ASML Holding N.V.

Pays‑Bas

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Brevet
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Propriétaire / Filiale
[Owner] ASML Holding N.V. 3
ASML Netherlands B.V. 3
Classe IPC
G03F 1/62 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation 2
G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet 2
G03F 1/00 - Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation 1
G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation 1
Statut
En Instance 2
Enregistré / En vigueur 1
Résultats pour  brevets

1.

PELLICLE AND PELLICLE ASSEMBLY

      
Numéro de document 03008477
Statut En instance
Date de dépôt 2016-12-02
Date de disponibilité au public 2017-06-22
Propriétaire
  • ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
  • ASML HOLDING N.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Vles, David Ferdinand
  • Abegg, Erik Achilles
  • Bendiksen, Aage
  • Brouns, Derk Servatius Gertruda
  • Govil, Pradeep K.
  • Janssen, Paul
  • Nasalevich, Maxim Aleksandrovich
  • Notenboom, Arnoud Willem
  • Peter, Maria
  • Van De Kerkhof, Marcus Adrianus
  • Van Der Zande, Willem Joan
  • Van Zwol, Pieter-Jan
  • Vermeulen, Johannes Petrus Martinus Bernardus
  • Voorthuijzen, Willem-Pieter
  • Wiley, James Norman

Abrégé

A pellicle suitable for use with a patterning device for a lithographic apparatus. The pellicle comprising at least one breakage region which is configured to preferentially break, during normal use in a lithographic apparatus, prior to breakage of remaining regions of the pellicle. At least one breakage region comprises a region of the pellicle which has a reduced thickness when compared to surrounding regions of the pellicle.

Classes IPC  ?

  • G03F 1/62 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
  • G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

2.

MASK ASSEMBLY

      
Numéro de document 03206173
Statut En instance
Date de dépôt 2015-11-16
Date de disponibilité au public 2016-05-26
Propriétaire
  • ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
  • ASML HOLDING N.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Kruizinga, Matthias
  • Jansen, Maarten Mathijs Marinus
  • Azeredo Lima, Jorge Manuel
  • Bogaart, Erik Willem
  • Brouns, Derk Servatius Gertruda
  • Bruijn, Marc
  • Bruls, Richard Joseph
  • Dekkers, Jeroen
  • Janssen, Paul
  • Kamali, Mohammad Reza
  • Kramer, Ronald Harm Gunther
  • Lansbergen, Robert Gabriel Maria
  • Leenders, Martinus Hendrikus Antonius
  • Lipson, Matthew
  • Loopstra, Erik Roelof
  • Lyons, Joseph H.
  • Roux, Stephen
  • Van Den Bosch, Gerrit
  • Van Den Heijkant, Sander
  • Van Der Graaf, Sandra
  • Van Der Meulen, Frits
  • Van Loo, Jerome Francois Sylvain Virgile
  • Verbrugge, Beatrijs Louise Marie-Joseph Katrien

Abrégé

A mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask assembly comprising a patterning device; and a pellicle frame configured to support a pellicle and mounted on the patterning device with a mount; wherein the mount is configured to suspend the pellicle frame relative to the patterning device such that there is a gap between the pellicle frame and the patterning device; and wherein the mount provides a releasably engageable attachment between the patterning device and the pellicle frame.

3.

MASK ASSEMBLY

      
Numéro de document 02968151
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-11-16
Date de disponibilité au public 2016-05-26
Date d'octroi 2024-01-16
Propriétaire
  • ASML HOLDING N.V. (Pays‑Bas)
  • ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
Inventeur(s)
  • Kruizinga, Matthias
  • Jansen, Maarten Mathijs Marinus
  • Azeredo Lima, Jorge Manuel
  • Bogaart, Erik Willem
  • Brouns, Derk, Servatius, Gertruda
  • Bruijn, Marc
  • Bruls, Richard Joseph
  • Dekkers, Jeroen
  • Janssen, Paul
  • Kamali, Mohammad Reza
  • Kramer, Ronald Harm Gunther
  • Lansbergen, Robert Gabriel Maria
  • Leenders, Martinus Hendrikus Antonius
  • Lipson, Matthew
  • Loopstra, Erik Roelof
  • Lyons, Joseph H.
  • Roux, Stephen
  • Van Den Bosch, Gerrit
  • Van Den Heijkant, Sander
  • Van Der Graaf, Sandra
  • Van Der Meulen, Frits
  • Van Loo, Jerome Francois Sylvain Virgile
  • Verbrugge, Beatrijs Louise Marie-Joseph Katrien

Abrégé

A mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask assembly comprising a patterning device; and a pellicle frame configured to support a pellicle and mounted on the patterning device with a mount; wherein the mount is configured to suspend the pellicle frame relative to the patterning device such that there is a gap between the pellicle frame and the patterning device; and wherein the mount provides a releasably engageable attachment between the patterning device and the pellicle frame.

Classes IPC  ?

  • G03F 1/62 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
  • G03F 1/00 - Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet