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Résultats pour
brevets
1.
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PELLICLE AND PELLICLE ASSEMBLY
Numéro de document |
03008477 |
Statut |
En instance |
Date de dépôt |
2016-12-02 |
Date de disponibilité au public |
2017-06-22 |
Propriétaire |
- ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
- ASML HOLDING N.V. (Pays‑Bas)
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Inventeur(s) |
- Vles, David Ferdinand
- Abegg, Erik Achilles
- Bendiksen, Aage
- Brouns, Derk Servatius Gertruda
- Govil, Pradeep K.
- Janssen, Paul
- Nasalevich, Maxim Aleksandrovich
- Notenboom, Arnoud Willem
- Peter, Maria
- Van De Kerkhof, Marcus Adrianus
- Van Der Zande, Willem Joan
- Van Zwol, Pieter-Jan
- Vermeulen, Johannes Petrus Martinus Bernardus
- Voorthuijzen, Willem-Pieter
- Wiley, James Norman
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Abrégé
A pellicle suitable for use with a patterning device for a lithographic apparatus. The pellicle comprising at least one breakage region which is configured to preferentially break, during normal use in a lithographic apparatus, prior to breakage of remaining regions of the pellicle. At least one breakage region comprises a region of the pellicle which has a reduced thickness when compared to surrounding regions of the pellicle.
Classes IPC ?
- G03F 1/62 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
- G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation
- G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
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2.
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MASK ASSEMBLY
Numéro de document |
03206173 |
Statut |
En instance |
Date de dépôt |
2015-11-16 |
Date de disponibilité au public |
2016-05-26 |
Propriétaire |
- ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
- ASML HOLDING N.V. (Pays‑Bas)
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Inventeur(s) |
- Kruizinga, Matthias
- Jansen, Maarten Mathijs Marinus
- Azeredo Lima, Jorge Manuel
- Bogaart, Erik Willem
- Brouns, Derk Servatius Gertruda
- Bruijn, Marc
- Bruls, Richard Joseph
- Dekkers, Jeroen
- Janssen, Paul
- Kamali, Mohammad Reza
- Kramer, Ronald Harm Gunther
- Lansbergen, Robert Gabriel Maria
- Leenders, Martinus Hendrikus Antonius
- Lipson, Matthew
- Loopstra, Erik Roelof
- Lyons, Joseph H.
- Roux, Stephen
- Van Den Bosch, Gerrit
- Van Den Heijkant, Sander
- Van Der Graaf, Sandra
- Van Der Meulen, Frits
- Van Loo, Jerome Francois Sylvain Virgile
- Verbrugge, Beatrijs Louise Marie-Joseph Katrien
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Abrégé
A mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask assembly comprising a patterning device; and a pellicle frame configured to support a pellicle and mounted on the patterning device with a mount; wherein the mount is configured to suspend the pellicle frame relative to the patterning device such that there is a gap between the pellicle frame and the patterning device; and wherein the mount provides a releasably engageable attachment between the patterning device and the pellicle frame.
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3.
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MASK ASSEMBLY
Numéro de document |
02968151 |
Statut |
Délivré - en vigueur |
Date de dépôt |
2015-11-16 |
Date de disponibilité au public |
2016-05-26 |
Date d'octroi |
2024-01-16 |
Propriétaire |
- ASML HOLDING N.V. (Pays‑Bas)
- ASML NETHERLANDS B.V. (Pays‑Bas)
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Inventeur(s) |
- Kruizinga, Matthias
- Jansen, Maarten Mathijs Marinus
- Azeredo Lima, Jorge Manuel
- Bogaart, Erik Willem
- Brouns, Derk, Servatius, Gertruda
- Bruijn, Marc
- Bruls, Richard Joseph
- Dekkers, Jeroen
- Janssen, Paul
- Kamali, Mohammad Reza
- Kramer, Ronald Harm Gunther
- Lansbergen, Robert Gabriel Maria
- Leenders, Martinus Hendrikus Antonius
- Lipson, Matthew
- Loopstra, Erik Roelof
- Lyons, Joseph H.
- Roux, Stephen
- Van Den Bosch, Gerrit
- Van Den Heijkant, Sander
- Van Der Graaf, Sandra
- Van Der Meulen, Frits
- Van Loo, Jerome Francois Sylvain Virgile
- Verbrugge, Beatrijs Louise Marie-Joseph Katrien
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Abrégé
A mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask assembly comprising a patterning device; and a pellicle frame configured to support a pellicle and mounted on the patterning device with a mount; wherein the mount is configured to suspend the pellicle frame relative to the patterning device such that there is a gap between the pellicle frame and the patterning device; and wherein the mount provides a releasably engageable attachment between the patterning device and the pellicle frame.
Classes IPC ?
- G03F 1/62 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
- G03F 1/00 - Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
- G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
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