anchor to stabilize the optical column against a displacement or a rotation caused by thermal expansion in the frame or the optical column, the subframe having a second CTE lower than the first CTE.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

85.

METHOD AND APPARATUS FOR REPLACING GAS MIXTURE IN A GAS DISCHARGE CHAMBER

      
Numéro d'application IB2024052131
Numéro de publication 2024/201181
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-05
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire CYMER, LLC (USA)
Inventeur(s)
  • Chen, Siyu
  • Williams, Spencer, Ryan

Abrégé

A method of replacing a gas mixture in a gas discharge chamber in a light source includes determining a performance of the light source and/or gas discharge chamber based on one or more light source and/or gas discharge chamber performance metrics, determining a next refill pressure based on the determined performance and a current operating pressure of the gas discharge chamber, removing the gas mixture from the gas discharge chamber; and filling the gas discharge chamber with a replacement gas mixture to the determined next refill pressure. An apparatus for replacing the gas mixture is also disclosed.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/104 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation par commande du milieu actif, p.ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation dans des lasers à gaz
  • H01S 3/036 - Moyens pour obtenir ou maintenir la pression désirée du gaz à l'intérieur du tube, p.ex. au moyen d'un getter ou d'une réactivation; Moyens pour faire circuler le gaz, p.ex. pour uniformiser la pression à l'intérieur du tube
  • H01S 3/038 - Electrodes, p.ex. forme, configuration ou composition particulières
  • H01S 3/083 - Lasers en anneau
  • H01S 3/225 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plusieurs atomes comprenant un excimer ou un exciplex
  • H01S 3/23 - Agencement de plusieurs lasers non prévu dans les groupes , p.ex. agencement en série de deux milieux actifs séparés

86.

LASER CHAMBER HAVING DISCHARGE GAP WITH ACOUSTIC CONTROL

      
Numéro d'application IB2024052176
Numéro de publication 2024/201185
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-06
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire CYMER, LLC (USA)
Inventeur(s) Steiger, Thomas, Dickson

Abrégé

An apparatus for generating laser radiation from discharges in a gap, in a discharge chamber in which the discharges cause acoustic waves that reflect off of internal surfaces in the discharge chamber. The gap is angled with respect to the surfaces of structures in the chamber proximate to the gap so that acoustic waves reflected by those surfaces are less likely to reflect back to their origin and interfere with the operation of the laser especially at high repetition rates.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/038 - Electrodes, p.ex. forme, configuration ou composition particulières
  • H01S 3/0971 - Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage par décharge dans le gaz d'un laser à gaz excité transversalement
  • H01S 3/225 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plusieurs atomes comprenant un excimer ou un exciplex
  • H01S 3/083 - Lasers en anneau
  • H01S 3/23 - Agencement de plusieurs lasers non prévu dans les groupes , p.ex. agencement en série de deux milieux actifs séparés

87.

LASER CHAMBER PREIONIZER HAVING ACOUSTIC SCATTERING SURFACE

      
Numéro d'application IB2024052731
Numéro de publication 2024/201226
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-21
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire CYMER, LLC (USA)
Inventeur(s) Steiger, Thomas, Dickson

Abrégé

An apparatus for generating laser radiation from discharges in a discharge chamber in which the discharges produce acoustic waves which would disrupt operation of the apparatus at certain repetition rates if reflected back to their origin in which the surface of a preionizer tube positioned in the discharge chamber is provided with acoustic scattering features which scatter acoustic waves impinging on the preionizer tube surface. The preionizer tube may also be configured to have a transverse cross section that presents an angled surface to the region in which discharges are produced.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/03 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet - Détails de structure des tubes laser à décharge dans le gaz
  • H01S 3/038 - Electrodes, p.ex. forme, configuration ou composition particulières
  • H01S 3/0971 - Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage par décharge dans le gaz d'un laser à gaz excité transversalement
  • H01S 3/036 - Moyens pour obtenir ou maintenir la pression désirée du gaz à l'intérieur du tube, p.ex. au moyen d'un getter ou d'une réactivation; Moyens pour faire circuler le gaz, p.ex. pour uniformiser la pression à l'intérieur du tube
  • H01S 3/225 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plusieurs atomes comprenant un excimer ou un exciplex
  • H01S 3/23 - Agencement de plusieurs lasers non prévu dans les groupes , p.ex. agencement en série de deux milieux actifs séparés

88.

ELECTRICAL CONNECTOR

      
Numéro d'application EP2024053614
Numéro de publication 2024/199804
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-13
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Ruijl, Theo, Anjes, Maria
  • Bex, Jan
  • Raaymakers, Jeroen, Arnoldus, Leonardus, Johannes
  • Damen, Johannes, Wilhelmus
  • Van Duivenbode, Jeroen
  • Wullms, Pieter, Hubertus, Godefrida

Abrégé

An electrical connector comprising a block of non-conductive flexible polymer, an electrical conductor which extends through the non-conductive flexible polymer from a first end to a second end of the non- conductive flexible polymer block, and a conductive flexible polymer sleeve which extends around a side of the non-conductive flexible polymer block.

Classes IPC  ?

  • H01R 12/91 - Dispositifs de couplage autorisant un mouvement relatif entre les pièces de couplage, p.ex. un flottement ou un auto-alignement
  • H01R 13/631 - Moyens additionnels pour faciliter l'engagement ou la séparation des pièces de couplage, p.ex. moyens pour aligner ou guider, leviers, pression de gaz pour l'engagement uniquement
  • H01R 13/6599 - Matériau diélectrique rendu conducteur, p.ex. matière plastique recouverte de métal
  • H01R 13/6594 - Caractéristiques ou dispositions spécifiques de raccordement du blindage aux organes conducteurs le blindage étant monté sur une carte de circuits imprimés et raccordé à des organes conducteurs
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • H01R 12/71 - Dispositifs de couplage pour circuits imprimés rigides ou structures similaires
  • H01R 12/70 - Dispositifs de couplage
  • H01R 13/24 - Contacts pour coopération par aboutage montés élastiquement

89.

A METHOD FOR MODELING MEASUREMENT DATA OVER A SUBSTRATE AREA AND ASSOCIATED APPARATUSES

      
Numéro d'application EP2024055087
Numéro de publication 2024/199863
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-28
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Mayank, Mayank
  • Hulsebos, Edo, Maria
  • Rooze, Joost

Abrégé

Disclosed is a method for modeling measurement data over a substrate area and associated apparatus. The method comprises obtaining substrate measurement data describing spatial variation of a substrate parameter; and fitting a model to said substrate measurement data to obtain a fitted model; wherein said fitting step comprises regularizing the fitting using a plurality of regularization parameters, said plurality of regularization parameters having been individually optimized to penalize spatial components of said substrate measurement data in accordance with their effect on a parameter of interest.

Classes IPC  ?

  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

90.

GAS MIXTURE FOR HOLLOW CORE FIBER USED IN GENERATING BROADBAND RADIATION

      
Numéro d'application EP2024055089
Numéro de publication 2024/199864
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-28
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Bauerschmidt, Sebastian, Thomas
  • Teunissen, Paulus, Antonius, Andreas
  • Abdolvand, Amir

Abrégé

A hollow core fiber and source assembly for broadband generation, wherein a hollow core of the hollow core fiber is filled with a gas composition comprising a working gas. The fiber is configured to receive pulsed pump radiation at an input end of the hollow core fiber, the pulsed pump power having a pulse power exceeding an ionization threshold of the gas composition. The fiber is configured to confine and guide the pulsed pump radiation through the fiber such that it interacts with the working gas for generating broadband radiation through nonlinear broadening of the pulsed pump radiation. The gas composition comprises a hydrogen component which is less than 1% of the total gas composition in the hollow core fiber.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/35 - Optique non linéaire
  • G02F 1/365 - Optique non linéaire dans une structure de guide d'ondes optique

91.

ELECTRON-OPTICAL PLATE

      
Numéro d'application EP2024055111
Numéro de publication 2024/199867
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-28
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Looman, Bram, Albertus
  • De Langen, Johannes, Cornelis, Jacobus

Abrégé

The present disclosure relates to a charged particle-optical plate for a charged particle-optical device for projecting charged particle beams along beam paths to a sample location. The charged particle-optical plate comprises: a substrate having a crystalline structure with crystalline lines of symmetry; a plurality of channels configured for passage of a plurality of beam paths of a beam grid through the substrate; and a plurality of multipoles associated with respective channels, each multipole comprising a plurality of electrodes for the associated channel, wherein the electrodes are arranged such that geometrical lines of symmetry of the multipole are parallel to respective crystalline lines of symmetry of the crystalline structure.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/153 - Dispositions électronoptiques ou ionoptiques pour la correction de défauts d'images, p.ex. stigmateurs

92.

HEIGHT MEASUREMENT ERROR DETERMINATION

      
Numéro d'application EP2024055230
Numéro de publication 2024/199876
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-29
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Almasi, Attaallah

Abrégé

A method of determining a substrate height measurement error, the method comprising providing a laser beam that is modulated at a given frequency, the laser beam having a wavelength and a polarization, directing the modulated laser beam onto the substrate at an acute angle relative to a normal extending from the substrate, detecting a position of the modulated laser beam after it has been reflected from the substrate, using detection based upon the frequency of the modulation applied to the laser beam to measure a modulation of the detected position of the modulated laser beam, and determining the height measurement error based upon the measured modulation of the detected position of the modulated laser beam, wherein the wavelength or the polarization is modulated.

Classes IPC  ?

  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique

93.

A METHOD TO MONITOR THE CGI MODEL PERFORMANCE WITHOUT GROUND TRUTH INFORMATION

      
Numéro d'application EP2024055300
Numéro de publication 2024/199881
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-01
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Lin, Chenxi
  • Wang, Fuming

Abrégé

An apparatus to perform a method for detecting a change in computational model behavior is disclosed. The method comprises monitoring a contribution of a selected sample feature to a defective die probability evaluation over a time interval, determining whether the contribution of the selected sample feature exceeds a drift threshold in the time interval, and based on the determination that the drift threshold is exceeded, retraining the computational model.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

94.

ELECTROMAGNETIC MOTOR AND METHOD OF DETERMINING A POSITION DEPENDENT MOTOR CONSTANT FOR AN ELECTROMAGNETIC MOTOR

      
Numéro d'application EP2024055645
Numéro de publication 2024/199902
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-05
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Van De Ven, Maurice, Leonardus, Josephina
  • Heldens, Geert-Jan, Martin

Abrégé

The invention provides a method of determining a position dependent motor constant of an electromagnetic motor, the electromagnetic motor comprising a magnet assembly and a coil assembly that are configured to displace relative to each other in a direction of movement, the method comprising: - causing a displacement of the magnet assembly relative to the coil assembly along a predetermined trajectory of interest in the direction of movement, at a substantially constant velocity; - applying a disturbance having a predetermined frequency to the electromagnetic motor, during the displacement of the magnet assembly relative to the coil assembly; - determining a position error of the magnet assembly relative to the coil assembly and an electromagnetic motor force, along the predetermined trajectory of interest; - determining a position dependent motor constant of the electromagnetic motor along the predetermined trajectory of interest, based on the determined position error and the electromagnetic motor force.

Classes IPC  ?

  • H02P 6/00 - Dispositions pour commander les moteurs synchrones ou les autres moteurs dynamo-électriques utilisant des commutateurs électroniques en fonction de la position du rotor; Commutateurs électroniques à cet effet
  • H02P 23/14 - Estimation ou adaptation des paramètres des moteurs, p.ex. constante de temps du rotor, flux, vitesse, courant ou tension
  • H02P 25/06 - Moteurs linéaires

95.

SHIELD ARRANGEMENT FOR ELECTRON-OPTICAL MODULE

      
Numéro d'application EP2024056075
Numéro de publication 2024/199942
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-07
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Koning, Johan, Joost

Abrégé

A charged particle-optical module for a charged particle-optical device configured to direct a charged particle beam along a beam path towards a sample location, the charged particle-optical module comprising: a stack comprising charged particle-optical plates arranged across the beam path and configured to operate on the charged particle beam; and a shield arrangement comprising an upbeam electrostatic shield arranged across the beam path upbeam of the charged particle-optical plates; a downbeam electrostatic shield arranged across the beam path downbeam of the charged particle- optical plates; and at least one side shield located to a side of the charged particle-optical plates in a direction in a plane across the beam path; wherein the shield arrangement is configured to deter electrical breakdown between the charged particle-optical module and a component external to the charged particle-optical module and/ or to confine an electrostatic field within the charged particle-optical module, the electrostatic field for example generated in operation of the charged particle-optical plates on the charged particle beam along the beam path.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/02 - Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement - Détails
  • H01J 37/09 - Diaphragmes; Ecrans associés aux dispositifs électronoptiques ou ionoptiques; Compensation des champs perturbateurs

96.

SYSTEM AND METHOD FOR CALIBRATION OF INSPECTION TOOLS

      
Numéro d'application EP2024056106
Numéro de publication 2024/199945
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-03-07
Date de publication 2024-10-03
Propriétaire ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s) Wang, Yongxin

Abrégé

Systems, apparatuses, and methods for calibration of inspection tools. Systems, apparatuses, and methods may include, after a replaceable reference sample is affixed to a stage of an imaging system: calibrating a parameter of the imaging system based on a scan of the reference sample by the imaging system; and after calibrating the parameter of the imaging system, scanning a sample, 5 wherein the sample comprises a duplicate of a feature of the reference sample.

Classes IPC  ?

  • H01J 37/28 - Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions avec faisceaux de balayage
  • G01N 23/00 - Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement [ondes ou particules], p.ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes , ou

97.

HMI HERMES MICROVISION

      
Numéro de série 79408422
Statut En instance
Date de dépôt 2024-09-26
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Classes de Nice  ?
  • 07 - Machines et machines-outils
  • 09 - Appareils et instruments scientifiques et électriques
  • 37 - Services de construction; extraction minière; installation et réparation
  • 42 - Services scientifiques, technologiques et industriels, recherche et conception

Produits et services

Semiconductor manufacturing machines and semiconductor machinery. Electronic imaging hardware and software in the field of inspection of semiconductor materials, namely, semiconductor wafers and reticles; computer hardware and software for inspection of semiconductor materials, namely, semiconductor wafers and reticles. Machinery maintenance and repair in the field of semiconductor industry; installation of semiconductor machines and semiconductor instruments and apparatus; installation of machines, instruments and apparatus for the manufacture of semiconductors. Technology supervision and inspection in the field of quality control of semiconductor wafers and reticles.

98.

LITHOGRAPHIC APPARATUS, LOCKING DEVICE, AND METHOD

      
Numéro d'application 18578151
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-28
Date de la première publication 2024-09-26
Propriétaire ASML Holding N.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Burbank, Daniel Nathan
  • Dine, Andi

Abrégé

A lithographic apparatus includes an illumination system to illuminate a pattern of a patterning device, a projection system to project an image of the pattern onto a substrate, a movable stage to support the patterning device or the substrate, a slotted object, and a locking device (700) to prevent a motion of the movable stage. The locking device comprises an actuator (702) and a wheel device (704) comprising a ring feature (708) and coupled to the actuator. The actuator rotates the wheel device about a rotation axis (706). The ring feature has a width (710) defined parallel to the rotation axis. The width is variable with respect to azimuthal direction of the wheel device. The ring feature engages a slot of the slotted object. The rotating adjusts the width of the ring feature within the slot such that a relative motion between the device and the slotted object is prevented.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet

99.

METROLOGY SYSTEMS WITH PHASED ARRAYS FOR CONTAMINANT DETECTION AND MICROSCOPY

      
Numéro d'application 18578168
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-28
Date de la première publication 2024-09-26
Propriétaire ASML Holding N.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Swillam, Mohamed
  • Guo, Wei
  • Roux, Stephen

Abrégé

A metrology system includes a radiation source (708), a phased array (722a,b;724a,b;726;734), a detector, and a comparator. The phased array includes optical elements (706), waveguides (704), and phase modulators (702). The phased array generates a beam of radiation and directs the beam toward a surface of an object. The optical elements radiate radiation waves. The waveguides guide radiation from the radiation source to the optical elements. The phase modulators adjust phases of the radiation waves such that the radiation waves combine to form the beam. The detector receives radiation scattered from the surface and generates a detection signal based on the received radiation. The comparator analyzes the detection signal and determines a location of a defect on the surface based on the analyzing.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G01N 21/956 - Inspection de motifs sur la surface d'objets
  • G02F 1/295 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire pour la commande de la position ou de la direction des rayons lumineux, c. à d. déflexion dans une structure de guide d'ondes optique

100.

METROLOGY SYSTEM AND METHOD FOR DETERMINING A CHARACTERISTIC OF ONE OR MORE STRUCTURES ON A SUBSTRATE

      
Numéro d'application 18650790
Statut En instance
Date de dépôt 2024-04-30
Date de la première publication 2024-09-26
Propriétaire ASML Netherlands B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Tinnemans, Patricius Aloysius Jacobus
  • Den Boef, Arie Jeffrey
  • Koolen, Armand Eugene Albert
  • Pandey, Nitesh
  • Tenner, Vasco Tomas
  • Coene, Willem Marie Julia Marcel
  • Warnaar, Patrick

Abrégé

Described is a metrology system for determining a characteristic of interest relating to at least one structure on a substrate, and associated method. The metrology system comprises a processor being configured to computationally determine phase and amplitude information from a detected characteristic of scattered radiation having been reflected or scattered by the at least one structure as a result of illumination of said at least one structure with illumination radiation in a measurement acquisition, and use the determined phase and amplitude to determine the characteristic of interest.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G01B 11/02 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur
  • G01B 11/06 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur pour mesurer l'épaisseur
  • G01N 21/47 - Dispersion, c. à d. réflexion diffuse
  • G01N 21/95 - Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
  • G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
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